CZ200628A3 - Zpusob anodizování anodových teles odvozených z kovu na elektrody elektronek a elektrolyt pro tentoúcel - Google Patents
Zpusob anodizování anodových teles odvozených z kovu na elektrody elektronek a elektrolyt pro tentoúcel Download PDFInfo
- Publication number
- CZ200628A3 CZ200628A3 CZ20060028A CZ200628A CZ200628A3 CZ 200628 A3 CZ200628 A3 CZ 200628A3 CZ 20060028 A CZ20060028 A CZ 20060028A CZ 200628 A CZ200628 A CZ 200628A CZ 200628 A3 CZ200628 A3 CZ 200628A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- anode
- electrolyte
- anodizing
- weight
- capacitor
- Prior art date
Links
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000007743 anodising Methods 0.000 title claims description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 81
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical group CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 claims description 11
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 claims description 11
- XEMGKPJCGOHRNU-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-1-ethoxyethanol Chemical compound CCOC(O)CN(C)C XEMGKPJCGOHRNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical group NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N N-ethyldiethanolamine Chemical compound OCCN(CC)CCO AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 13
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 5
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical class COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 3
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- -1 4-butane-4-lactone Chemical compound 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000678 Elektron (alloy) Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012457 nonaqueous media Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229940068886 polyethylene glycol 300 Drugs 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
- H01G9/0032—Processes of manufacture formation of the dielectric layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
- C25D11/08—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/26—Anodisation of refractory metals or alloys based thereon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
Roztok elektrolytu pro anodizování kovu a kondenzátor, který obsahuje anodizovaný kov. Elektrolyt obsahuje více nez 5 % hmotnostních a méne nez 30 %hmotnostních vody; 0,1 az 20 % hmotnostních ionogenu a aprotické polární rozpoustedlo. Ionogen obsahuje kyselinu fosforecnou a alkanolamin v mnozstvía pomeru dostacujícím pro udrzení pH 4 az 9.
Description
Způsob anodizování anodových těles odvozených z kovu na elektrody elektronek a elektrolyt pro tento účel
Oblast techniky
Tento vynález se týká elektrolytu pro anodizování kovů na elektrody elektronek (dále jen elektronkových kovů) a způsobu jeho použití.
Dosavadní stav techniky
Zavedením tantalových „mokrých kondenzátorů ze slinutých práškových výlisků ve čtyřicátých letech minulého století se použití vodných anodizačních roztoků kyseliny fosforečné, pracujících při 80 až 90 °C, rychle stalo průmyslovým standardem. Tyto roztoky jsou zejména vhodné pro anodizování anodových těles z tantalu, vyrobených práškovou metalurgií, které jsou základem těchto kondenzátorů. Anodizování kyselinou fosforečnou poskytuje dielektrickým filmům mimořádné vlastnosti. Je známo, že přítomnost fosforečnanu v dielektriku anodického oxidu, z anodizačniho roztoku, značně snižuje pohyblivost kyslíku napříč oxidem. Snížená pohyblivost minimalizuje migraci kyslíku do substrátu a výsledkem je dielektrikum stabilnější než dielektrikum, které se docílí v nepřítomnosti fosforečnanu. Vodné ethylenglykolové roztoky zředěné kyseliny fosforečné, obsahující 10 až 60 % ethylenglykolu, nahradily kolem roku 1960 vodnou kyselinu fosforečnou pro anodizování práškovou metalurgií vyrobených tantalových anodových těles kondenzátorů, zejména při vyšších anodizačních napětích. Zlepšení dielektrických vlastností se dosahuje přítomností ethylenglykolu v anodizačním roztoku.
• t ♦ ··· • · · 9 • ·
9 ·
Působení ethylenglykolu na vznik mimořádné dielektrické jakosti se jeví jako zcela komplexní. Přítomnost ethylenglykolu může modifikovat teplotu varu elektrolytu, v závislostí na teplotní odezvě elektrolytu a napětí elektrolytu.
(neboli analýza na tantalu
Hmotnostní přeskokové sekundárních iontů které narůstají měrný odpor rovněž mezní spektrometrie .SIMS) anodických filmů, ve vodném roztoku ethylenglykolu/zředěné kyseliny fosforečné, ukazuje na přítomnost uhlíku v těchto filmech. Obtíže, se kterými se setkávala analýza anodických oxidových filmů, dosud zabránily, aby byly identifikovány typy uhlíku, přítomné ve vytvořených glykol/fosforečnanových filmech. Uhlík může být přítomen jako ester glykolu a kyseliny fosforečné, oxidační produkt glykolu, například štSavelan, mravenčnan nebo uhličitan nebo jako nějaký ještě nepředpokládaný typ. Velká stálost začleněného uhlíku během tepelné úpravy při teplotách od 250 °C do 450 °C výrazně naznačuje, že začleněný typ je uhličitan. Definitivnější odpověď čeká na citlivější metody analýzy oxidového filmu. Druhý anodizační krok typicky pokračuje tepelnou úpravou pro další zlepšení stálosti oxidu.
U.S. patent č. 5 716 511 popisuje způsob a elektrolyt pro přípravu anodických filmů na tantalu a jiných tělesech z elektronkových kovů, jehož smyslem je minimalizovat počet závad ve vytvářených dielektrických filmech. Tyto elektrolytu se obvykle používají při teplotách pod 50 °C. Pro tvorbu přijatelně homogenního anodického oxidu uvnitř tantalových, práškovou metalurgií zhotovených výlisků, je nezbytný minimální obsah vody v elektrolytu 30 %. To je ve shodě s elektrolyty, které obsahují ethylenglykol. Při obsahu vody pod přibližně 30 % probíhá anodizování podle zjištění převážně blízko vnějších povrchů anodových těles a vnitřky těles, pokud se nepoužijí mimořádně dlouhé doby zdržení na napětí (+48 hodin), zůstávají z větší části neanodizované.
···· ·· 4444 ·· ·· ·· 4 4 4 ···· • · 4 4 · 4 4 4 4 4 • 4 · · · 4·····
4 4444 4444
4444 4 44 «4 44 44
U.S. patent č. 6 480 371 popisuje použití anodizačních roztoků s obsahem alkanolaminů a kyseliny fosforečné s cílem pokud možno maximalizovat anodizačni napětí a minimalizovat ukládání polyfosforečnanů do anodových těles. Zjistilo se, že použití směsí alkanolamin/kyselina fosforečná v kombinaci s vodnými polyethylenglykol(dimethyl)ethery, jak je popsáno v U.S. patentu č. 5 716 511, dává obzvláště stálé dielektrické filmy. Elektrolyty vzniklé z kombinace rozpouštědel podle U.S. patentu č. 5 716 511 a ionogenů podle U.S. patentu č. 6 480 371 i tak vyžadují minimální obsah vody přibližně 30 %, aby anodizování uvnitř těles anod, zhotovených práškovou metalurgií, bylo náležitě homogenní.
Britská patentová přihláška č. GB 2 168 383 popisuje způsob anodizování široké škály elektronkových kovů s použitím roztoků kyseliny fosforečné v polárním aprotickém rozpouštědlu nebo elektrolytu a ve vodě rozpustných fosforečnanů, které obsahují méně než 2 % vody. Pro četné elektronkové kovy dávají tyto elektrolyty nej lepší výsledky, když se pracuje při teplotě pod 3 0 °C a proudové hustotě 1 mA/cm2 nebo menší. U.S. patent č.
185 075 rozšiřuje obsah vody roztoku popsaného v GB 2 168 3 83 a pracovní teplotu do 50 °C nebo méně pro anodizování titanu s 99,997% čistotou. Ani rozpouštědla, popsaná v GB 2 168 383, ani obměny popsané v U.S. patentu č. 5 185 075, nejsou obecně vhodné pro použití pro anodizování anod vyrobených práškovou metalurgií. Při nízkém obsahu vody v elektrolytech podle těchto patentů nejsou vnitřní podíly anod roztoky fosforečná kyselina/aprotické polární rozpouštědlo anodizovány homogenně.
Je známo, že určitá polární aprotická rozpouštědla mají sklon vytvářet komplexy s protonizovanými aminy. Komplexy dávají nevodné roztoky, které jsou elektricky vodivější než roztoky obsahující stejný amin a kyselinu, ale v nevodném rozpouštědlu, které netvoří pevné komplexy s protonizovanými aminy. Příklady polárních aprotických rozpouštědel, která tvoří komplexy
99
9 99 9 999
9 9 9 9 9 9 999
9 999 99999 9
9 9999 999 9
9999 9 99 99 99 99
9« 9999
9999 s protonizovanými aminy, zahrnují N-alkylamidy, například dimethylformamid. Příklady polárních aprotických rozpouštědel, která mají značně nižší sklon tvořit komplexy s protonizovanými aminy, zahrnují N-methyl-2-pyrrolidon, N-ethyl-2-pyrrolidon, 4butano-4-lakton, propylen-karbonát, tetramethylmočovinu a sulfolan (tetramethylensulfon). Jeden člen ze skupiny rozpouštědel, která tvoří komplexy s protonizovanými aminy je Sklon dimethylsulfoxidu tvořit aminy je dostatečně byl použit jako složka náplňových elektrolytů pro elektrolytické kondenzátory. patent. č. 4 812 951 popisuje účinek náhrady dimethylsulfoxidu za ekvivalentní množství primárního kondenzátorového rozpouštědla. Výsledkem je snížení měrného odporu při nízké teplotě a minimalizace změny měrného odporu elektrolytu s měnícími se teplotami.
dimethylsulfoxid. s protonizovanými dimethylsulfoxid velký, pracovních komplexy takže nebo
U.S.
%
Stručný popis vynálezu
Předmětem tohoto vynálezu je poskytnutí elektrolytu pro anodizování elektronkových kovů a způsobů použití tohoto elektrolytu.
Dalším předmětem tohoto vynálezu je poskytnutí vodného elektrolytu, který je vhodný pro anodizování elektronkového kovu, aniž by se snížilo anodizování vnitřku anody.
Zvláštním znakem je schopnost anodizování při vyšším pH bez snížení účinnosti, během čehož se ještě začleňuje fosforečnan do vrstvy oxidu.
Dalším zvláštním znakem je schopnost začleňovat fosforečnan do vrstvy oxidu bez nadměrných úsad polyfosforečnanů.
Tyto a další výhody, jak by chápal běžný odborník, jsou poskytnuty v roztoku elektrolytu pro anodizování kovu a kondenzátoru, který anodizovaný kov obsahuje. Elektrolyt ·♦ »··· ·♦ »«·· ¥· ·· • · · • · ··· • · · · 4 • · · « ·¥ ·· obsahuje více než 5 % hmotnostních a méně než 30 % hmotnostních vody; 0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu a aprotické polární rozpouštědlo. Ionogen obsahuje kyselinu fosforečnou a alkanolamin v množstvích a poměrech, která dostačují pro udržení pH 4 až 9.
Další provedení je poskytnuto ve způsobu pro anodizování anody, který obsahuje kroky:
a) opatří se elektronkový kov;
b) elektronkový kov se umístí do elektrolytu obsahujícího:
více než 5 % hmotn. a méně než 30 % hmotn. vody;
0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu, který obsahuje: kyselinu fosforečnou; a alkanolamin, kde množství ionogenu je dostačující pro udržení pH 4 až 9; a aprotické polární rozpouštědlo; a
c) elektronkový kov se vystaví anodizačnímu napětí.
Ještě další provedení je poskytnuto v kondenzátoru, který se vytvoří způsobem:
a) opatří se elektronkový kov;
b) elektronkový kov se umístí do elektrolytu obsahujícího:
více než 5 % hmotn. a méně než 30 % hmotn. vody;
0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu, který obsahuje: kyselinu fosforečnou; a alkanolamin, kde množství ionogenu je dostačující pro udržení pH 4 až 9; a aprotické polární rozpouštědlo; a
c) elektronkový kov se vystaví anodizačnímu napětí, aby se vytvořila anodizovaná anoda;.a
d) vytvoří se kondenzátor s anodizovanou anodou.
44
4 44 4 444
4 44 4 44444
4 444 44444 4
4 4444 4444
44444 44 44 44 44 ·4·4
4444
Podrobný popis vynálezu
Vynálezci této přihlášky vyvinuli usilovným výzkumem vodný anodizační roztok, vhodný pro použití při pH 4 až 9, který obsahuje alkanolamin a aprotické polární rozpouštědlo. Vynálezci rovněž vyvinuli zlepšený způsob pro anodizování anody s použitím vynálezeckého anodizačního roztoku.
Pro určitá anodizační použití je žádoucí použít anodizační roztoky, které mají obsah vody pod přibližně 3 0 %. Toto je zejména případ anodizování vyšším napětím anod z niobu nebo suboxidu niobu, vyrobených práškovou metalurgií, nebo vyšším napětím anodizovaných tantalových anod, vyrobených práškovou metalurgií z velmi jemných tantalových prášků. Pro homogenní růst anodického oxidu v intersticiích práškovou metalurgií zhotovených anod je požadován vyšší obsah vody při použití tradičních organických rozpouštědel, používaných v anodizačních je ethylenglykol, diethylenglykol, tetraethylenglykol, dimethylether, atd.
Pro shora uvedená anodizační použití je obecně žádoucí provádět anodizování při teplotách pod 50 °C, aby se minimalizovala reaktivita a zavádění chyb do anodických oxidových filmů. Jak bylo uvedeno shora, je velmi obtížné získat růst homogenního anodického oxidu v tělesech práškovou metalurgií vyrobených anod s elektrolytem s obsahem vody pod 30 %, sklon vytvářet nehomogenní anodické oxidové filmy práškovou metalurgií se při nižších značně zvýrazňuje. Nežádoucí ukládání polyfosforečnanů do intersticií anodových těles vyrobených práškovou metalurgií se rovněž zhoršuje použitím elektrolytů s nízkým obsahem vody, obsahujících kyselinu fosforečnou jako ionogen a provozovaných při teplotách pod 80 °C.
elektrolytech, jako polyethylenglykol 300, v tělesech vyrobených anodizačních teplotách
44
4 4 4
4 4 4 4
4444
Zjistili jsme, že roztoky organických rozpouštědel s kyselinou fosforečnou lze nastavit na vyšší pH, tzn. na téměř neutrální oblast pH 4 až 9, která je použitelná pro anodizování substrátů citlivých na kyseliny, prostřednictvím přídavku určitých aminů do roztoku kyseliny fosforečné v organických rozpouštědlech, aniž by se srážely aminofosforečnanové soli. Výhodněji je pH 6 až 8.
Alkanolaminy, které podle našeho zjištění dávají nej lepší výsledky, zahrnují monoethanolamin, diethanolamin, triethanolamin, ethyldiethanolamin, diethylethanolamin, dimethylethanolamin a dimethyl(ethoxy)ethanolamin. Tato rozpouštědla zajištují odolnost vůči srážení při vysokých koncentracích s kyselinou fosforečnou v roztocích organických rozpouštědel. Nejvýhodnější jsou dimethylethanolamin a dimethyl(ethoxy)ethanolamin.
Kyselina fosforečná a alkanolamin jsou vzaty společně jako představitel ionogenu. Poměr množství kyseliny fosforečné k množství alkanolaminu se stanoví na základě hodnoty pH, která se má dosáhnout. Pro nižší měrný odpor se množství alkanolaminu v rámci omezení pH výhodně zvyšuje. Celkové množství ionogenu výhodně činí nejméně 0,1 až 20 % hmotnostních celkového elektrolytu. Výhodně tvoří ionogen 0,1 až 15 % hmotnostních celkového elektrolytu. V zejména výhodném provedení je kyselina fosforečná přítomna v množství 0,5 až 5 % hmotnostních, vztaženo na celkový elektrolyt. V zejména výhodném provedení je alkanolamin přítomen v množství 0,5 až 7 % hmotnostních, vztaženo na celkový elektrolyt.
Naneštěstí, roztoky kyseliny fosforečné a alkanolaminů, např. dimethylethanolaminu nebo dimethyl(ethoxy)ethanolaminu, ve většině organických rozpouštědel nejsou použitelné pro anodizování práškovou metalurgií vyrobených anodových výlisků, • 9 9 ·· · 9 9 9 · 99 9 99999
9 9 999 999999
9 9999 9999
9999 9 99 99 *9 99 není-li v roztoku přítomno minimálně 30 % vody. Pod 30% koncentraci vody dochází k růstu nehomogenního oxidu.
Zjistili jsme, že polární aprotická rozpouštědla, která mají silný sklon tvořit komplexy s protonizovanými aminy, například s nižšími N-alkylamidy (např. dimethylformamidem) a zejména dimethylsulfoxid, lze použít jako podíl rozpouštědla anodizačnich elektrolytů, které obsahují kyselinu fosforečnou v kombinaci s alkanolaminy jako ionogenem. Ionogeny jsou v těchto elektrolytech více ionizovány. Zvýšená ionizace má za následek větší vodivost v intersticiích práškovou metalurgií zhotovených anod. Tato větší ionizace ionogenu amin/kyselina fosforečná v intersticiích práškovou metalurgií zhotovených nebo jiných pórovitých anodových tělesech, anodizovaných v elektrolytu podle tohoto vynálezu, umožňuje zmenšení obsahu vody v elektrolytu na úrovně pod 30 %, které jsou při nejmenším potřebné s obvyklými anodizačními rozpouštědly, jako je ethylenglykol. Zjistili jsme, že obsah vody v elektrolytu by měl být větší než 5 %, aby se zajistila tvorba homogenního oxidu v intersticiích pórovitých anodových těles, například anodových těles zhotovených práškovou metalurgií.
Pro záměr tohoto vynálezu se obsah vody elektrolytu týká volné nebo nesloučené vody, nikoli obsahu vody jako sloučeniny kyseliny fosforečné v elektrolytu. Fosforečnou kyselinu lze považovat za chemickou sloučeninu oxidu fosforečného a vody. Například, jeden ekvivalent P2O5 lze sloučit se 3 ekvivalenty vody a získat 2 ekvivalenty kyseliny fosforečné H3PO4. Voda obsažená v molekulách kyseliny fosforečné se pro záměry tohoto vynálezu nepovažuje za vodu roztoku .
Anoda je elektronkový kov, výhodně vybraný z titanu, wolframu, chrómu, hliníku, zirkonu, hafnia, zinku, vanadu, niobu, tantalu, bismutu, antimonu a jejich směsí, slitin a sloučenin kovových skel. Tantal je nejvýhodnější anoda.
Φ· φφφφ ···'· • Φ φφ φφ φφφ φφφφ φ Φ ΦΦ Φ 9 9 9 99
9 9 φφφ ΦΦΦ··· • · ΦΦΦΦ ΦΦΦΦ
ΦΦΦΦΦ ΦΦ ·· ΦΦ ΦΦ
Katoda je vodivý kov opatřený polovodivým nebo pseudovodivým povlakem. Povlak může být oxid, nitrid, karbid nebo nitrid uhlíku. Vhodné katodové kovy zahrnují tantal, titan, nikl, iridium, platinu, palladium, zlato, stříbro, kobalt, molybden, ruthenium, mangan, wolfram, železo, zirkon, hafnium, rhodium, vanad, osmium a niob. Zejména výhodná katodová elektroda obsahuje film pórovitého oxidu ruthenia na titanovém substrátu.
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1
Připravil se roztok elektrolytu, který obsahoval: 180 gramů dimethylsulfoxidu; 30 gramů deionizované vody; 10 gramů 85% kyseliny fosforečné obsahující 1,5 gramu vody a 10 gramů dimethylethanolaminu. Nastavení pH na 6 až 7 se měřilo papírkem Hydrion. Měrný odpor, při 1 kHz, se naměřil 1,090 Qcm při 29 °C a zjistil se obsah vody 13,7 % hmotnostních.
Tento roztok elektrolytu se umístil do 250ml kádinky z nerezové oceli, která sloužila jak katodový přípoj.
Anoda se vyrobila z tantalového prášku H.C. Starek QR-12, s hmotností 1,91 gramu a ze skupiny anod s CV součinem 4200 /zC (tzn. jzF V) po anodizování na 150 V ve zředěné kyselině fosforečné při 80 °C se anodizovala na 50 V ve shora uvedeném roztoku při přibližně 25 °C proudem 20 μΑ. Anoda se udržovala na napětí 7,5 hodiny. Anoda se potom opláchla, usušila a kapacita se měřila ve vodném roztoku dihydrogenfosforečnanu draselného.
Zjistila se kapacita 100,5 iiF. Použitím Torrisiho rovnice ViTi = V2T2, kde V je anodizační napětí a T je teplota (°K) anodizačního elektrolytu lze vypočítat 80°C ekvivalent anodizačního napětí 50 V při 25 °C. Tak tedy pro tento příklad je 50 V při 25 °C ekvivalentní 42 V při 80 °C.
•9 »·««
9« 9999 . 99
9 99 9,999
9 9 9 9 9 9 999
W· 9 99 9 99999 9 9 9 9999 9999 • 9999 99 99 99 99
CV součin pro anodu po anodizování v elektrolytu podle tohoto vynálezu se potom vypočte jako 42 V násobeno 101,5 pF a součin je 4263 V. To dobře souhlasí s 4200 pro součin CV, jak se zjistilo pro tuto skupinu anod při anodizování kyselinou fosforečnou. Anoda byla uvnitř anodizována homogenně.
Příklad 2
Další anoda ze stejné skupiny jako v Příkladu 1 se anodizovala ve stejném elektrolytu jako v Příkladu 1. V tomto případu se anoda anodizovala na 125 V při 20 μΑ a při 25 °C. ' Anoda se udržovala na napětí 19 hodin. Anoda se potom opláchla, usušila a měřila se kapacita jako v Příkladu 1. Zjistila se kapacita 38,95 μΡ.
Opět s použitím Torrisiho rovnice je 125 V při 25 °C ekvivalentní 105,9 V při 80 °C. Součin CV se potom vypočítá jako součin 38,95 μΡ krát 105,9 V, což dává součin CV 4125. To dobře souhlasí s 4200 pro součin CV zjištěný pro tuto skupinu anod formovaných ve zředěné kyselině fosforečné. Anoda byla uvnitř anodizována homogenně.
Příklad 3
Elektrolyt s vyšší napětzovou způsobilostí se vytvořil následovně:. 900 ml dimethylsulfoxidu; 100 ml deionizované vody; 13,0 g 85% kyseliny fosforečné obsahující 2 g vody; a 10,5 g dimethylethanolaminu. pH se nastavovalo na hodnotu 6, měřeno
| papírkem Hydrion a obsah vody byl | . Měrný odpor, při 1 kHz, 10 % hmotnostních. | byl 2400 Qcm | při | 23 °C |
| Anoda ze | stejné skupiny jako v | Příkladech 1 | a | 2 se |
| anodizovala na | 24 0 V při 2 5 μΑ a při | 25 °C. Anoda | se | potom |
udržovala na napětí 21 hodin. Potom se anoda opláchla, usušila a zjistila se kapacita 20,2 μΡ. Opět, s použitím Torrisiho rovnice, je 240 V při 25 °C ekvivalentní 203,4 V.
*¥ »« ¥ · ··· · · * ¥ ¥ ¥ ¥¥ ¥ ¥*·¥¥ ¥ 9 9 9 ··¥*»¥ • ¥ ¥ ¥ · · ·¥·¥ ¥·¥·¥ ·♦ ·· ·¥ ·· ·¥ « ¥ ·«. ····
Násobením 20,2 gF krát 203,4 V se potom zjistí součin CV 4109 gF V. To výborně souhlasí se součinem CV 4200 pro tuto anodovou skupinu se zředěnou, 80 °C teplou kyselinou fosforečnou při anodizování na 150 V.
Součiny CV při různých napětích pro Příklady 1 až 3 jsou k dispozici v Tabulce 1.
| Napěťový ekvivalent pro 80°C | Kapacita | Součin CV |
| 42 V | 101,5 pF | 4263 pF V |
| 105,9 V | 38,95 pF | 4125 pF V |
| 203,4 V | 20,2 pF | 4109 pF V |
Příklad 4
Pro ilustrování funkčnosti nižších N-alkylamidů se připravil elektrolyt, který obsahoval 180 g dimethylformamidu; 20 g deionizované vody; 10 g 85% kyseliny fosforečné obsahující 1,5 g vody; a 13,3 g dimethyl(ethoxy)ethanolaminu. Naměřilo se pH 6
| až 7, měřeno | papírkem | Hydříon | Měrný | odpor, při 1 kHz, | byl | |
| 1250 Qcm při | 32 °C a obsah vody | byl 9,6 | % hmotnostních. | |||
| Anoda ze stejné | skupiny | j ako | v Příkladech 1 | a 3 | se | |
| anodizovala | na 50 V | proudem | 20 gA i | a při 21 °C. | Anoda | se |
| udržovala na | napětí po | dobu blízkou 5 | hodinám. Anoda | se potom |
opláchla v deionizované vodě, usušila a kapacita se měřila ve vodném roztoku dihydrogenfosforečnanu draselného. Hodnota naměřené kapacity byla 100,3 gF. S použitím Torrisiho rovnice je 50 V při 21 °C ekvivalentní 41,6 V při 80 °C. Násobením 100,3 gF krát 41,6 V se potom zjistí součin CV 4172 gF V. To opět dobře souhlasí s hodnotou CV 42 00 gF V na anodu pro tuto skupinu, jak se zjistilo anodizováním na 150 V při 80 °C ve zředěné kyselině fosforečné.
·« »· ··· ···· • « · · · · · ··« • · · · « ·?···· • · · · · · 9 9 9 9
9999 9 99 99 ·· ··
9b ··»· «· ··»··
Vynálezci tedy zjistili, že silný sklon nižších N-alkylamidů a dimethylsulfoxidu tvořit komplexy s protonizovanými aminy lze využít pro přípravu anodizačních elektrolytů, které obsahují nad 5 % a pod 30 % vody, které jsou použitelné pro anodizování pórovitých anodových těles, při teplotách pod 50 °C.
Vynález je popsán se zvláštním důrazem na výhodná provedení. Z poučení z tohoto dokumentu bude zajisté zřejmé, že lze uplatnit další provedení, změny a úpravy bez odchýlení se od záměru tohoto vynálezu, který je podrobněji objasněn v nárocích, připojených k dokumentu.
• •tt ·· · · · · · · ·· • · · · · · · • · · · · · · ' ” · · ········ ····· ·· ·· ·· ··
PATENTOVÉ NÁROKY
Claims (37)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Roztok elektrolytu pro anodizování kovu, vyznačující se tím, že obsahuje:více než 5 % hmotnostních a méně než 30 % hmotnostních vody; 0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu obsahujícího:kyselinu fosforečnou; a alkanolamin, kde množství ionogenu je dostačující pro udržení pH 4 až 9; a aprotické polární rozpouštědlo.
- 2. Elektrolyt podle nároku 1, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z monoethanolamínu, diethanolaminu, triethanolaminu, ethyldiethanolaminu, diethylethanolaminu, dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.
- 3. Elektrolyt podle nároku 2, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.
- 4. Elektrolyt podle nároku 1, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje N-alkylamid.
- 5. Elektrolyt podle nároku 4, vyznačující se tím, že se N-alkylamid vybere z dimethylformamidu a dimethylacetamidu.
- 6. Elektrolyt podle nároku 1, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje dimethylsulfoxid.
- 7. Elektrolyt podle nároku 1, vyznačující se tím, že obsahuje 0,1 až 15 % hmotnostních ionogenu.·· ···· ·· ···· ·· ··.. ·«·····«··14 .......···· • · ···· ···· ····· ·· ·· · · ··
- 8. Elektrolyt podle nároku 7, vyznačující se tím, že obsahuje 0,5 až 5 % hmotnostních kyseliny fosforečné.
- 9. Elektrolyt podle nároku 7, vyznačující se tím, že obsahuje 0,5 až 7 % hmotnostních alkanolaminu.
- 10. Anoda, vyznačující se tím, že se anodizuje elektrolytem podle nároku 1.
- 11. Anoda podle nároku 10, vyznačující se tím, že obsahuje elektronkový kov vybraný z titanu, wolframu, chrómu, hliníku, zirkonu, hafnia, zinku, vanadu, niobu, tantalu, bismutu, antimonu a jejich směsí, slitin a sloučenin kovových skel.
- 12. Anoda podle nároku 11, vyznačující se tím, že anoda obsahuje tantal.
- 13. Kondenzátor podle nároku 11, vyznačující se tím, že obsahuje anodu podle nároku 12.ex^f ·· ···· ·· ···· ·· ·· • · · · · ····· • · ···· ··· ···· · ·· ·· ·· ··
- 14 .
- 15 .
- 16 .
- 17.
- 18 .Způsob pro anodizování anody, vyznačující se tím, že obsahuje kroky: opatří se elektronkový kov;elektronkový kov se vloží do elektrolytu, který obsahuje:více než 5 % hmotn. a méně než 30 % hmotnostních vody; 0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu, který obsahuje:kyselinu fosforečnou; a alkanolamin, v němž množství ionogenu je dostačující pro udržení pH 4 až 9; a aprotické polární rozpouštědlo; a elektronkový kov se vystaví anodizačnímu napětí.Způsob pro anodizování anody podle nároku 14, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z monoethanolaminu, diethanolaminu, triethanolaminu, ethyldiethanolaminu, diethylethanolaminu, dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.Způsob pro anodizování anody podle nároku 15, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.Způsob pro anodizování anody podle nároku 14, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje N-alkylamid.Způsob pro anodizování anody podle nároku 17, vyznačující se tím, že seN-alkylamid vybere ze skupiny obsahující dimethylformamid a dimethylacetamid.Způsob pro anodizování anody podle nároku 14, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje dimethylsulfoxid.
- 19 .
- 20. Způsob pro anodizování anody podle nároku 14, vyznačující se tím, že obsahuje 0,1 až 15 % hmotnostních ionogenu.
- 21. Způsob pro anodizování anody podle nároku 20, vyznačující se tím, že obsahuje 0,5 až 5 % hmotnostních kyseliny fosforečné.
- 22. Způsob pro anodizování anody podle nároku 20, vyznačující se tím, že obsahuje 0,5 až 7 % hmotnostních alkanolaminu.
- 23. Anoda, vyznačující se tím, že se anodizuje způsobem podle nároku 14.
- 24. Anoda podle nároku 23, vyznačující se tím, že se elektronkový kov vybere z titanu, wolframu, chrómu, hliníku, zirkonu, hafnia, zinku, vanadu, niobu, tantalu, bismutu, antimonu a jejich směsí, slitin a sloučenin kovových skel.
- 25. Anoda podle nároku 24, vyznačující se tím, že elektronkový kov obsahuje tantal.
- 26. Kondenzátor podle nároku 11, vyznačující se tím, že obsahuje anodu podle nároku 25.
- 27.
- 28.
- 29.
- 30 .
- 31.7^ť?COo ζ,44 4444 / 44 4444 ^·· 444 4 · · · · 4 4 44 4 44 4 444444 4 444 44444 44 4 4444 44444444 4 44 44 44 44Kondenzátor, vyznačující se tím, že se vytvoří postupem:opatří se elektronkový kov;elektronkový kov se vloží do elektrolytu, který obsahuje:více než 5 % hmotn. a méně než 30 % hmotnostních vody; 0,1 až 20 % hmotnostních ionogenu, který obsahuje:kyselinu fosforečnou; a alkanolamin, v němž množství ionogenu je dostačující pro udržení pH 4 až 9; a aprotické polární rozpouštědlo; a elektronkový kov se vystaví anodizačnímu napětí, aby se vytvořila anodizovaná anoda;vytvoří se kondenzátor s uvedenou anodizovanou anodou.Kondenzátor podle nároku 27, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z monoethanolaminu, diethanolaminu, triethanolaminu, ethyldiethanolaminu, diethylethanolaminu, dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.Kondenzátor podle nároku 28, vyznačující se tím, že se alkanolamin vybere z dimethylethanolaminu a dimethyl(ethoxy)ethanolaminu.Kondenzátor podle nároku 27, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje N-alkylamid.Kondenzátor podle nároku 30, vyznačující se tím, že seN-alkylamid vybere z dimethylformamidu a dimethylacetamidu.Kondenzátor podle nároku 31, vyznačující se tím, že aprotické polární rozpouštědlo obsahuje dimethylsulfoxid.
- 32 .očcxa b — <Ař »· ···· ···· · • · · 4 ·· ··
- 33. Kondenzátor podle nároku 27, vyznačující se tím, že elektrolyt obsahuje 0,1 až 15 % hmotnostních ionogenu.
- 34. Kondenzátor podle nároku 33, vyznačující se tím, že elektrolyt obsahuje 0,5 až 5 % hmotnostních kyseliny fosforečné.
- 35. Kondenzátor podle nároku 33, vyznačující se tím, že elektrolyt obsahuje 0,5 až 7 % hmotnostních alkanolaminu.
- 36. Kondenzátor podle nároku 27, vyznačující se tím, že se elektronkový kov vybere z titanu, wolframu, chrómu, hliníku, zirkonu, hafnia, zinku, vanadu, niobu, tantalu, bismutu, antimonu a jejich směsí, slitin a sloučenin kovových skel.
- 37. Kondenzátor podle nároku 27, vyznačující se tím, že elektronkový kov obsahuj e tantal.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/462,973 US20040256242A1 (en) | 2003-06-17 | 2003-06-17 | Method of anodizing valve metal derived anode bodies and electrolyte therefore |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ200628A3 true CZ200628A3 (cs) | 2006-09-13 |
Family
ID=33517011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20060028A CZ200628A3 (cs) | 2003-06-17 | 2004-06-07 | Zpusob anodizování anodových teles odvozených z kovu na elektrody elektronek a elektrolyt pro tentoúcel |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US20040256242A1 (cs) |
| JP (1) | JP2006528277A (cs) |
| KR (1) | KR20060021901A (cs) |
| CN (1) | CN1806068A (cs) |
| CZ (1) | CZ200628A3 (cs) |
| GB (1) | GB2418433B (cs) |
| IL (1) | IL172562A0 (cs) |
| WO (1) | WO2005001167A1 (cs) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20070060111A (ko) * | 2004-10-12 | 2007-06-12 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 전해액, 전해액을 사용한 산화 코팅막의 형성 방법, 다층체및 이의 제조 방법, 및 금속 산화막 |
| US20070221507A1 (en) * | 2006-02-23 | 2007-09-27 | Greatbatch Ltd. | Anodizing Electrolytes Using A Dual Acid System For High Voltage Electrolytic Capacitor Anodes |
| JP2009536266A (ja) * | 2006-05-05 | 2009-10-08 | キャボット コーポレイション | タンタル粉末およびその製造方法 |
| DE102007026086B4 (de) * | 2007-06-04 | 2009-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Ausbildung einer dielektrischen Dünnschicht auf einem Titansubstrat, mit dem Verfahren hergestelltes Titansubstrat mit Dünnschicht sowie seine Verwendung |
| KR101518742B1 (ko) * | 2008-09-19 | 2015-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 구동 방법 |
| US8514547B2 (en) | 2010-11-01 | 2013-08-20 | Avx Corporation | Volumetrically efficient wet electrolytic capacitor |
| US8379371B2 (en) | 2011-05-20 | 2013-02-19 | Kemet Electronics Corporation | Utilization of moisture in hermetically sealed solid electrolytic capacitor and capacitors made thereof |
| CN102851719B (zh) * | 2011-06-29 | 2016-01-27 | 比亚迪股份有限公司 | 一种锆基非晶合金复合材料及其制备方法 |
| GB2498066B (en) | 2011-12-20 | 2015-09-23 | Avx Corp | Wet electrolytic capacitor containing an improved anode |
| JP5648660B2 (ja) * | 2012-09-10 | 2015-01-07 | 株式会社デンソー | アルミニウムの陽極酸化方法 |
| US10290430B2 (en) | 2014-11-24 | 2019-05-14 | Avx Corporation | Wet Electrolytic Capacitor for an Implantable Medical Device |
| CN104538183A (zh) * | 2014-12-10 | 2015-04-22 | 南通瑞达电子材料有限公司 | 一种电解电容器中高压用电解液及其制备方法 |
| US9786440B2 (en) | 2014-12-17 | 2017-10-10 | Avx Corporation | Anode for use in a high voltage electrolytic capacitor |
| CN106801242B (zh) * | 2016-07-11 | 2019-02-22 | 南京理工大学 | 快速制备大面积高度有序大孔间距多孔阳极氧化铝膜的方法 |
| US10832871B2 (en) | 2016-11-14 | 2020-11-10 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for an implantable medical device |
| US10431389B2 (en) | 2016-11-14 | 2019-10-01 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for high voltage environments |
| CN107779905B (zh) * | 2017-09-19 | 2019-04-02 | 同济大学 | 一种氧化钒纳米带的制备方法 |
| US10957493B2 (en) | 2017-12-05 | 2021-03-23 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for an implantable medical device |
| CN108031998A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-05-15 | 江苏华尚汽车玻璃工业有限公司 | 一种金属玻璃的焊接装置及其焊接方法 |
| US11393637B2 (en) | 2019-06-03 | 2022-07-19 | Kemet Electronics Corporation | High temperature polymer hermetically sealed capacitors |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3138746A (en) * | 1960-05-02 | 1964-06-23 | Francis J P J Burger | Electrolytic capacitors and electrolyte therefor |
| US3547423A (en) * | 1968-04-12 | 1970-12-15 | Gen Electric | Electrolytic capacitor and electrolyte material therefor |
| JPS61139697A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-26 | エムハ−ト・インダストリ−ズ・インコ−ポレ−テツド | 陽極酸化法 |
| US4692224A (en) * | 1986-08-11 | 1987-09-08 | Sprague Electric Company | Volatile anodizing electrolytes for tantalum |
| US4812951A (en) * | 1987-03-20 | 1989-03-14 | Aerovox M, Inc. | Electrolytic capacitor and electrolyte therefor |
| US5185075A (en) * | 1990-10-25 | 1993-02-09 | The Alta Group | Surface treated titanium/titanium alloy articles and process for producing |
| JPH08339026A (ja) * | 1995-06-13 | 1996-12-24 | Nikon Corp | カメラの情報設定装置 |
| US5716511A (en) * | 1996-08-07 | 1998-02-10 | Kemet Electronics Corporation | Anodizing electrolyte and its use |
| US6235181B1 (en) * | 1999-03-10 | 2001-05-22 | Kemet Electronics Corporation | Method of operating process for anodizing valve metals |
| US6480371B1 (en) * | 2000-02-01 | 2002-11-12 | Kemet Electronics Corporation | Alkanolamine-phosphoric acid anodizing electrolyte |
| US6409905B1 (en) * | 2000-11-13 | 2002-06-25 | Kemet Electronics Corporation | Method of and electrolyte for anodizing aluminum substrates for solid capacitors |
| EP1369449B1 (de) * | 2002-06-06 | 2004-02-11 | Wacker-Chemie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Polydiorganosiloxanen |
-
2003
- 2003-06-17 US US10/462,973 patent/US20040256242A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-06-07 KR KR1020057024269A patent/KR20060021901A/ko not_active Ceased
- 2004-06-07 WO PCT/US2004/017971 patent/WO2005001167A1/en not_active Ceased
- 2004-06-07 CZ CZ20060028A patent/CZ200628A3/cs unknown
- 2004-06-07 CN CNA2004800168295A patent/CN1806068A/zh active Pending
- 2004-06-07 JP JP2006517190A patent/JP2006528277A/ja not_active Withdrawn
- 2004-06-07 GB GB0600327A patent/GB2418433B/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-29 US US11/193,903 patent/US7248462B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2005-07-29 US US11/193,138 patent/US7678259B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-13 IL IL172562A patent/IL172562A0/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20060021901A (ko) | 2006-03-08 |
| GB2418433A (en) | 2006-03-29 |
| US20050263402A1 (en) | 2005-12-01 |
| WO2005001167A1 (en) | 2005-01-06 |
| US20060000707A1 (en) | 2006-01-05 |
| US7678259B2 (en) | 2010-03-16 |
| JP2006528277A (ja) | 2006-12-14 |
| CN1806068A (zh) | 2006-07-19 |
| IL172562A0 (en) | 2006-04-10 |
| GB0600327D0 (en) | 2006-02-15 |
| GB2418433B (en) | 2009-09-30 |
| US20040256242A1 (en) | 2004-12-23 |
| US7248462B2 (en) | 2007-07-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ200628A3 (cs) | Zpusob anodizování anodových teles odvozených z kovu na elektrody elektronek a elektrolyt pro tentoúcel | |
| US6162345A (en) | Method of anodizing a metal anode prepared from very fine metal powder | |
| Cao et al. | Cathodic shift of onset potential for water oxidation on a Ti 4+ doped Fe 2 O 3 photoanode by suppressing the back reaction | |
| US6480371B1 (en) | Alkanolamine-phosphoric acid anodizing electrolyte | |
| EP1873182B1 (en) | Dopant solution for electroconductive polymer, oxidizing agent and concurrently dopant solution for electrocondctive polymer, electrocondctive composition and solid electrolytic capacitor | |
| Lee et al. | Long-term stabilized high-density CuBi 2 O 4/NiO heterostructure thin film photocathode grown by pulsed laser deposition | |
| US6436268B1 (en) | Non-aqueous electrolytes for anodizing | |
| DE3530564A1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen bildung eines dielektrischen oxidfilms auf einem ventilmetall, nach dem verfahren formierte ventilmetall-elektrode fuer einen kondensator sowie verwendung einer derartigen ventilmetall-elektrode in einem elektrolytkondensator | |
| JP4879040B2 (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JP2000073198A (ja) | バルブ金属を陽極処理するための方法及び電解質 | |
| Ksycki et al. | The electrodeposition of molybdenum from aqueous solutions | |
| EP0213631A2 (en) | Solid electrolytic capacitor and process for preparation thereof | |
| Tasaka et al. | Behavior of Nickel Anode in CsF‐NH 4 F‐HF Melts | |
| CZ2003546A3 (cs) | Anoda kondenzátoru na bázi niobu | |
| US6183618B1 (en) | Process for treating impregnated electrolytic capacitor anodes | |
| DE2534997C3 (de) | Tantal-Elektrolytkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| RU2538492C1 (ru) | Способ изготовления катодной обкладки танталового объемно-пористого конденсатора | |
| Salakhova et al. | Effects of different factors on electrochemical obtaining of Re-Te-Сu alloys | |
| JPH06224077A (ja) | 導電ポリマー製プレカソードを有する漏洩電流の小さい電解コンデンサの製造方法 | |
| MXPA01001974A (en) | Phosphate anodizing electrolyte and its use to prepare capacitors valve metal anodes produced from very fine metal powders | |
| Lukiyanchuk et al. | Anodic-spark layers on aluminum and titanium alloys in electrolytes with sodium phosphotungstate | |
| Ulu et al. | Electrochemical formation of brazing alloys on metal substrates | |
| Kublanovsky et al. | Electrochemical behavior of silver in dicyanoargentate electrolytes | |
| Higashi et al. | Development of electroforming process to construction of TWT helix | |
| 刘鹏 et al. | Study on Electrodeposition of Gadolinium in (p-CH_3C_6H_4SO_3) _3Gd DMF Solution |