CS258329B1 - Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování - Google Patents
Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování Download PDFInfo
- Publication number
- CS258329B1 CS258329B1 CS865149A CS514986A CS258329B1 CS 258329 B1 CS258329 B1 CS 258329B1 CS 865149 A CS865149 A CS 865149A CS 514986 A CS514986 A CS 514986A CS 258329 B1 CS258329 B1 CS 258329B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- class
- additive
- additives
- concentration
- effect
- Prior art date
Links
- 230000000694 effects Effects 0.000 title abstract description 20
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 title abstract description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 64
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 230000002999 depolarising effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 8
- -1 carboxylic acid ions Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 4
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-ynoxyethanol Chemical compound OCCOCC#C GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-ynoxyprop-1-yne Chemical compound C#CCOCC#C HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 2
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 2
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 2
- WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenenickel Chemical group [Ni]=S WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M Saccharin sodium Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)[N-]S(=O)(=O)C2=C1 WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- DLGYNVMUCSTYDQ-UHFFFAOYSA-N azane;pyridine Chemical compound N.C1=CC=NC=C1 DLGYNVMUCSTYDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000012084 conversion product Substances 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- XNERWVPQCYSMLC-UHFFFAOYSA-N phenylpropiolic acid Chemical compound OC(=O)C#CC1=CC=CC=C1 XNERWVPQCYSMLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 230000003389 potentiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC=C DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-yne-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC#C LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Depolarizační přísada do lázní pro
katodické vylučování niklu a slitin niklu,
obsahující silná účinné polarizační přísa- '
dy druhá třídy. Požadovaný depolarizační
účinek je dosažen přídavkem 0,001 až 0,1 g/1
přísady, dávkované po částech do potlačení
viditelných projevů polarizace·, způsobené
předávkováním přísad druhé třídy nebo účinkem
nečistot organických nebo kovových.
Přísada je tvořena nejméně jednou sloučeninou
ze které vznikají ionty acetylenické
karboxylové kyeeliny s jednou trojnou vazbou
a jednou karboxylovou skupinou, ve kterých
je trojná vazba a karboxylová skupina
spojena uhlíkovým řetězcem s jedním až
pěti atomy uhlíku·
Description
Vynález se týká přísad s depolarizačním účinkem při galvanickém, lesklém, pokovování niklem a slitinami niklu.
' Dosuď známé přísady s depolarizačním účinkem byly popisovány pouze empiricky, jako přísady potlačující nežádoucí jevy v oblasti nízkých proudových hustot. Nežádoucím jevem je například vylučování defektních, tmavých povlaků nebo nesouvislé pokovování, až úplné potlačení procesu pokovování. Častou příčinou je předávkování přísad druhé třídy nebo také účinek nečistot, zvláště rozkladných produktů organických přísad. Použiti silně úČinrjé přísady, která umožňuje dosažení vysokého lesku, je doprovázeno potížemi nejen v důsledku snadného předávkování, ale také citlivosti na nežádoucí kovové ionty. Účinnými přísada• mi druhé třídy jsou převážně sloučeniny acetylenické ChC, nebo sloučeniny s pyridinickým dusíkem -C=N- nebo nitrilová skupina II
-C=N nebo sloučenina síry S v seskupení atomů -N-C=S. Jako příklady sloučenin druhé třídy je možné uvést: propargylalkohol, butindiol a deriváty od nich odvozené, N-alkyl deriváty propargylaminu, N-alkylchinoliniumbromid, po.lyakry lamid nebo propiolovou kyselinu. Účinek přísad druhé třídy je podmíněn přítomností « přísad první třídy, tvořených sloučeninami obsahujícími síru, kterými jsou například sacharin·, benzensulfonan sodný, benzensulfonamid, allylsulfonan sodný, styrensulfonan sodný, propargyl sulfonan sodný. Spotřebo obou skupin přísad elektrolyzou je při dané koncentraci úměrná prošlému náboji. Dejich katodickou přeměnou je ovlivněna fyzikální struktura vyloučené kovové vrstvy, která se stává lesklou, a chemicky dokazatelným produktem přeměny je v povlaku obsažený sirník nikelnatý. Účinek nežádoucích iontů, jako mědi a zinku, je spojen s podobnými projevy při nízkých proudových hustotách a additivně nebo synergicky sc sdružuje s vlivem přísad druhé třídy. Polarizací katody, která je způsobena zvýšením koncentrace přísady druhé třídy, jc potlačováno vylučování niklu při nízkých proudových hustotách a dochází k předhostnímu vylučování kovů s· poz it ivně j ším vylučovacím potenciálem, například mědi. Řešení uvedených závad dosud spočívalo v elektrolytickém odstranění nežádoucích organických i anorganických látek. Obvykle je proces spojen s filtrací aktivním uhlím a je značně Zdlouhavý i nákladný. Dalším způsobem odstra- .. nění kovových nečistot je použití specifických srážecích činidel, aplikovaných buň homogenně jako roztoky, nebo jako neregenerovatelné měniče iontů. Uvedené přípravky nesnižují důsledky předávkování přísad přímo, ale potlačením synergického vlivu těžkých kovů jsou značně účinné. Ze sloučenin, aplikovaných homogenně, to jsou hlavně donory S , kupříkladu thiosíran sodný, organické thioly nebo heterocyklické sloučeniny. Dejich nevýhodou je, zvláště při vysoké koncentraci kovů, koprecipitace nerozpustných produktů do povlaků, a tak vytvoření drsných nánosů nebo tmavých pruhů. Podobně se projevuje předávkování a je nutné vyčkat do rozložení přebytku srážedla. Nerozpustná, heterogenní srážedla, naplavená na filtrační hmotu, mají charakter měniče iontů. Jsou to některé modifikace siřníku nikelnatého a řada organických sloučenin, zakotvených na nosiči. Dejich použití je velice výhodné pro odstranění kovových iontů, ale rovněž neomezuje přímo účinek předávkování přísad druhé třídy. Dále byla podle čs. pat. č. 187,487 použita sodná sůl formaldéhydbisulfitu. Známý je také vliv nízkých koncentrací siřičitanů. Přebytek těchto látek ale způsobuje závoje, mlhavé plochy, způsobené koprecipitací cizích látek do vylučovaného povlaku. Zavedení . sulfinových kyselin podle pat. USA č. 2,654.703· jé spojeno se sekundárním snížením lesku při nízkých proudech. Nejvíce úsilí bylo vynaloženo k výběru přísad nebo kombinací různých přísad, které vznik defektních povlaků při nízkých proudových hustotách nedovolují. Tak byla chráněna pat. USA č. 4,435.254 směs přísad, tvořená acetylenickým aminem a acetylenickým sulfonanem. iNespráv-. ně definované, konstantní, vzájemné poměry jsou v provozním používání zdrojem závad.
o
Tyto nevýhody odstraňuje vynález, jehož předmětem je přísada s depolarizočním účinkem při galvanickém, lesklém, pokovování niklem a slitinami niklu, do lázní obsahujících silně účinné polarizační přísady druhé třídy. Podstata vynálezu spočívá v tom, že přísada je tvořena nejméně jednou sloučeninou, ze které vznikají ionty acetylcnické karboxylové kyseliny s jednou trojnou 258329 vazbou a jednou karboxylovou skupinou, ve kterých je trojná vazba a karboxylové skupina spojena uhlíkovým řetězcem s jedním až pěti atomy úhlíku. Přísada je používaná v množství 0,001 až 0,1 g/1 až do potlačení viditelných následků polarizace, v lázni, jež kromě přísad první třídy.obsahuje silně účinné přísady druhé třídy.
Polární karboxylové skupina· v molekule acetylenické sloučeniny ovlivňuje mechanismus obsazení povrchu katody. Oiž nízké koncentrace depolarizační přísady omezují vliv přísad druhé třídy, zřejmě v důsledku vytěsňování. Dochází k poklesu katodického potenciálu. Dalším zvyšováním koncentrace depolarizační přísady přes určitou, dané látce specifickou, hodnotu dochází opět ke vzestupu potenciálu a přísada se začíná chovat do» sud známým způsobem jako přísada druhé třídy. Zavedení objektivního měření hodnoty katodického potenciálu dovoluje stanovení polarizační schopnosti látek, vymezení oboru vhodné koncentrace nebo také přesné určení potřebného množství přísady. Měření katodického vylučovacího potenciálu ukázalo, že přísady druhé třídy způsobují výraznější zvyšování hodnot potenciálu, než přísady první třídy, a že jeho hodnota stoupá s koncentrací.
K přísady. Zvýšení hodnoty E vztažené na molárni zlomek koncentrace přísady v lázni, odpovídá dříve empiricky dokázaným představám o účinnosti přísad. Při koncentraci 0,2 mMol/1 a katodické proudové hustotě D^ 0,2 A/dm je přírůstek ΔΕ v ni-klovec í lázni, obsahující 2 g/1 sacharinu a 1 g/1 allysulfonanu sodného: propargyl alkohol +60 níV, 2-hydroethyl propargylether-1 +50 roV, l-diathylamino-propin2 +40 mV, butin-2-diol-l,4 +30 mV. Z praktických poznatků také vyplývá, že butin-2-diol-l,4 je přísada s relativně nízkou účinností, ostatní jmenované přísady jsou silně účinné. Dalším zvyšováním jejich koncentrace stoupá lesk, ale současně, více či méně, klesá proudová účinnost, gž je povrch katody neúplně zakrytý kovem. Pouze u zvlášť rasantně účinkujících přísad dochází k nepokovení větší části plochy již při nízké koncentraci přísady, i když pokles proudové účinnosti je malý. Tento zajímavý efekt může být vysvětlen pouze dírami*, způsobenými poruchami v obsazení katodové dvojvrstvy při malém počtu molekul přísady druhé třídy. Přídavkem malého množství depolarizačních přísad jsou popsané poruchy odstranitelné a dochází k tvorbě souvislých povlaků nj,klu na celé ploše katody.
99
Dosud neznámá vlastnost acetylenických karboxylových kyselin je objasněna měřením potenciálů katody. Měření ΕΚθκε bylo provedeno při proudové hustotě 0,2 A/dm2, 5/Pc, v niklovací lázni obsahující 2 g/1 sacharinu a 1 g/1 alíysulfonanu sodného.
E SKE
Niklovací lázeň 705
Niklovací lázeň s přídavkem propiolové kyseliny mg/1 685 mg/1 , 660 mg/1 670 mg/1 690 mg/1 715
Praktické zkoušky pokovování ukázaly, že za udaných podmínek vznikaly defektní povlaky do koncentrace 10 mg/1 propiolové ky' eeliny. Dalším zvyšováním koncentrace se postupně obnovoval lesk, který dále narůstal stejným způsobem, jako při dávkování přísad druhé třídy, s prudkým poklesem proudové účinnosti.
Z uvedených měření a praktických výsledků vyplývá, že v oboru koncentrace 1 až 10 mg/1 se propiolové kyselina chovala jako depolarizační přísada, nikoliv jako polarizační přísada prVní nebo druhé třídy, kterou se stává teprve při vyšší koncentraci. Určení koncentračního oboru, ve kterém se sloučeniny tvořené acetylenickou skupinou a alespoň jednou karboxylovou skupinou chovají jako depolarizátory, souvisí s mechanismem obsazení povrchu katody, se sorpčními a desorpčními pochody a způsobem transportu polarizačních a depolarizačních látek na povrchu katody. Snížení hodnoty katodického potenciálu přídavkem depolí!rj_ zátoru je prakticky používané při popsaných projevech předávkování silně účinných přísad druhé třídy, nebo znečištění lázní organickými nebo kovovými nečistotami. 3e významné, že vliv depolarizátorů je podstatný při odstraňování následků polarizace, způsobené přísadami druhé třídy, označovanými jako vysoce účinné. Naproti tomu je vliv depolarizačních přísad malý při stejných projevech způsobených vysokou koncentrací málo účinných přísad, například butindiolu. Popsaný efekt souvisí s četností molekul polarizačních látek tvořících obal katody a možností jejich vytěsnění. Snahy řešit situaci nadměrného předávkování. vysoce účinných přísad používaných obvykle v koncentracích w Βζ 0,002 až 0,05 g/1 nebo 1 poměrně malého předávkování málo účinných přísad používaných při koncentraci 0,Q5 až 0,5 g/1, vede k požadavku vysokých koncentrací depolarizátorů. Tertto požadavek je možné uspokojit jen do koncentrací, při kterých se acetylenická karbonová kyselina přestává.chovat jako depolarizátor a potenciál katody vykazuje vzestup» Další přídavek se ve svém účinku additivně nebo. synergicky sčítá s účinkem další, v daném případě potlačované, přísady druhé třídy. Z tohoto hlediska je nevhodná formulace navržená pat. USA č. 4,435.254, kdy současné dávkování vysoce účinné přísady druhé třídy, ktex · rou je acetylenický amin v koncentraci 0,005 až 1 g/1 a acetylenická’ sulfokyselina v koncentraci 0,01 až 0,1 g/1, vede často k závadám, mlhavým pruhům, jako následkům zvýšení poměru acetylenické sulfosloučeniny k aminu. Uvedená závado je způsobená nadměrnou, nežádoucí depolarizací. Rovněž použití vyvážených poměrů obou složek tvořících kombinovanou přísadu vede ke zbytečným, ekonomicky nežádoucím, spotřebám obou složek, které ve Svém katodickém účinku působí proti sobě. Výhodou depolarizačních přísad tvořeným nejméně jednou sloučeninou, ze kteéé vznikají ionty acetylenické karboxylové kyseliny s jednou trojnou vazbou a jednou karboxylovou skupinou, je jejich schopnost adaptace ve všech dosud známých kombinacích přísad první a druhé třídy, aniž je nutné procesy k této úpravě jakýmkoliv způsobem modifikovat.
Ze sloučenin s jednou trojnou vazbou a jednou karboxylovou skupinou je možné jmenovat kupříkladu kyselinu propiolovou, fenylpropiolovou, jejich sole s alkalickými kovy, niklem a kobaltem, alkyl- i arylderiváty, anhydridy, acylhalogenidy a amidy od nich odvozené. Přísada se dávkuje pouze v míře potřebné k odstranění defektních povlaků způsobených polarizací nebo znečištěním, úměrně k množství nečistot nebo přebytku přísad druhé třídy. Nepodílí se na vytváření lesku a v použití není omezena ostatními, v roztoku přítomnými látkami, ani jinými podmínkami. Při zvýšení obsahu nad potřebnou koncentraci dochází ve vyváženém systému leskle vylučujících lázní k mírnému lesku v oblasti nižších proudových hustot a zvýšení lesku při vysokých proudových hustotách. Dalším zvyšováním koncentrace přísady se zvýšení lesku projevuje i při nižších proudových hustotách a přísada má známou vlastnost přísady druhé třídy. Koncentrací přísad druhé třídy charakterizuje hodnota katodického i anodického potenciálu a
- 6 polarizačního napětí. Zvyšování koncentrace přísady druhé třídy je spojeno se vzrůstem EK a poklesem EA. Depolarizační přísada v optimálně zvolené koncentraci snižuje hodnotu EK a odstraňuje poruchy, způsobené předávkováním přísady druhé třídy nebo účinkem nečistot, které mají shodný polarizační účinek. Měření katodového potenciálu umožňuje nejen určení závady, ale i volbu potřebné koncentrace depolarizační přísady, takže proces pokovování není závislý na empirických, zdlouhavých, zkouškách.
Popsané vlastnosti charakterizuje příklad, kterým není předmět vynálezu ani omezen, ani vyčerpán.
Příklad.''
K Wattsově niklovací lázni, která obsahovala přísady první třídy, byl jako přísada druhé třídy přidáván 2-.hydroethy Ipropargalether (PE). 3ako depolarizační přísada byla aplikována kyselina propiolová (PO). Změny katodického potenciálu při pH 4,5 o 6c|°C charakterizují proces vylučování niklu v závislosti na končentraci přísad v závislosti na proudové hustotě .0 .
Koncentrace | Jrag/Ů | c SKE | |||
PE | PO | DK 0,2 A/dm2 | DK 1,0 A/dm2 | ||
- ’ | - | 704 | 763 | ||
10 · | 752 | 789 | |||
20 | - | 795 | 812 | ||
40 | - | . 834 | 837 | ||
40 | 10 | 779 | 814 | ||
40 | 30 | 753 | 864 |
Zvýšení koncentrace 2-hydroxyethyIpropargyletheru 40 mg se projevilo nepokovenými plochami při středních proudových hustotách
O nebo tmavými pruhy okolo 1 A/dm“. Přídavek 10 mg/1 propiolové kyseliny potlačil nežádoucí zvýšení koncentrace přísady druhé třídy a kvalitní povlak se vylučoval při proudových hustotách
O od 0,1 A/dm·**. Předávkováním kyseliny propiolové na 30 mg/1 byl snížen lesk až do proudové hustoty 0,7 A/dm a při proudových hustotách nad 1 A/dm se výrazně zvyšoval lesk povlaku. Vzniklé nežádoucí rozhraní, výrazně odlišných vlastností povlaku, dokazuje předávkování depolarizační přísady.
Claims (1)
- Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém/ lesklém/ pokovování niklem a slitinami niklu/ do lázní obsahujících silně účinné polarizační přísady druhé třídy/ vyznačená tím/ že. je tvořena nejméně jednou sloučeninou ze které vznikají ionty acetylenické karboxylové kyseliny s jednou trojnou vazbou a jednou karboxylovou skupinou, ve kterých jé trojná vazba a karboxylové skupina spojena uhlíkovým řetězcem s jed ním a-2 pět i· atomy uhlíku.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS865149A CS258329B1 (cs) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS865149A CS258329B1 (cs) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS514986A1 CS514986A1 (en) | 1987-12-17 |
CS258329B1 true CS258329B1 (cs) | 1988-08-16 |
Family
ID=5395839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS865149A CS258329B1 (cs) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS258329B1 (cs) |
-
1986
- 1986-07-07 CS CS865149A patent/CS258329B1/cs unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS514986A1 (en) | 1987-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4430173A (en) | Additive composition, bath and process for acid copper electroplating | |
EP0611840B1 (en) | Cyanide-free plating solutions for monovalent metals | |
US3905878A (en) | Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy | |
US5196109A (en) | Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same | |
JPH0220714B2 (cs) | ||
US2842488A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
US4419192A (en) | Method for galvanic deposition of copper | |
US4157945A (en) | Trivalent chromium plating baths | |
US4432843A (en) | Trivalent chromium electroplating baths and processes using thiazole addition agents | |
US4448648A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
US4502927A (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
US4543167A (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
US4450051A (en) | Bright nickel-iron alloy electroplating bath and process | |
EP0085771B1 (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
CS258329B1 (cs) | Přísada s depolarizačním účinkem při galvanickém, (54) lesklém pokovování | |
US4496439A (en) | Acidic zinc-plating bath | |
US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
US4089754A (en) | Electrodeposition of nickel-iron alloys | |
EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
US4416740A (en) | Method and bath for the electrodeposition of palladium/nickel alloys | |
US4430172A (en) | Method of increasing corrosion resistance in galvanically deposited palladium/nickel coatings | |
US2694041A (en) | Electrodeposition of nickel | |
US4405412A (en) | Removal of copper contamination from tin plating baths | |
US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating |