CS240699B1 - Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním - Google Patents
Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním Download PDFInfo
- Publication number
- CS240699B1 CS240699B1 CS848380A CS838084A CS240699B1 CS 240699 B1 CS240699 B1 CS 240699B1 CS 848380 A CS848380 A CS 848380A CS 838084 A CS838084 A CS 838084A CS 240699 B1 CS240699 B1 CS 240699B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- face
- disc
- stage
- Prior art date
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Stolek sestává z kotouče, opatřeného na rovinné čelní ploše zápichy, spojenými s čerpacím kanálkem, a na protičele kulovou dosedací plochou. Podstatou zařízení je, že obvod kotouče, navazující na rovinnou čelní plochu je opatřen bikónickou drážkou, ve které je umístěn pružný prstencový kroužek, jehož čelo přesahuje přes rovinnou čelní plochu. Separační zdvih s, nutný při vzájemném pohybu substrátu a masky nebo nosné kazety, obstarává pružný prstencový kroužek v závislosti na tom', zda je mezi substrátem a stolkem podtlak, či ne. Zařízení je určeno k napínání substrátu nebo masky, například v elektronovém litografu.
Description
Vynález se týká stolku manipulátoru s vakuovým upínáním substrátu nebo masky·
Při zpracování substrátů a polovodivých materiálů v mikroelektronice se velmi často objevuje operace, při níž je nutno s vysokou přesností nastavit vzájemnou polohu bui substrátu a masky, nebo substrátu a nosné kazety. V okamžiku, kdy je dosaženo požadované vzájemné polohy, je substrát s mas kou nebo nosnou kazetou v mechanickém kontaktu, ale v procesu nastavování, kdy dochází ke vzájemnému pohybu, je nutno zajistit mezi vzájemně se pohybujícími povrchy tzv. separační vzdálenost v rozsahu hloubky ostrosti mikroskopu, kterým se proces nastavování pozoruje.
U dosavadních manipulátorů se k vytvoření separační vzdálenosti obvykle používá pákových mechanismů, které jsou obvykle mechanicky složité a náročné na přesnost.
Dosavadní stav zjednodušuje stolek manipulátoru s vakuovým upínáním, sestávající z kotouče, opatřeného na rovinné čelní ploše zápichy spojenými s čerpacím kanálkem a na protičele kulovou dosedací plochou, jehož podstatou je, že obvod kotouče, navazující na rovinnou čelní plochu je opatřen bikónickou drážkou, ve které je umístěn pružný prstencový kroužek, jehož čelo přesahuje přes rovinnou čelní plochu.
Hlavní předností stolku manipulátoru je, že umožňuje separační zdvih stolku se substrátem, potřebný pro rychlou a přesnou manipulaci za provozu.
240 699
Řešení podle vynálezu blíže objasní přiložený výkres, kde na obr. 1 je znázorněn v osovém řezu stolek manipulátoru se substrátem ve stavu, kdy substrát je v mechanickém kontaktu s maskou nebo nosnou kazetou, přičemž prostor mezi stolkem a substrátem není evakuovón, obr. 2 znázorňuje stav, kdy mezi substrátem a maskou nebo nosnou kazetou je vytvořena separační vzdálenost s, přičemž prostor mezi stolkem a substrátem je evakuován.
Stolek 2 je na jednom čele opatřen kulovou plochou £, která dosedá do kulového lůžka manipulátoru 2. Protilehlá rovinná čelní plocha 8 je opatřena čelními zápichy 2» vzájemně propojenými a spojenými s čerpacím kanálkem £. Čelní plocha 8, na niž se upíná substrát ť>, navazuje na bikónickou drážku 10. ve které je umístěn pružný prstencový kroužek Maska nebo nosná kazeta J je pevně spojena β rámem manipulátoru 2,
Substrát 6 se pokládá na čelní plochu 8 stolku 2· Po při ložení masky nebo nosné kazety J zaujme stolek se substrátem 6, díky kulové ploše £, polohu rovnoběžnou s maskou nebo nosnou kazetou J. Vyčerpá-li se čerpacím kanálkem £ a čelními zápichy £ prostor pod substrátem £, dosedne substrát 6 na čelní plochu 8 stolku 2» přičemž pružný prstencový kroužek 2 se přemístí na vzdálenější kuželovou plochu bikónické drážky 10. Substrát 6 se vzdálí od masky nebo nosné kazety J o separační vzdálenost s a je umožněn vzájemný pohyb substrátu 6 a masky nebo nosné kazety J bez nebezpečí poškození povrchů. Po zavzdušnění prostoru pod substrátem 6 se přemístí pružný prstencový kroužek £ do nejnižšího místa bikónické drážky JO a přitiskne substrát 6 k masce nebo nosné kazetě
Vynález je určen k upínání substrátu£nebo masky, například v elektronovém litografu.
Claims (1)
- PftEDMČT vrsílEzv 240β99Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním, sestávající z kotouče opatřeného na rovinné čelní ploše zápichy, spojenými s čerpacím kanálkem a na protičele kulovou dosedací plochou, vyznačený tím, Se obvod kotouče, navazující na rovinnou čelní plochu (8), je opatřen bikónickou drážkou ¢1), ve které je umístěn pružný prstencový kroužek (4), jehož čelo přesahuje přes rovinnou čelní plochu (8).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS848380A CS240699B1 (cs) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS848380A CS240699B1 (cs) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS838084A1 CS838084A1 (en) | 1985-06-13 |
| CS240699B1 true CS240699B1 (cs) | 1986-02-13 |
Family
ID=5434268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS848380A CS240699B1 (cs) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS240699B1 (cs) |
-
1984
- 1984-10-05 CS CS848380A patent/CS240699B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS838084A1 (en) | 1985-06-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1255814A (en) | Wafer chunck comprising a curved reference surface | |
| US4213698A (en) | Apparatus and method for holding and planarizing thin workpieces | |
| US3192844A (en) | Mask alignment fixture | |
| US4560880A (en) | Apparatus for positioning a workpiece in a localized vacuum processing system | |
| US10571807B2 (en) | Method and apparatus for aligning substrates on a substrate support unit | |
| US11524392B2 (en) | Minimal contact gripping of thin optical devices | |
| US5160959A (en) | Device and method for the alignment of masks | |
| US6771482B2 (en) | Perimeter seal for backside cooling of substrates | |
| CN105009271A (zh) | 晶片处理装置 | |
| EP0129731A1 (en) | Wafer handling system | |
| CS240699B1 (cs) | Stolek manipulátoru s vakuovým upínáním | |
| KR950034663A (ko) | 웨이퍼 이송장치 및 방법 | |
| EP0106510B1 (en) | Envelope apparatus for localized vacuum processing | |
| AT515435A2 (de) | Wafer-Haltesystem | |
| US4278348A (en) | Locking mechanism for use in a chuck for an optical alignment and exposure apparatus | |
| KR100630381B1 (ko) | 가공물 고정장치 | |
| US6965428B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method | |
| DE19853092B4 (de) | Übernahme- und Haltesystem für ein Substrat | |
| US20070277851A1 (en) | Method and apparatus for cleaning semiconductor photolithography tools | |
| US3564568A (en) | Method of locating and holding semiconductor wafer | |
| JPH0322047B2 (cs) | ||
| JPS60167245A (ja) | 試料保持装置 | |
| US4553311A (en) | Chuck handling device | |
| JPS61273435A (ja) | カセツト保持装置 | |
| JPH0617299Y2 (ja) | 半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装置 |