CS245243B1 - Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování - Google Patents
Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování Download PDFInfo
- Publication number
- CS245243B1 CS245243B1 CS848019A CS801984A CS245243B1 CS 245243 B1 CS245243 B1 CS 245243B1 CS 848019 A CS848019 A CS 848019A CS 801984 A CS801984 A CS 801984A CS 245243 B1 CS245243 B1 CS 245243B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- target
- magnetron sputtering
- compound
- cathode target
- reactive magnetron
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování zejména tenkých supravodivých vrstev na páskové kovové substráty sestává z jednotlivých dílů, složených z částí, z nichž každé obsahuje pouze jediný prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy. Dílčí plochy jednotlivých prvků jsou přitom v stechiometrickém poměru požadované sloučeniny
Description
Vynález se týká katodového terče pro reaktivní magnetronové napravování zejména tenkých supravodivých vrstev na práškové kovové substráty.
Dosud je známo, že pro magnetronové naprašování kovů nebo slitin kovů na destičky polovodičů se používá katodový terč, kruhového nebo obdélníkového tvaru, vyrobený z kovu nebo ze slitiny kovů, která má být naprášena. V případě některých sloučenin jejichž výroba je v požadované čistotě obtížná a velmi nákladná, nebo v případě sloučenin jejichž mechanické vlastnosti jsou nevhodné pro jejich zpracování například tvářením nebo obráběním je zhotovení katodového terče nereálné.
Uvedenou nevýhodu odstraňuje katodový terč pro reaktivní magnetronové naprašování, zejména tenkých supravodivých vrstev na práškové kovové substráty podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že jednotlivé díly mozaikovitého terče jsou složeny z částí, z nichž každá obsahuje pouze jeden prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy· Dílčí plochy jednotlivých prvků jsou y stechiometrickém poměru požadované sloučeniny.
t ...
Podle dalšíhó7vynálezu je rozdělení jednotlivých dílu pravidelné na zvolený větší počet menších ploch.
Katodový terč podle vynálezu má tu přednost, že terč se vyrábí z jednotlivých dílčích ploch prvků budoucí sloučeniny, tedy odpadá nutnost sloučeninu předem vyrobit a pak z ní zhotovit terč. Vznikající sloučenina je vysoce čistá a je vyloučeno její znehodnocení jak se tomu může stát při separaci chemické synthese sloučeniny a následném jejím zpracování do formy terče.
Čelní plocha terče, ze které se při doutnavém rotujícím výboji odprašují jednotlivé prvky přítomné v terči časově postupně za sebou, je tvořena mozaikou těchto prvků. Čelní plocha
245 243 jednotlivých prvků terče je v poměru jejich stechiometrického zastoupení v požadované sloučenině. Jednotlivé plochy jsou pak upraveny v poměru atomového čísla kladného iontu zředěného plynu v magnetronu ku atomovému číslu příslušného prvku terče. Jednotlivé plochy prvků jsou upraveny podle požadavku pro optimální složení naprášené supravodivé fáze, která nemusí být stechioraetrickou.
Obvykle so používá u magnetronového naprašování argonu.
Při reaktivním naprašování může jím být například dusík, čpavek, metan. Doutnavý výboj v magnetronu působením Lorenzovy síly velmi rychle rotuje, při čemž promíchává jednotlivé prvky vyrážené z targetu, které ve vhodném množství, odpovídajícím optimálnímu složení supravodivé fáze se v průběhu přechodu na naprašovaný povrch slučují a na povrch dopadá a zachycuje je již požadovaná supravodivá sloučenina.
Příklad 1
Supravodič typu niob-germanium, který je jedním z nejlepších supravodičů s ohledem na výši kritické teploty supravodivého stavu, vzhledem k nevhodným mechanickým vlastnostem není možno vyrobit jinak než jeho nanesením v tenké vrstvě ku příkladu na měděný nosič ve tvaru pásku. Při tom se s výhodou použije magnetronového materiálu z katodového plenárního terče kruhového nebo jiného tvaru. Plocha tetóe je kupříkladu rozdělena na čtyři pole. Dvě protilehlé jsou z niobu a dvě protilehlé jsou z germania. Při stanovení poměru ploch vycházíme v prvním kroku ze stechiometrického složení požadované sloučeniny - atomové číslo niobu je 41, ve slou čenině je zastoupen třikrát t.j. obdržíme 123; germanium Já atomové číslo 32, stechiometrický poměr je tedy 123 i 32 = niob ; germanium t.j. cca 4:1.
Příklad 2
Supravodič Nb^Sn je jedním z nejlepších supravodičů s ohledem na všechny parametry supravodivého stavu. Vzhledem k nevhodným mechanickým vlastnostem sloučeniny Nb^Sn není možné jí dát tvar drátu nebo pásku technologií tváření. Proto se s výhodou použije magnetronového naprášení ze složeného katodového terče. Plocha terče je rozdělena na čtyři pole; dvě protilehlé jsou z niobu a
245 243
- 3 dvě protilehlé jsou z cínu. Při stanovení poměru ploch niobu a cínu v targetu vycházíme v prvním kroku ze stechiometrického složení sloučeniny NbgSn. Atomové číslo Nb je 41, ve sloučenině jsou zastoupeny 3 atomy Nb t.j. obdržíme 123. Cín má atomové číslo 50. Poměr ploch bude tedy Nb : Sn = 123 : 50 t.j. cca 2,5 : 1.
Plocha terče je složena v případě binární sloučeniny minimálně ze dvou polí anebo ze 2 χ n polí. Čím bude větší celé číslo, tím vzniklá směs bude homogennější a tím se usnadní její chemická synthesa při reaktivním naprašování. Zlepšení' homogenity se zajistí relativním pohybem páskového substrátu vůči terči.
Claims (2)
1. Katodový terč pro reaktivní magnetronové naprašování, zejména tenkých supravodivých vrstev na páskové kovové substráty, vyznačený tím, že jednotlivé díly mozaikovitého terče jsou složeny z částí, z nichž každá obsahuje pouze jeden prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy, přičemž dílčí plochy jednotlivých prvků jsou v stechiometrickém poměru požadované sloučeniny.
2. Katodový terč podle bodu ^vyznačený tím, že rozdělení jednotlivých dílů je pravidelné na zvolený větší počet menších floch.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS848019A CS245243B1 (cs) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS848019A CS245243B1 (cs) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS801984A1 CS801984A1 (en) | 1985-07-16 |
| CS245243B1 true CS245243B1 (cs) | 1986-09-18 |
Family
ID=5430229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS848019A CS245243B1 (cs) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS245243B1 (cs) |
-
1984
- 1984-10-22 CS CS848019A patent/CS245243B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS801984A1 (en) | 1985-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7717987B2 (en) | Coating material based on a copper-indium-gallium alloy, in particular for the production of sputter targets, tubular cathodes and the like | |
| EP0288711A2 (en) | Rapid, large area coating of high-Tc superconductors | |
| US4043888A (en) | Superconductive thin films having transition temperature substantially above the bulk materials | |
| CS245243B1 (cs) | Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování | |
| DE68925239T2 (de) | Dünne Supraleiterschicht und Verfahren zu ihrer Abscheidung | |
| Hohl et al. | A comparative high-resolution electron microscope study of Ag clusters produced by a sputter-gas aggregation and ion cluster beam technique | |
| US5545610A (en) | Oxide-based superconductor, a process for preparing the same and a wire material of comprising the same | |
| JPS61194786A (ja) | 酸化物超伝導体薄膜の熱処理方法 | |
| JPH0344461A (ja) | スパッタ用銅セレン系ターゲット材料 | |
| EP0298933B1 (en) | Method for the manufacture of copper oxide superconducting films | |
| JPH0365502A (ja) | 超電導薄膜の作製方法 | |
| CS244879B1 (cs) | Způsob chemické syntézy supravodivých sloučenin | |
| KR0157625B1 (ko) | Bi확산에 의한 고온 초전도 박막의 제조방법 | |
| JPH01159372A (ja) | 薄膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JP4011130B2 (ja) | 酸化物超電導線材の製造方法 | |
| Shah | Effect of deposition conditions on cation composition during reactive magnetron sputtering of high-Tc superconductors | |
| JPH09228037A (ja) | 化合物薄膜の高速作成用ターゲットおよび蒸発源 | |
| JP2557446B2 (ja) | 複合酸化物系超電導薄膜の製造方法 | |
| JPH01208328A (ja) | スパッタリング用ターゲットおよび超電導薄膜の製造方法 | |
| JPH01614A (ja) | 酸化物超伝導薄膜の作製方法 | |
| JPH02133320A (ja) | 超電導薄膜の作成方法 | |
| JPH01105416A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
| Caley et al. | Preparation of in-situ superconducting YBCO thin films by single target magnetron sputtering | |
| JP3607940B2 (ja) | 酸化物超伝導体の製造方法 | |
| JPS64614A (en) | Manufacture of oxide superconducting film |