CS240699B1

CS240699B1 - Table of manipulator with vacuum clamping

Info

Publication number: CS240699B1
Application number: CS848380A
Authority: CS
Inventors: Vladimir Kolarik; Miroslav Florian
Original assignee: Vladimir Kolarik; Miroslav Florian
Priority date: 1984-10-05
Filing date: 1984-10-05
Publication date: 1986-02-13
Also published as: CS838084A1

Abstract

Stolek sestává z kotouče, opatřeného na rovinné čelní ploše zápichy, spojenými s čerpacím kanálkem, a na protičele kulovou dosedací plochou. Podstatou zařízení je, že obvod kotouče, navazující na rovinnou čelní plochu je opatřen bikónickou drážkou, ve které je umístěn pružný prstencový kroužek, jehož čelo přesahuje přes rovinnou čelní plochu. Separační zdvih s, nutný při vzájemném pohybu substrátu a masky nebo nosné kazety, obstarává pružný prstencový kroužek v závislosti na tom', zda je mezi substrátem a stolkem podtlak, či ne. Zařízení je určeno k napínání substrátu nebo masky, například v elektronovém litografu.The stage consists of a disc, provided on the flat front surface with notches connected to the pumping channel, and on the opposite face with a spherical bearing surface. The essence of the device is that the circumference of the disc, connecting to the flat front surface, is provided with a biconical groove, in which a flexible annular ring is placed, the front of which protrudes beyond the flat front surface. The separation stroke s, necessary for the mutual movement of the substrate and the mask or the carrier cassette, is provided by the flexible annular ring depending on whether there is a vacuum between the substrate and the stage or not. The device is intended for tensioning the substrate or mask, for example in an electron lithography.

Description

Vynález se týká stolku manipulátoru s vakuovým upínáním substrátu nebo masky·BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a vacuum clamping stage for a substrate or mask.

Při zpracování substrátů a polovodivých materiálů v mikroelektronice se velmi často objevuje operace, při níž je nutno s vysokou přesností nastavit vzájemnou polohu bui substrátu a masky, nebo substrátu a nosné kazety. V okamžiku, kdy je dosaženo požadované vzájemné polohy, je substrát s mas kou nebo nosnou kazetou v mechanickém kontaktu, ale v procesu nastavování, kdy dochází ke vzájemnému pohybu, je nutno zajistit mezi vzájemně se pohybujícími povrchy tzv. separační vzdálenost v rozsahu hloubky ostrosti mikroskopu, kterým se proces nastavování pozoruje.In the processing of substrates and semiconducting materials in microelectronics, an operation often occurs, in which the position of either the substrate and the mask or of the substrate and the carrier cassette must be adjusted with high precision. When the desired relative position is reached, the substrate with the mask or carrier cassette is in mechanical contact, but in the alignment process where the relative movement occurs, it is necessary to provide a separation distance between the moving surfaces within the depth of field of the microscope by which the adjustment process is observed.

U dosavadních manipulátorů se k vytvoření separační vzdálenosti obvykle používá pákových mechanismů, které jsou obvykle mechanicky složité a náročné na přesnost.In prior art manipulators, lever mechanisms are usually used to create separation distances, which are usually mechanically complex and precision-intensive.

Dosavadní stav zjednodušuje stolek manipulátoru s vakuovým upínáním, sestávající z kotouče, opatřeného na rovinné čelní ploše zápichy spojenými s čerpacím kanálkem a na protičele kulovou dosedací plochou, jehož podstatou je, že obvod kotouče, navazující na rovinnou čelní plochu je opatřen bikónickou drážkou, ve které je umístěn pružný prstencový kroužek, jehož čelo přesahuje přes rovinnou čelní plochu.The prior art is simplified by a vacuum clamping table comprising a disc provided with a recess on the flat face of the recess and a spherical bearing surface on the opposite face of the disc, the circumference of the disc adjoining the flat face being provided with a bicononic groove. a resilient annular ring is disposed, the face of which extends over a planar face.

Hlavní předností stolku manipulátoru je, že umožňuje separační zdvih stolku se substrátem, potřebný pro rychlou a přesnou manipulaci za provozu.The main advantage of the manipulator stage is that it enables the separation stage of the stage with the substrate needed for fast and accurate handling during operation.

240 699240 699

Řešení podle vynálezu blíže objasní přiložený výkres, kde na obr. 1 je znázorněn v osovém řezu stolek manipulátoru se substrátem ve stavu, kdy substrát je v mechanickém kontaktu s maskou nebo nosnou kazetou, přičemž prostor mezi stolkem a substrátem není evakuovón, obr. 2 znázorňuje stav, kdy mezi substrátem a maskou nebo nosnou kazetou je vytvořena separační vzdálenost s, přičemž prostor mezi stolkem a substrátem je evakuován.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an axial sectional view of a substrate manipulator stage in a state where the substrate is in mechanical contact with a mask or carrier cassette, wherein the space between the stage and the substrate is not evacuated; FIG. a condition wherein a separation distance s is formed between the substrate and the mask or support cassette, wherein the space between the stage and the substrate is evacuated.

Stolek 2 je na jednom čele opatřen kulovou plochou £, která dosedá do kulového lůžka manipulátoru 2. Protilehlá rovinná čelní plocha 8 je opatřena čelními zápichy 2» vzájemně propojenými a spojenými s čerpacím kanálkem £. Čelní plocha 8, na niž se upíná substrát ť>, navazuje na bikónickou drážku 10. ve které je umístěn pružný prstencový kroužek Maska nebo nosná kazeta J je pevně spojena β rámem manipulátoru 2,The table 2 is provided on one face with a spherical surface 6 which abuts the spherical bed of the manipulator 2. The opposite planar face 8 is provided with face grooves 2 interconnected and connected to the pump channel. The front surface 8, on which the substrate ť is fixed, adjoins the biconical groove 10, in which a resilient annular ring is placed.

Substrát 6 se pokládá na čelní plochu 8 stolku 2· Po při ložení masky nebo nosné kazety J zaujme stolek se substrátem 6, díky kulové ploše £, polohu rovnoběžnou s maskou nebo nosnou kazetou J. Vyčerpá-li se čerpacím kanálkem £ a čelními zápichy £ prostor pod substrátem £, dosedne substrát 6 na čelní plochu 8 stolku 2» přičemž pružný prstencový kroužek 2 se přemístí na vzdálenější kuželovou plochu bikónické drážky 10. Substrát 6 se vzdálí od masky nebo nosné kazety J o separační vzdálenost s a je umožněn vzájemný pohyb substrátu 6 a masky nebo nosné kazety J bez nebezpečí poškození povrchů. Po zavzdušnění prostoru pod substrátem 6 se přemístí pružný prstencový kroužek £ do nejnižšího místa bikónické drážky JO a přitiskne substrát 6 k masce nebo nosné kazetěThe substrate 6 is laid on the front surface 8 of the stage 2. After inserting the mask or carrier cassette J, the substrate stage 6, due to the spherical surface 8, assumes a position parallel to the mask or carrier cassette J. below the substrate 6, the substrate 6 abuts the face 8 of the table 2, wherein the resilient annular ring 2 is displaced to the distal conical surface of the biconical groove 10. The substrate 6 moves away from the mask or carrier cassette by a separation distance s allowing mutual movement of the substrate 6 and masks or carrier cassettes J without risk of damage to the surfaces. After the space under the substrate 6 has been aerated, the elastic annular ring 6 is moved to the lowest point of the biconical groove 10 and presses the substrate 6 against the mask or carrier cassette.

Vynález je určen k upínání substrátu£nebo masky, například v elektronovém litografu.The invention is intended to clamp a substrate 6 or mask, for example in an electron beam lithograph.

Claims

PftEDMČT vrsílEzv _240β99

Vacuum clamp manipulator table, consisting of a disc provided on the flat face of the recess, connected to the pumping channel and on the opposite face with a spherical bearing surface, characterized in that the circumference of the disc adjoining the flat face (8) is provided with a bicononic groove ¢ 1) in which a resilient annular ring (4) is disposed, the face of which extends over a planar face (8).