CS197943B1 - Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance - Google Patents

Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance Download PDF

Info

Publication number
CS197943B1
CS197943B1 CS431978A CS431978A CS197943B1 CS 197943 B1 CS197943 B1 CS 197943B1 CS 431978 A CS431978 A CS 431978A CS 431978 A CS431978 A CS 431978A CS 197943 B1 CS197943 B1 CS 197943B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
diodes
soldered
dielectric protective
covering
porous
Prior art date
Application number
CS431978A
Other languages
Czech (cs)
Slovak (sk)
Inventor
Dusan Svorc
Vladimir Bartovic
Original Assignee
Dusan Svorc
Vladimir Bartovic
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dusan Svorc, Vladimir Bartovic filed Critical Dusan Svorc
Priority to CS431978A priority Critical patent/CS197943B1/en
Publication of CS197943B1 publication Critical patent/CS197943B1/en

Links

Landscapes

  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Description

ČESKOSLOVENSKÁ SOCIALISTICKÁCZECHOSLOVAK SOCIALISTIC

REPUBLIKA * ( 19 )REPUBLIC * (19) \ t

POPIS VYNÁLEZUDESCRIPTION OF THE INVENTION

K AUTORSKÉMU OSVEDČENIU (61) (23) Výstavná priorita (22) Přihlášené 30 06 78 (21) PV 4319-78 197 943 (11) (Bl) (51) Int el. H 01 L 21/94TO THE COPYRIGHT CERTIFICATE (61) (23) Show Priority (22) Enrolled 30 06 78 (21) PV 4319-78 197 943 (11) (Bl) (51) Int el. H 01 L 21/94

ÚŘAD PRO VYNÁLEZYOFFICE OFFICE

A OBJEVY (40) Zverejnené 31 08 79(45) Vydané 01 6 82AND DISCOVERIES (40) Published 31 08 79 (45) Published 01 6 82

Autor vynálezu ŠVORC DUŠAN mg.The inventor of ŠVORC DUŠAN mg.

BARTOVIC VLADIMÍR ing., PIEŠŤANY (54) Sposob pokrývania diod s axiálnymi prívodmi dielektrickou ochrannou hmotou 1BARTOVIC VLADIMÍR ing., PIEŠŤANY (54) Method of covering diodes with dielectric protective material axial inlets 1

Vynález sa týká sposobu pokrývania diod s axiálnymi prívodmi dielektrickou ochrannouhmotou, vhodný najma pre diody s naspéjkovaným stípcom polovodičových systémov.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for covering diodes with dielectric shielding axial inlets, particularly suitable for diodes with a semiconductor array.

Doterajší stav techniky prevádzania tejto technologickéj operácie je: naspájkovanéVN stípce (rozměr 0,7 x 0,7 predstavujú 24 až 26 systémov v sérii s axiálhe prispájkova-nými prívodmi i 0,6) sa pokrývájú viskóznou dielektrickou ochrannou hmotou ručně po jed-nom kuse tak, Že naspájkovaný VN štipec systémov s prispájkovanými axiálnymi prívodmi saručně pootáča po gumovéj podložke, na ktorej je nanesená vrstva viskóznej dielektrickejochrannéj hmoty.The state of the art for the operation of this technological operation is: soldered HV columns (0.7 to 0.7 dimensions represent 24 to 26 systems in series with axial solder inlets of 0.6) are coated with a viscous dielectric protective material by hand in one piece so that the soldered HV chip of systems with soldered axial inlets is rotatably rotated on a rubber mat on which a viscous dielectric protective layer is applied.

Tento sposob nanéšania dielektrickej ochrannéj hmoty je náročný na manuélnu zručnost,namáhavý na zrak, produktivita práce je nízká, zvýšená nepodarkovitost zapříčiněná odla-movaním axiálnych prívodov pri ručnom otáčení za přívody.This method of applying a dielectric protective material is labor intensive, labor-intensive, labor-intensive, low incremental failure due to the axial inlet deflection by manual rotation of the inlets.

Tieto nevýhody odstraňuje sposob pokrývania stípea polovodičových systémov s pri-spájkovanými axiálnymi prívodmi pódia vynálezu.These drawbacks are obviated by the method of covering the column of semiconductor systems with soldered axial inlets of the invention.

Podstata tohto sposobu spočívá v tom, že štipec naspájkovaných polovodičových systé-mov je stlačený medzi dvoma makkými pórovitými poduškami presiaknutými viskóznou dielek-trickou ochrannou hmotou. Posunutím hornej makkej pórovitej podušky voči nepohyblivej 197 $43 2 197 943 spodněj makkej pórovitej poduške nastane odvalenie stípca polovodičových systémov, čím savytvoří na štipci naspájkovaných systémov rovnoměrná vrstva dielektrickej oehrannej hmoty Výhody podlá vynálezu sú vo vyššej produktivitě práce pri zhromadnení tejto techno-logické j operácie, v znížení nepodarkovitosti v dosledku toho, Se odvalovanie naspájkova-ného stípca polovodičových systémev pri nanááaní viskóznej dielektrickej ochrannéj hmotyje vyvedené otáčením stípca naspájkovaných polovodičových systémov pomocou makkých póro-vitých podušiek, ktoré sa dotýkajú len stípca naspájkovaných polovodičových systémov.ZníSi sa námaha zraku pri tejto technologickéj operácii. Příklad sposobu podía vynálezu je znázorněný na priloženom výkrese, ktorý představu-je jednotlivé fázy pokrývania stípca naspájkovaných polovodičových systémov viskóznoudielektrickou ochrannou hmotou.The essence of this method is that the pin of soldered semiconductor systems is compressed between two macular porous pads leaked with a viscous dielectric protective material. By shifting the upper macular porous cushion to the stationary 197 $ 43 2 197 943 of the lower macular porous cushion, a column of semiconductor systems rolled away, creating a uniform dielectric layer on the pinch of the bonded systems. The advantages of the invention are in higher labor productivity when assembling this technological operation. in reducing the lack of ductility as a result of rolling the bonded column of semiconductor systems when applying a viscous dielectric shielding material by rotating the brazed semiconductor system column by means of soft porous pads which only touch the column of soldered semiconductor systems. operation. An example of the method of the invention is shown in the accompanying drawing, which illustrates the individual phases of the column coating of the soldered semiconductor systems with a viscous dielectric protective material.

Na obr. 1 v prvej fáze je štipec 2 naspájkpvaných polovodičových systémov s prispáj-kovanými axiálnymi prívodmi položený na dolnej makkej pórovitej poduSke 2 presiaknutejviskóznou dielektrickou ochrannou hmotou, pričom horná mákká pórovitá poduáka 1 je oddia-lená.In Fig. 1, in the first phase, the pin 2 of the interconnected axial inlet semiconductor systems is laid on the lower porous porous pad 2 by the viscous dielectric protective material, the upper soft porous pad 1 being separated.

Na obr. 2 v druhéj fáze je horná mákká pórovitá poduáka 1 přiblížená a zatlačí šti-pec 2 naspájkovaných polovodičových systémov do homej makkej pórovitej podušky 1 a dol-nej makkej pórovitej podušky J. Přitom sa pri hranách stípca 2 naspájkovaných polovodičových systémov vytvoří viskóz'ny kliň £ dielektrickej oehrannej hmoty. Posunutím hornej makkej pórovitej podušky 1 vočidolnej makkej pórovitej poduške J presiaknutej viskóznou dielektrickou ochrannou hmotounastane odvalenie stípca 2 naspájkovaných polovodičových systémov a viskózny kliň £ vytvo·rí na štipci 2 naspájkovaných polovodičových systémech rovnoměrná vrstvu viskóznej dielek'trickej oehrannej hmoty.In Fig. 2, in the second phase, the upper dense porous paddle 1 is approached and pushes the sliver 2 of the soldered semiconductor systems into the top of the porous cushion 1 and the lower macular porous cushion J. Viscose is formed at the edges of the column 2 of the soldered semiconductor systems a dielectric wedge mass. By shifting the upper macular porous cushion 1 in the viscous porous cushion J, soaked with a viscous dielectric protective material, rolling of the column 2 of the soldered semiconductor systems and the viscous cage creates a uniform layer of viscous dielectric material on the pin 2 of the soldered semiconductor systems.

Na obr. 3 v třetej fáze po oddialení hornej makkej pórovitej podušky 1 zostane nadolnej makkej pórovitej poduške 2 ležet štipec 2, naspájkovaných polovodičových systémovs axiálně prispájkovanými prívodmi, pokrytý rovnoměrnou vrstvou viskóznej dielektrickejoehrannej hmoty.FIG. 3, in the third phase, after the upper macula porous cushion 1 has been removed, the upper macular porous cushion 2 is left with a pin 2, soldered with semiconductor systems with axially soldered inlets, covered with a uniform viscous dielectric mass.

Konkrétné prevedenie je možné realizovat tak, že jednotlivé štipce naspájkovanýchpolovodičových systémov s prispájkovanými axiálnymi prívodmi sa vložia do zásobníka, kto-rý umožňuje hoře uvedená metodu zhromadnit a takto umožnit jej efektívne využitie pře sé-riová výrobu.A particular embodiment can be realized by inserting individual staples of soldered semiconductor systems with soldered axial inlets into a reservoir that allows the above mentioned method to be collected and thus enabling its efficient use for serial production.

Možnost vy užitia tejto metody je pri sériovej výrobě VN blokov.The possibility of using this method is in serial production of HV blocks.

Claims (1)

PREDMET VYNÁLEZUOBJECT OF THE INVENTION Sposob pokrývania diod s axiálnymi prívodmi dielektrickou ochrannou tasotou, vhodný najma pre diody s naspájkovaným stípcom polovodičových systémov, vyznačujúci sa tým, že štipec naspéjkovaných polovodičových systémov je stlačovaný a odvalovaný medzi hornou makkou pórovitou podufikou a dolnou makkou pórovitou poduškou presiaknutou viskóznou dielektrickou ochrannou hmotou.Method of covering diodes with axial leads with dielectric protective tasot, suitable especially for diodes with soldered column of semiconductor systems, characterized in that the pin of soldered semiconductor systems is compressed and rolled between the upper poppy porous underlay and the lower poppy porous underlay.
CS431978A 1978-06-30 1978-06-30 Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance CS197943B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS431978A CS197943B1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS431978A CS197943B1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS197943B1 true CS197943B1 (en) 1980-05-30

Family

ID=5385657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS431978A CS197943B1 (en) 1978-06-30 1978-06-30 Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS197943B1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69830944T3 (en) Grooved pattern polishing pad for use in a chemical mechanical polishing apparatus
DE60101159T2 (en) MANUFACTURING METHOD OF A STACK OF CHIP IC CASE AT DISC LEVEL
EP0325704A3 (en) Process for the simultaneous manufacture of a plurality of semiconductor devices from a single wafer
DE69020012D1 (en) Production of an insulating layer, for example in an active matrix component.
DE10352946A1 (en) Semiconductor component with semiconductor chip and rewiring layer and method for producing the same
DE3865426D1 (en) METHOD FOR CONNECTING A CONDUCTIVE LAYER TO AN ELECTRODE STRUCTURE.
CS197943B1 (en) Method of covering the diodes with axial leads by the dielectric protective substance
FR2616969B1 (en) METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTROCHEMICAL ASSEMBLY COMPRISING AN ELECTRODE AND AN ELECTROLYTE AND ASSEMBLY THUS PRODUCED
DE102012100231B4 (en) Semiconductor chip
DK495885A (en) DIFFUSION INSULATION LAYER FOR A MASCULAR COATING PROCESS
DE69425774T2 (en) Process for encapsulating hybrid electronic components using balls on a substrate
DE10340129B4 (en) Electronic module with plug contacts and method of making the same
JPS5694753A (en) Correction method of semiconductor ic chip mounted substrate
JPS57115850A (en) Chip carrier for semiconductor ic
NL186909C (en) METHOD FOR CONTINUOUS OPERATION WITH A COUNTERFLOW WASHING COLUMN.
NO880734D0 (en) COMPONENT-POLYURETHANE COATING MASS WHICH CAN BE APPLIED IN A THICKEN LAYER THICKNESS UP TO 2000 UM.
EP1466364B1 (en) Panel for electronic components and method for the production thereof
JPH0436125Y2 (en)
RO84928A (en) DEVICE FOR LEAVING THE PASTE IN A HIRE MANUFACTURING MACHINE
SU616108A1 (en) Method of applying metal onto external surface of bodies of revolution
JPS551102A (en) High-voltage-proof semiconductor device
DD295500A5 (en) METHOD FOR PRODUCING WIRING SUPPORT WITH WIRE
DE2119436A1 (en) Method for combining thin and thick-film circuits
JPS5571045A (en) Lead frame
DE1639311C2 (en) Method for contacting a semiconductor arrangement