CS245243B1 - Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování - Google Patents

Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování Download PDF

Info

Publication number
CS245243B1
CS245243B1 CS848019A CS801984A CS245243B1 CS 245243 B1 CS245243 B1 CS 245243B1 CS 848019 A CS848019 A CS 848019A CS 801984 A CS801984 A CS 801984A CS 245243 B1 CS245243 B1 CS 245243B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
target
magnetron sputtering
compound
cathode target
reactive magnetron
Prior art date
Application number
CS848019A
Other languages
English (en)
Other versions
CS801984A1 (en
Inventor
Vaclav Husa
Vaclav Klabik
Vaclav Landa
Jindrich Musil
Jaromir Sladky
Jaroslav Smrcka
Original Assignee
Vaclav Husa
Vaclav Klabik
Vaclav Landa
Jindrich Musil
Jaromir Sladky
Jaroslav Smrcka
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vaclav Husa, Vaclav Klabik, Vaclav Landa, Jindrich Musil, Jaromir Sladky, Jaroslav Smrcka filed Critical Vaclav Husa
Priority to CS848019A priority Critical patent/CS245243B1/cs
Publication of CS801984A1 publication Critical patent/CS801984A1/cs
Publication of CS245243B1 publication Critical patent/CS245243B1/cs

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování zejména tenkých supravodivých vrstev na páskové kovové substráty sestává z jednotlivých dílů, složených z částí, z nichž každé obsahuje pouze jediný prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy. Dílčí plochy jednotlivých prvků jsou přitom v stechiometrickém poměru požadované sloučeniny

Description

Vynález se týká katodového terče pro reaktivní magnetronové napravování zejména tenkých supravodivých vrstev na práškové kovové substráty.
Dosud je známo, že pro magnetronové naprašování kovů nebo slitin kovů na destičky polovodičů se používá katodový terč, kruhového nebo obdélníkového tvaru, vyrobený z kovu nebo ze slitiny kovů, která má být naprášena. V případě některých sloučenin jejichž výroba je v požadované čistotě obtížná a velmi nákladná, nebo v případě sloučenin jejichž mechanické vlastnosti jsou nevhodné pro jejich zpracování například tvářením nebo obráběním je zhotovení katodového terče nereálné.
Uvedenou nevýhodu odstraňuje katodový terč pro reaktivní magnetronové naprašování, zejména tenkých supravodivých vrstev na práškové kovové substráty podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že jednotlivé díly mozaikovitého terče jsou složeny z částí, z nichž každá obsahuje pouze jeden prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy· Dílčí plochy jednotlivých prvků jsou y stechiometrickém poměru požadované sloučeniny.
t ...
Podle dalšíhó7vynálezu je rozdělení jednotlivých dílu pravidelné na zvolený větší počet menších ploch.
Katodový terč podle vynálezu má tu přednost, že terč se vyrábí z jednotlivých dílčích ploch prvků budoucí sloučeniny, tedy odpadá nutnost sloučeninu předem vyrobit a pak z ní zhotovit terč. Vznikající sloučenina je vysoce čistá a je vyloučeno její znehodnocení jak se tomu může stát při separaci chemické synthese sloučeniny a následném jejím zpracování do formy terče.
Čelní plocha terče, ze které se při doutnavém rotujícím výboji odprašují jednotlivé prvky přítomné v terči časově postupně za sebou, je tvořena mozaikou těchto prvků. Čelní plocha
245 243 jednotlivých prvků terče je v poměru jejich stechiometrického zastoupení v požadované sloučenině. Jednotlivé plochy jsou pak upraveny v poměru atomového čísla kladného iontu zředěného plynu v magnetronu ku atomovému číslu příslušného prvku terče. Jednotlivé plochy prvků jsou upraveny podle požadavku pro optimální složení naprášené supravodivé fáze, která nemusí být stechioraetrickou.
Obvykle so používá u magnetronového naprašování argonu.
Při reaktivním naprašování může jím být například dusík, čpavek, metan. Doutnavý výboj v magnetronu působením Lorenzovy síly velmi rychle rotuje, při čemž promíchává jednotlivé prvky vyrážené z targetu, které ve vhodném množství, odpovídajícím optimálnímu složení supravodivé fáze se v průběhu přechodu na naprašovaný povrch slučují a na povrch dopadá a zachycuje je již požadovaná supravodivá sloučenina.
Příklad 1
Supravodič typu niob-germanium, který je jedním z nejlepších supravodičů s ohledem na výši kritické teploty supravodivého stavu, vzhledem k nevhodným mechanickým vlastnostem není možno vyrobit jinak než jeho nanesením v tenké vrstvě ku příkladu na měděný nosič ve tvaru pásku. Při tom se s výhodou použije magnetronového materiálu z katodového plenárního terče kruhového nebo jiného tvaru. Plocha tetóe je kupříkladu rozdělena na čtyři pole. Dvě protilehlé jsou z niobu a dvě protilehlé jsou z germania. Při stanovení poměru ploch vycházíme v prvním kroku ze stechiometrického složení požadované sloučeniny - atomové číslo niobu je 41, ve slou čenině je zastoupen třikrát t.j. obdržíme 123; germanium Já atomové číslo 32, stechiometrický poměr je tedy 123 i 32 = niob ; germanium t.j. cca 4:1.
Příklad 2
Supravodič Nb^Sn je jedním z nejlepších supravodičů s ohledem na všechny parametry supravodivého stavu. Vzhledem k nevhodným mechanickým vlastnostem sloučeniny Nb^Sn není možné jí dát tvar drátu nebo pásku technologií tváření. Proto se s výhodou použije magnetronového naprášení ze složeného katodového terče. Plocha terče je rozdělena na čtyři pole; dvě protilehlé jsou z niobu a
245 243
- 3 dvě protilehlé jsou z cínu. Při stanovení poměru ploch niobu a cínu v targetu vycházíme v prvním kroku ze stechiometrického složení sloučeniny NbgSn. Atomové číslo Nb je 41, ve sloučenině jsou zastoupeny 3 atomy Nb t.j. obdržíme 123. Cín má atomové číslo 50. Poměr ploch bude tedy Nb : Sn = 123 : 50 t.j. cca 2,5 : 1.
Plocha terče je složena v případě binární sloučeniny minimálně ze dvou polí anebo ze 2 χ n polí. Čím bude větší celé číslo, tím vzniklá směs bude homogennější a tím se usnadní její chemická synthesa při reaktivním naprašování. Zlepšení' homogenity se zajistí relativním pohybem páskového substrátu vůči terči.

Claims (2)

1. Katodový terč pro reaktivní magnetronové naprašování, zejména tenkých supravodivých vrstev na páskové kovové substráty, vyznačený tím, že jednotlivé díly mozaikovitého terče jsou složeny z částí, z nichž každá obsahuje pouze jeden prvek zastoupený v chemické sloučenině supravodivé vrstvy, přičemž dílčí plochy jednotlivých prvků jsou v stechiometrickém poměru požadované sloučeniny.
2. Katodový terč podle bodu ^vyznačený tím, že rozdělení jednotlivých dílů je pravidelné na zvolený větší počet menších floch.
CS848019A 1984-10-22 1984-10-22 Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování CS245243B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS848019A CS245243B1 (cs) 1984-10-22 1984-10-22 Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS848019A CS245243B1 (cs) 1984-10-22 1984-10-22 Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS801984A1 CS801984A1 (en) 1985-07-16
CS245243B1 true CS245243B1 (cs) 1986-09-18

Family

ID=5430229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS848019A CS245243B1 (cs) 1984-10-22 1984-10-22 Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS245243B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS801984A1 (en) 1985-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7717987B2 (en) Coating material based on a copper-indium-gallium alloy, in particular for the production of sputter targets, tubular cathodes and the like
EP0288711A2 (en) Rapid, large area coating of high-Tc superconductors
US4043888A (en) Superconductive thin films having transition temperature substantially above the bulk materials
CS245243B1 (cs) Katodový terč pro reaktivní magnetronové napraáování
DE68925239T2 (de) Dünne Supraleiterschicht und Verfahren zu ihrer Abscheidung
Hohl et al. A comparative high-resolution electron microscope study of Ag clusters produced by a sputter-gas aggregation and ion cluster beam technique
US5545610A (en) Oxide-based superconductor, a process for preparing the same and a wire material of comprising the same
JPS61194786A (ja) 酸化物超伝導体薄膜の熱処理方法
JPH0344461A (ja) スパッタ用銅セレン系ターゲット材料
EP0298933B1 (en) Method for the manufacture of copper oxide superconducting films
JPH0365502A (ja) 超電導薄膜の作製方法
CS244879B1 (cs) Způsob chemické syntézy supravodivých sloučenin
KR0157625B1 (ko) Bi확산에 의한 고온 초전도 박막의 제조방법
JPH01159372A (ja) 薄膜形成用スパッタリングターゲット
JP4011130B2 (ja) 酸化物超電導線材の製造方法
Shah Effect of deposition conditions on cation composition during reactive magnetron sputtering of high-Tc superconductors
JPH09228037A (ja) 化合物薄膜の高速作成用ターゲットおよび蒸発源
JP2557446B2 (ja) 複合酸化物系超電導薄膜の製造方法
JPH01208328A (ja) スパッタリング用ターゲットおよび超電導薄膜の製造方法
JPH01614A (ja) 酸化物超伝導薄膜の作製方法
JPH02133320A (ja) 超電導薄膜の作成方法
JPH01105416A (ja) 薄膜超電導体の製造方法
Caley et al. Preparation of in-situ superconducting YBCO thin films by single target magnetron sputtering
JP3607940B2 (ja) 酸化物超伝導体の製造方法
JPS64614A (en) Manufacture of oxide superconducting film