CS219227B1 - Vibrační způsob čištění povrchu výrobků - Google Patents
Vibrační způsob čištění povrchu výrobků Download PDFInfo
- Publication number
- CS219227B1 CS219227B1 CS429581A CS429581A CS219227B1 CS 219227 B1 CS219227 B1 CS 219227B1 CS 429581 A CS429581 A CS 429581A CS 429581 A CS429581 A CS 429581A CS 219227 B1 CS219227 B1 CS 219227B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- cleaning
- products
- vibration
- articles
- work surfaces
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007779 soft material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 abstract 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Vynález se týká vibračního způsobu čištění
povrchu výrobků, zejména polovodičových
destiček po různém stupni opracování
a zařízení pro provádění způsobu čistění.
Účelem vynálezu je zvýšení kapacity čisticího*
zařízení a. zlepšení kvality povrchu
čištěného výrobku.
Uvedeného účelu se dosáhne použitím vibračního
způsobu čištění povrchu výrobků,
jehož podstatou je vložení výrobků v prostředí
čisticího média na jednu nebo* mezi
dvě pracoivní plochy tvořené potahem z
vhodného* měkkého materiálu a vibrujícími
frekvencí menší než 1000 Hz.
Description
Vynález se týká vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, zejména polovodičových destiček po různém stupni opracování a zařízení pro provádění způsobu čistění.
Účelem vynálezu je zvýšení kapacity čisticího* zařízení a. zlepšení kvality povrchu čištěného výrobku.
Uvedeného účelu se dosáhne použitím vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, jehož podstatou je vložení výrobků v prostředí čisticího média na jednu nebo* mezi dvě pracoivní plochy tvořené potahem z vhodného* měkkého materiálu a vibrujícími frekvencí menší než 1000 Hz.
Vynález se týká vibračního způsobu čištění povrchu výrobků, zejména póvrchu polovodičových destiček po různém stupni opracování broušením, řezáním a leštěním.
Pro čištění povrchu výrobků jsou používány metody, jež používají ultrazvukové pole šířené pomocí měničů do kapalného popřípadě plynného prostředí vhodného média, Výrobky případně polotovary jsou vkládány do nosníků, se kterými jso-u přenášeny do nádoby, kde je umístěn buď čisticí roztok nebo páry čisticího roztoku. Ultrazvukové pole je šířeno1 do objemu nádoby ze dna nebo z některé ze stěn nádoby, kde je umístěn jeden nebo- více měničů. Během čisticího procesu v závislosti na fyzikálních podmínkách dochází k odstraňování části nečistot s povrchu výrobků nebo* polotovarů. Vzhledem k tomu, že ultrazvukové pole je v nádobě značně nehomogenní, je nutno s noisníky pohybovat — i toto však je nedostačující a proto se přešlo k jednotlivě volně loženým výrobkům na dně čisticí nádoby, v některých případech podložených jemným sítem. Touto úpravou byla sice zlepšena kvalita povrchu čištěných výrobků, ale zároveň došlo- ke značnému snížení kapacity zařízení. Sítko, popřípadě jiný vhodný přípravek, musí být voleno tak, aby nenarušovalo nežádoucím způsobem čištěný poýrch. Výrobky se musí vystavovat působení ultrazvukového po-le ze všech čištěných stran, čímž je značně snížena kapacita zařízení. V některých případech se na čištění hrubých nečistot používalo ruční omývání tamponem nebo kartáčem v tekoucí čisticí látce.
Výše uvedené nedostatky jsou odstraněny vibračními způsobem čištění povrchu výrobků podle vynálezu, jehož podstatou je, že se výrobky v prostředí čisticího média přitlačují na jednu nebo- mezi dvě pracovní plochy, které vibrují složeným pohybem frekvencí menší než lOiOíO Hz. Přítlak na čištěný výrobek je možno definovaně měnit. Pracovní plochy jsou tvořeny potahem z měkkého materiálu například sametu. Výrobky je možno- též vkládat do oddělovacího přípravku s otvory, který zamezuje bočnímu styku výrobků.
Vibračním způsobem čištění se dosáhne dokonalejšího odstranění nečistot s poVrchu výrobků. Čisticí proces je zvýrazněn použitím vhodného potahu vibrujících pracovních' ploch, který změkčuje vibrace a s pomocí čisticího roztoku vyplachuje členitý po-vrch výrobků nebo polotovarů po různém stupni opracování. Na rozdíl od ultrazvukového1 pole dochází k mechanickému vymývání nečistot s povrchu výrobků.
Na výkresu je znázorněn příklad způsobu uspořádání při čištění a zařízení v řezu. Příklad konkrétního provedení
Generátor kmitů 1, na kterém je umístěna nádoba pro čisticí roztok 6, má kmitočet odvožen od sítového napětí 220 V 50 Hz. Polovodičové destičky jsou vkládány vedle sebe nebo do- oddělovacího- přípravku 9 na dolní pracovní plochu 3 tvořenou potahem ze sametu, upevněným na vibračním kotouči 2 tak, aby zaplnily celou pracovní plochu
3. Po narovnání se destičky 8 přelijí 101% vodným roztokem saponátu tak, aby výškahladiny byla nad destičkami 8 cca 10 mm. Na narovnané a zalité delstičky 8 je vložena horní přítlačná pracovní plocha 5, tvořená potahem ze sametu a upevíněná na přítlačném kotouči 7. Spuštěním generátoru 1, který je uspořádán tak, že vystupující polej je točivé,, dochází pak ke směrovaným vibracím pracovní plochy 3, frekvencí 1GQ Hz. Přes tyto- prvky dochází k pohybu polovodičových destiček 8 po pracóvní ploše 3 a k přenosu vibrací a točivého pohybu na horní přítlačnou pracovní plochu S. Přítlakem 7 g/ /cm2 horní přítlačné pracovní plochy 5 á nastavením generátoru kmitů 1 na 501% až 60 procent výkonu je daná čisticí intenzita. Vlastní čisticí proces je nastaven na dobu 3 min.
Claims (4)
- pRedmEt1. Vibrační způsob čištění povrchu výrobků, zejména polovodičových deštiček v prostředí čisticího- média, vyznačený tím, že se výrobky (8) přitlačují na pracovní plochu (3) vibrující složeným pohybem frekvencí menší.. než 1000 Hz.
- 2. Vibrační způsob čištění povrchu výrobků podle b-odu 1 vyznačený tím, že se výrobky (8] vkládali mezi dvě vibrující pracovní plochy (3, 5), jejichž přítlak na čištěný výrobek (8] je definovaně měněn v rolzmezí 1 až 100 ig/cm2;vynalezu
- 3. Zařízení ip.ro provádění -vibračního způsobu čištění podle bodů 1 a 2, složené z generátoru kmitů, přítlačného zařízení a pracovních ploch, vyznačené tím, že pracovní plochy (3, 5). jsou tvořeny potahem z měkkého materiálu, např. sametu.
- 4. Zařízení pro provádění vibračního způsobu čištění podle bodu 3 vyznačené tím, že je opatřeno oddělovacím přípravkem (9) pro vkládání výrobků (8).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS429581A CS219227B1 (cs) | 1981-06-09 | 1981-06-09 | Vibrační způsob čištění povrchu výrobků |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS429581A CS219227B1 (cs) | 1981-06-09 | 1981-06-09 | Vibrační způsob čištění povrchu výrobků |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS219227B1 true CS219227B1 (cs) | 1983-03-25 |
Family
ID=5385343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS429581A CS219227B1 (cs) | 1981-06-09 | 1981-06-09 | Vibrační způsob čištění povrchu výrobků |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS219227B1 (cs) |
-
1981
- 1981-06-09 CS CS429581A patent/CS219227B1/cs unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2860646A (en) | Apparatus for the cleaning of metal parts | |
US5626159A (en) | Apparatus for cleaning semiconductor wafers | |
US2616820A (en) | Vibratory cleansing of objects | |
US3222221A (en) | Ultrasonic cleaning method and apparatus | |
KR900000174B1 (ko) | 기판(substrate)의 세정과 건조방법 및 이 방법에 사용하는 장치 | |
DE2523631C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Ultraschallreinigung | |
US5337446A (en) | Apparatus for applying ultrasonic energy in precision cleaning | |
US3175567A (en) | Apparatus for effecting ultrasonic cleaning of the interior of vessels | |
NL8201938A (nl) | Inrichting voor het reinigen van halfgeleiderplaatjes. | |
US4432380A (en) | Apparatus for removing optical component blanks from a blocking tool | |
US5816274A (en) | Apparartus for cleaning semiconductor wafers | |
US4090937A (en) | Electrophoretic technique for varying the concentration of a colloidal solution | |
KR100526192B1 (ko) | 웨이퍼 세정장치 및 세정방법 | |
CS219227B1 (cs) | Vibrační způsob čištění povrchu výrobků | |
JPH049670A (ja) | 分析装置 | |
US3214871A (en) | Apparatus and method for treating coated electrodes and the like | |
US3135274A (en) | Tube cleansing apparatus | |
US2410213A (en) | Electrolytic can cleaner | |
JPH0581314B2 (cs) | ||
US4001984A (en) | Method for finishing parts | |
JP2005085978A (ja) | 枚葉式洗浄方法及び洗浄装置 | |
KR101971440B1 (ko) | 식판 세정장치 | |
JPH06126260A (ja) | 超音波洗浄方法及び洗浄液 | |
JP3163525B2 (ja) | もやし精製装置 | |
US1717647A (en) | Process for peeling peaches |