CS229970B1 - Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni - Google Patents
Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni Download PDFInfo
- Publication number
- CS229970B1 CS229970B1 CS932781A CS932781A CS229970B1 CS 229970 B1 CS229970 B1 CS 229970B1 CS 932781 A CS932781 A CS 932781A CS 932781 A CS932781 A CS 932781A CS 229970 B1 CS229970 B1 CS 229970B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- bath
- gold
- gold plating
- nhr
- potassium
- Prior art date
Links
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 10
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 2
- VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-fluorophenyl)-methyl-(1,2,4-triazol-1-ylmethyl)silane;methyl n-(1h-benzimidazol-2-yl)carbamate Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1.C=1C=C(F)C=CC=1[Si](C=1C=CC(F)=CC=1)(C)CN1C=NC=N1 VQLYBLABXAHUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 claims description 3
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical compound NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims 2
- 230000000447 dimerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- -1 cobalt Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- RPKSXPXPCDSBCZ-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])C#N.[K+].[K+] Chemical compound B([O-])([O-])C#N.[K+].[K+] RPKSXPXPCDSBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJRVSSUCOHZSHP-UHFFFAOYSA-N [As].[Au] Chemical compound [As].[Au] VJRVSSUCOHZSHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001371 alpha-amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000008206 alpha-amino acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N gold silver Chemical compound [Ag].[Au] PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000011 group IA salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Vynález se týká lázně pro lesklé galvanické zlacení při použití ryzího nebo legovaného zlata v roztoku, který obsahuje kyanokomplexy zlata, organické nebo anorganické kyseliny i báze, nebo jejich soli. V lázni se udržuje pH od 3 do 11 a je v ní obsažena nejméně jedna organická leskutvorná přísada.
229 970
Dosud známé lázně pro lesklé galvanické zlacení z roztoku kyanokomplexu zlata v oblasti pH 3 až 11 využívají převážně leskutvorného účinku sloučenin kovů. V rozsahu pH 3 až 5 jsou to hlavně kobalt, nikl nebo zinek, pH 5 až 7 je to arzen a pro pH 7 až 11 se používají stříbro nebo měá. Další přísady organického typu jsou aldehydy, deriváty hydrazinu a hydroxylonů, aminy a polyalkyleniminy. Použití aldehydů omezuje oxidace a někdy také redukce zlata z roztoku. Hydrazin má více význam technický hlavně pro potlačení vlivu dipólů při hromadném zlacení. Vliv aminů se projevuje až při vysoké koncentraci, kdy současně dochází k jejich chemickým změnám za tvorby nežádoucích nečistot. Polyalkyleniminy mají vysokou účinnost, ale současně nepříznivý vliv na vnitřní pnutí a adhezi povlaku.
Uvedené nedostatky odstraňuje lázeň podle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom, že obsahuje leskutvornou organickou přísadu v množství 0,001 g/l až 10 g/l odvozenou od formamidu či oxamidu obecného vzorce
X - C = NH i
R kde R je alkyl, aryl, substituovaný alkyl, substituovaný*ary1 a CN, nebo dimérová skupina i
Y - C = NH a X, Y jsou - SH, - SR, - NH, - NRg, - NHR, - NHR2< Nejvýhodnější koncentrace v lázni podle vynálezu je 0,05 až 1 g/l.
Leskutvorná přísada v lázni podle vynálezu umožňuje dosažení vysokého lesku bez dalších leskutvorných přísad a nebo umožňuje přísady leskutvorných kovů snížit na neobvykle nízkou koncentraci. Je známo, že leskutvorný účinek některých kovů, hlavně kobaltu, je doprovázen při vysoké koncentraci znečiš- 3229 970 íováním povlaku uhlíkatými sloučeninami. Ty mají negativní vliv na barvu vyloučeného zlata, na elektrotechnické vlastnosti a roztékavost pájky při letování. Přísadou podle vynálezu jsou tyto účinky potlačeny nebo značně zeslabeny. Mohou být vylučovány ryzí, nejčistší povlaky zlata z roztoků se silně komplexačním účinkem k potlačení nežádoucího vylučování kovů, přítomných jako nečistoty. Dále mohou být v lázni přítomny všechny kovy používané k legování zlata. Přidávají se ve formě komplexních sloučenin nebo vytváří komplex v lázni. Přísady podle vynálezu jsou obzvláště vhodné pro vylučování slitiny s obsahem kobaltu 0,01 g/l až 0,3 g/l v lázni. Pro rychlé zlacení se používá lázně s obsahem 8 až 16 g/l při teplotě 40 až 60 Ca proudové hustotě od 0 až 4 A/dm a je možno dosáhnout vyloučení vrstvy zlata o tloušíce 1/tM za 2 minuty. Tyto povlaky se vyznačují vysokou čis totou, dobrou pájitelností, ryzostí 99»9/° a tvrdostí 110 až 150 HV. Lázeň podle vynálezu je v provozu dlouhodobě stálá. Přísady podle vynálezu jsou rovněž vhodné pro vylučování vysoce legovaných povlaků směsi zlata a stříbra, kterého může být v povlaku až 70$. Stříbro je přidáváno jako kyanokomplex. Rovněž jsou vhodné pro vylučování výborně pájitelných povlaků zlata nízkolegovaných arzénem. Lázeň při pH 3 až 11 obsahuje rozpustnou alkalickou sůl organických nebo anorganických kyselin v koncentraci 10 až 200 g/l. Při pří vyšším než 8 může také obsahovat volné kyanidy, vzniklé elektrolýzou kyanokomplexů. Komplexotvorné látky se volí podle odborníkům známých informací v závislosti na koncentraci legujících kovů a požadovaného stupně nalegování.
Jsou to hlavně alifatické hydroxykyseliny, polykarbonové kyseliny a alfaaminokyseliny, které mají na dusíku vázané nejméně dvě karboxylové skupiny, dále fosfoniové komplexační látky N,
Ν’, Ν’’, Ν’”, - tetrakis hydroxyalkyl ethylendiaminy a podobně.
- 4 229 970
Pro vylučování kvalitních povlaků je nezbytný pohyb katody.
V dalším popisu jsou uvedeny příklady konkrétních lázní podle vynálezu.
Příklad 1
| Kyanozlatan draselný | 18 | g/1 |
| Kyselina heptaglukonová | 4o | g/1 |
| Kyselina citrónová | 20 | g/1 |
| Pyrofosforečnan draselný | 60 | g/1 |
| N’,N’’,N’”,N”” tetrakishydroxypropyl- | -etylendiamin 5 | g/1 |
Kobaltový kation Co2+ 0,2 g/1
Dihydrazo-oxaldiimin (příklad 1.) 0,06 g/1 pH upraveno KOH 4,3
Teplota (°C) 6θ
Proudová hustota D (A/dm ) 2
Iv
Příklad 2
Kyanozlatan draselný 12 g/1
Ethylendiamintetraoctová kyselina 100 g/1
Kyselý fosforečnan draselný 30 g/1 pH upraveno KOH 5 l-methylhydrazo-2-thio-oxaldiimin (Příklad 5.) 0,8 g/1
Teplota (°C) 40 až 50
Příklad 3
Fosforečnan draselný střední 100 g/1
Ethylendiamin tetra(methylenfosfoniová kyselina) 30 g/1
Kyanozlatan draselný 9 g/l
Kyanostříbrnan draselný 3,5 g/l pH upraveno KOH , 9
Di(methylthio)-oxaldiimin (příklad 2.) 0,2 g/l
Teplota (°C) 25
- 5 229 970
Příklad 4
Kyanozlatan draselný
Metaarsenitan sodný
Pyrofosforečnan draselný Kyselina boritá Nitrilo-thioamid (příklad 3.) pH
Teplota (°c) g/l'
0,08 g/1 20 g/1
0.25 g/1 0,25 g/1
5,8
Konkrétní příklady leskutvorných přísad ve vzorcích:
1.
2.
3.
HgN - HN - C = NH
HgN - HN - C = NH
Clí S - C = NH
1
CH^S - C = NH
HS - C - NH
CN
NH
5«
HS - C = NH
CH NH - HN - C = NH
Claims (1)
- Předmět vynálezu229 970Lázeň pro lesklé galvanické zlacení, mající pH 3 až 11 a obsahující kyanokomplexy zlata., organické nebo anorganické kyseliny i báze nebo jejich soli a nejméně jednu leskutvornou organickou přísadu, vyznačená tím, že obsahuje leskutvornou organickou přísadu v množství 0,001 g/1 až 10 g/1 odvozenou od formamidu či oxamidu obecného vzorceX - C = NHR kde R je alkyl, aryl, substituovaný alkyl, substituovaný aryl a CN, nebo dimerizační skupina o vzorciY - C = NH a X, Y jsou -SH, -SR, -NH, -NRg, -NHR, -NHRg.Vytiskly Moravské tiskařské závody,
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS932781A CS229970B1 (cs) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS932781A CS229970B1 (cs) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS229970B1 true CS229970B1 (cs) | 1984-07-16 |
Family
ID=5443960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS932781A CS229970B1 (cs) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS229970B1 (cs) |
-
1981
- 1981-12-15 CS CS932781A patent/CS229970B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3785939A (en) | Tin/lead plating bath and method | |
| KR101502804B1 (ko) | Pd 및 Pd-Ni 전해질 욕조 | |
| US4246077A (en) | Non-cyanide bright silver electroplating bath therefor, silver compounds and method of making silver compounds | |
| US4126524A (en) | Silver complex, method of making said complex and method and electrolyte containing said complex for electroplating silver and silver alloys | |
| US4118289A (en) | Tin/lead plating bath and method | |
| US4331518A (en) | Bismuth composition, method of electroplating a tin-bismuth alloy and electroplating bath therefor | |
| KR19990045291A (ko) | 팔라듐 합금 전기도금용 조성물 및 이를 사용하는 전기도금법 | |
| KR20080052479A (ko) | 무전해 금도금욕, 무전해 금도금 방법 및 전자 부품 | |
| CN102308030B (zh) | 含银合金电镀浴以及使用该电镀浴的电解电镀方法 | |
| US4135991A (en) | Bath and method for electroplating tin and/or lead | |
| EP0304315B1 (en) | Bath for electrolytic deposition of a gold-copper-zinc alloy | |
| US4310392A (en) | Electrolytic plating | |
| DE3339541C2 (de) | Alkalisch-cyanidisches Bad zur galvanischen Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsüberzügen | |
| JPS62278293A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
| US3770596A (en) | Gold plating bath for barrel plating operations | |
| US3468676A (en) | Electroless gold plating | |
| EP2730682A1 (en) | Alkaline, cyanide-free solution for electroplating of gold alloys, a method for electroplating and a substrate comprising a bright, corrosion-free deposit of a gold alloy | |
| US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
| CS229970B1 (cs) | Lázeň pro lesklé galvanické zlaceni | |
| GB2264717A (en) | Cyanide-free copper plating bath | |
| US4465564A (en) | Gold plating bath containing tartrate and carbonate salts | |
| CN112626575A (zh) | 一种用于合金的表面电镀液及电镀工艺 | |
| GB2053280A (en) | Silver electrodeposition compositions and process | |
| US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
| US3475290A (en) | Bright gold plating solution and process |