CS265067B1 - Způsob čištění ložiskových kuliček - Google Patents

Způsob čištění ložiskových kuliček Download PDF

Info

Publication number
CS265067B1
CS265067B1 CS868440A CS844086A CS265067B1 CS 265067 B1 CS265067 B1 CS 265067B1 CS 868440 A CS868440 A CS 868440A CS 844086 A CS844086 A CS 844086A CS 265067 B1 CS265067 B1 CS 265067B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
balls
beads
cleaning
powder
bearing balls
Prior art date
Application number
CS868440A
Other languages
English (en)
Other versions
CS844086A1 (en
Inventor
Zdenek Havel
Pavel Ing Novak
Original Assignee
Zdenek Havel
Novak Pavel
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Havel, Novak Pavel filed Critical Zdenek Havel
Priority to CS868440A priority Critical patent/CS265067B1/cs
Publication of CS844086A1 publication Critical patent/CS844086A1/cs
Publication of CS265067B1 publication Critical patent/CS265067B1/cs

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

) Způsob čištění se provádí odvalováním kuliček v anorganickém prášku, který z povrchu kuliček pohlcuje zbytky lapovacího prostředku a následně samovolně odpadává. Způsobem je dosaženo extremní čistoty ložiskových kuliček.

Description

Vynález ae týká ložiskové výroby. Šeáx dosažení extrémní čistoty ložiskových kuliček po konečném lapovánx.
Čištění ložiskových kuliček dokončených lepováním v ropných produktech se provádí pomocí organických rozpouštědel a ultrazvuku. V jednodušším případě se kuličky vyperou v rozpouštědle a potom se ručně otírají v jelenicové kůži. Tento způsob je fyzicky náročný, neproduktivní, nebezpečný z požárního hlediska a technicky/ nedokonalý. Na kuličkách zůstávají zbytky lapovacího piOstředku i nepatrné chloupky jelenice. Většina světových výrobců již tento jednoduchý, nedokonalý způsob čištění nahradila čištěním strojním. Všechny typy používaných praček jsou složitá zařízení. Praní se provádí v organických rozpouštědlech za současného působení ultrazvuku. Zbytky pracích kapalin a jejich odparků se z povrchu kuliček odstraňují pomocí par rozpouštědel. Současné způsoby praní hotových kuliček v ultrazvukových pračkách jsou výkonné, ale velmi nákladné. Jejich výraznou nevýhodou je nevhodnost z ekologického hlediska.
nedostatky výše uvedených způsobů čištění odstraňuje řešení podle vynálezu. Jeho podstatou je odvalování kuliček v anorga nickém prášku. Vlivem zbytků tekutého lapovacího media, který zůstal na povrchu kuliček z poslední lapovaoí operace, prášek ke kuličkám přilne. V dalším průběhu odvalování anorganický prášek pohlcuje lapovací kapalinu. Tím se snižuje jeho přilnavost k povrchu kuliček a prášek samovolně odpadává.
Vynález je kombinaca dvou fyzikálních vlastností. První je schopnost anorganického prášku absorbovat tekuté ropné produkty. Druhou vlastností je charakter vazby mezi lesklým povrchem kuliček a práškem. Pokud jscu na povrchu kuliček zbytky kapaliny, je přilnavost prášku vysoká. Mezi suchými kuličkami a práškem je naopak přilnavost velmi nízká. Proto se na začátku čištění prášek snadno na kuličky nabaluje. Jakmile z povrchu kuliček odsaje kapalinu, samovolně odpadává. Jednoduchostí Čistícího proceeu je dána jeho ekonomická efektivnost. Přitom z hygienického pohledu je způsob čištění rovněž velmi výhodný. V průběhu čištění přichází kuličky do styku pouze s chemicky neagresivními prostředky a jsou tak odolnější vůči korozi než u původních
I
265 067 způsobů čištění.
Způsob čištění je prováděn následovně. Kuličky, ns. jejichž povrchu jsou zbytky lapovacího prostředku, padají do čisticího 3troje. Ve stroji je vrstva čisticího anorganického prášku, např. směs uhličitanu vápenatého a uhličitanu hořečnatého. Po dopadu na vrstvu prášku se začnou kuličky odvalovat. Odvalování je zajištěno konstrukcí čističky. VprW části odvalování pi’ášek ke kuličkám přilne. V další části operace je nabalování prášku ukončeno. Odval kuliček přitom pokračuje. Trvá tak dlouho, dokud práškem není lapovací prostředek pohlcen. V poslední etapě prásek z povrchu kuliček odpadává a kuličky vystupují ze zařízení k dalšímu zpracování.

Claims (1)

  1. Způsob čištění ložiskových kuliček^vyznačující se tím, že se kuličky oúvalují po vrstvě anorganického prášku, přičemž anorganický prášek z povrchu kuliček pohlcuje nečistoty v podobě zbytků lapovacích prostředků, čímž se snižuje vzájemná vazba mezi povrchem kuliček a anorganickým práškem a ten z nich postupně odpadává.
CS868440A 1988-06-23 1988-06-23 Způsob čištění ložiskových kuliček CS265067B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS868440A CS265067B1 (cs) 1988-06-23 1988-06-23 Způsob čištění ložiskových kuliček

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS868440A CS265067B1 (cs) 1988-06-23 1988-06-23 Způsob čištění ložiskových kuliček

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS844086A1 CS844086A1 (en) 1989-01-12
CS265067B1 true CS265067B1 (cs) 1989-09-12

Family

ID=5434906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS868440A CS265067B1 (cs) 1988-06-23 1988-06-23 Způsob čištění ložiskových kuliček

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS265067B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS844086A1 (en) 1989-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2610854B2 (ja) プリント回路板および/またはプリント配線板の洗浄方法
JP2001517728A (ja) 水性リンス組成物及びそれを用いた方法
JP2002057138A (ja) 回転式基板処理装置
JPS6325661B2 (cs)
CS265067B1 (cs) Způsob čištění ložiskových kuliček
JP2000336494A (ja) 金属帯板の洗浄装置
JPH11354480A5 (cs)
US5378315A (en) Removing imaging member layers from a substrate
JPH03165902A (ja) 搬送ロールの付着塵埃除去方法
JP2000343434A (ja) ブラスト工法
CA2298045C (en) Floor treating method and machine
KR100323496B1 (ko) 반도체 웨이퍼의 재생 장치 및 방법
JP2022095599A5 (cs)
JP2023026456A5 (cs)
JPH06212467A (ja) 油付着物の洗浄方法及び洗浄装置
DE19923385C2 (de) Verfahren zum Trocknen einer Halbleiterscheibe
EP1033104B1 (en) Floor treating method and machine
JP2515254Y2 (ja) エアー乾燥装置
JPH06106480A (ja) 半導体製造装置等の清掃方法
JPH04352417A (ja) 半導体装置のフォトレジスト塗布装置
RU2098577C1 (ru) Способ удаления лакокрасочного покрытия с поверхностей преимущественно зданий и сооружений
US20160362637A1 (en) Compositions and methods for the removal of paints, varnishes, stains or graffiti
JPS6156614B2 (cs)
JP2005305372A (ja) 被洗浄物の水切り方法
TW557493B (en) Cleaning machine with dual-nozzle inert-gas spurting tube