CS219227B1 - Vibrační způsob čištění povrchu výrobků - Google Patents

Vibrační způsob čištění povrchu výrobků Download PDF

Info

Publication number
CS219227B1
CS219227B1 CS429581A CS429581A CS219227B1 CS 219227 B1 CS219227 B1 CS 219227B1 CS 429581 A CS429581 A CS 429581A CS 429581 A CS429581 A CS 429581A CS 219227 B1 CS219227 B1 CS 219227B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
cleaning
products
vibration
articles
work surfaces
Prior art date
Application number
CS429581A
Other languages
English (en)
Inventor
Zdenek Danicek
Dusan Mrazek
Original Assignee
Zdenek Danicek
Dusan Mrazek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zdenek Danicek, Dusan Mrazek filed Critical Zdenek Danicek
Priority to CS429581A priority Critical patent/CS219227B1/cs
Publication of CS219227B1 publication Critical patent/CS219227B1/cs

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

Vynález se týká vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, zejména polovodičových destiček po různém stupni opracování a zařízení pro provádění způsobu čistění. Účelem vynálezu je zvýšení kapacity čisticího* zařízení a. zlepšení kvality povrchu čištěného výrobku. Uvedeného účelu se dosáhne použitím vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, jehož podstatou je vložení výrobků v prostředí čisticího média na jednu nebo* mezi dvě pracoivní plochy tvořené potahem z vhodného* měkkého materiálu a vibrujícími frekvencí menší než 1000 Hz.

Description

Vynález se týká vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, zejména polovodičových destiček po různém stupni opracování a zařízení pro provádění způsobu čistění.
Účelem vynálezu je zvýšení kapacity čisticího* zařízení a. zlepšení kvality povrchu čištěného výrobku.
Uvedeného účelu se dosáhne použitím vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, jehož podstatou je vložení výrobků v prostředí čisticího média na jednu nebo* mezi dvě pracoivní plochy tvořené potahem z vhodného* měkkého materiálu a vibrujícími frekvencí menší než 1000 Hz.
Vynález se týká vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, zejména póvrchu polovodičových destiček po různém stupni opracování broušením, řezáním a leštěním.
Pro čištění povrchu výrobků jsou používány metody, jež používají ultrazvukové pole šířené pomocí měničů do kapalného popřípadě plynného prostředí vhodného média, Výrobky případně polotovary jsou vkládány do nosníků, se kterými jso-u přenášeny do nádoby, kde je umístěn buď čisticí roztok nebo páry čisticího roztoku. Ultrazvukové pole je šířeno1 do objemu nádoby ze dna nebo z některé ze stěn nádoby, kde je umístěn jeden nebo- více měničů. Během čisticího procesu v závislosti na fyzikálních podmínkách dochází k odstraňování části nečistot s povrchu výrobků nebo* polotovarů. Vzhledem k tomu, že ultrazvukové pole je v nádobě značně nehomogenní, je nutno s noisníky pohybovat — i toto však je nedostačující a proto se přešlo k jednotlivě volně loženým výrobkům na dně čisticí nádoby, v některých případech podložených jemným sítem. Touto úpravou byla sice zlepšena kvalita povrchu čištěných výrobků, ale zároveň došlo- ke značnému snížení kapacity zařízení. Sítko, popřípadě jiný vhodný přípravek, musí být voleno tak, aby nenarušovalo nežádoucím způsobem čištěný poýrch. Výrobky se musí vystavovat působení ultrazvukového po-le ze všech čištěných stran, čímž je značně snížena kapacita zařízení. V některých případech se na čištění hrubých nečistot používalo ruční omývání tamponem nebo kartáčem v tekoucí čisticí látce.
Výše uvedené nedostatky jsou odstraněny vibračními způsobem čištění povrchu výrobků podle vynálezu, jehož podstatou je, že se výrobky v prostředí čisticího média přitlačují na jednu nebo- mezi dvě pracovní plochy, které vibrují složeným pohybem frekvencí menší než lOiOíO Hz. Přítlak na čištěný výrobek je možno definovaně měnit. Pracovní plochy jsou tvořeny potahem z měkkého materiálu například sametu. Výrobky je možno- též vkládat do oddělovacího přípravku s otvory, který zamezuje bočnímu styku výrobků.
Vibračním způsobem čištění se dosáhne dokonalejšího odstranění nečistot s poVrchu výrobků. Čisticí proces je zvýrazněn použitím vhodného potahu vibrujících pracovních' ploch, který změkčuje vibrace a s pomocí čisticího roztoku vyplachuje členitý po-vrch výrobků nebo polotovarů po různém stupni opracování. Na rozdíl od ultrazvukového1 pole dochází k mechanickému vymývání nečistot s povrchu výrobků.
Na výkresu je znázorněn příklad způsobu uspořádání při čištění a zařízení v řezu. Příklad konkrétního provedení
Generátor kmitů 1, na kterém je umístěna nádoba pro čisticí roztok 6, má kmitočet odvožen od sítového napětí 220 V 50 Hz. Polovodičové destičky jsou vkládány vedle sebe nebo do- oddělovacího- přípravku 9 na dolní pracovní plochu 3 tvořenou potahem ze sametu, upevněným na vibračním kotouči 2 tak, aby zaplnily celou pracovní plochu
3. Po narovnání se destičky 8 přelijí 101% vodným roztokem saponátu tak, aby výškahladiny byla nad destičkami 8 cca 10 mm. Na narovnané a zalité delstičky 8 je vložena horní přítlačná pracovní plocha 5, tvořená potahem ze sametu a upevíněná na přítlačném kotouči 7. Spuštěním generátoru 1, který je uspořádán tak, že vystupující polej je točivé,, dochází pak ke směrovaným vibracím pracovní plochy 3, frekvencí 1GQ Hz. Přes tyto- prvky dochází k pohybu polovodičových destiček 8 po pracóvní ploše 3 a k přenosu vibrací a točivého pohybu na horní přítlačnou pracovní plochu S. Přítlakem 7 g/ /cm2 horní přítlačné pracovní plochy 5 á nastavením generátoru kmitů 1 na 501% až 60 procent výkonu je daná čisticí intenzita. Vlastní čisticí proces je nastaven na dobu 3 min.

Claims (4)

  1. pRedmEt
    1. Vibrační způsob čištění povrchu výrobků, zejména polovodičových deštiček v prostředí čisticího- média, vyznačený tím, že se výrobky (8) přitlačují na pracovní plochu (3) vibrující složeným pohybem frekvencí menší.. než 1000 Hz.
  2. 2. Vibrační způsob čištění povrchu výrobků podle b-odu 1 vyznačený tím, že se výrobky (8] vkládali mezi dvě vibrující pracovní plochy (3, 5), jejichž přítlak na čištěný výrobek (8] je definovaně měněn v rolzmezí 1 až 100 ig/cm2;
    vynalezu
  3. 3. Zařízení ip.ro provádění -vibračního způsobu čištění podle bodů 1 a 2, složené z generátoru kmitů, přítlačného zařízení a pracovních ploch, vyznačené tím, že pracovní plochy (3, 5). jsou tvořeny potahem z měkkého materiálu, např. sametu.
  4. 4. Zařízení pro provádění vibračního způsobu čištění podle bodu 3 vyznačené tím, že je opatřeno oddělovacím přípravkem (9) pro vkládání výrobků (8).
CS429581A 1981-06-09 1981-06-09 Vibrační způsob čištění povrchu výrobků CS219227B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS429581A CS219227B1 (cs) 1981-06-09 1981-06-09 Vibrační způsob čištění povrchu výrobků

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS429581A CS219227B1 (cs) 1981-06-09 1981-06-09 Vibrační způsob čištění povrchu výrobků

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS219227B1 true CS219227B1 (cs) 1983-03-25

Family

ID=5385343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS429581A CS219227B1 (cs) 1981-06-09 1981-06-09 Vibrační způsob čištění povrchu výrobků

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS219227B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2860646A (en) Apparatus for the cleaning of metal parts
US5626159A (en) Apparatus for cleaning semiconductor wafers
US2616820A (en) Vibratory cleansing of objects
US3222221A (en) Ultrasonic cleaning method and apparatus
KR900000174B1 (ko) 기판(substrate)의 세정과 건조방법 및 이 방법에 사용하는 장치
DE2523631C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ultraschallreinigung
US5337446A (en) Apparatus for applying ultrasonic energy in precision cleaning
US3175567A (en) Apparatus for effecting ultrasonic cleaning of the interior of vessels
NL8201938A (nl) Inrichting voor het reinigen van halfgeleiderplaatjes.
US4432380A (en) Apparatus for removing optical component blanks from a blocking tool
US5816274A (en) Apparartus for cleaning semiconductor wafers
US4090937A (en) Electrophoretic technique for varying the concentration of a colloidal solution
KR100526192B1 (ko) 웨이퍼 세정장치 및 세정방법
CS219227B1 (cs) Vibrační způsob čištění povrchu výrobků
JPH049670A (ja) 分析装置
US3214871A (en) Apparatus and method for treating coated electrodes and the like
US3135274A (en) Tube cleansing apparatus
US2410213A (en) Electrolytic can cleaner
JPH0581314B2 (cs)
US4001984A (en) Method for finishing parts
JP2005085978A (ja) 枚葉式洗浄方法及び洗浄装置
KR101971440B1 (ko) 식판 세정장치
JPH06126260A (ja) 超音波洗浄方法及び洗浄液
JP3163525B2 (ja) もやし精製装置
US1717647A (en) Process for peeling peaches