CS197166B1 - Compenzator of the bank for the electromechanical band - Google Patents
Compenzator of the bank for the electromechanical band Download PDFInfo
- Publication number
- CS197166B1 CS197166B1 CS550178A CS550178A CS197166B1 CS 197166 B1 CS197166 B1 CS 197166B1 CS 550178 A CS550178 A CS 550178A CS 550178 A CS550178 A CS 550178A CS 197166 B1 CS197166 B1 CS 197166B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- additive
- cadmium
- weight
- compenzator
- bank
- Prior art date
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 14
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 14
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L cadmium sulfate Chemical compound [Cd+2].[O-]S([O-])(=O)=O QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N piperonal Chemical compound O=CC1=CC=C2OCOC2=C1 SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SRVJKTDHMYAMHA-WUXMJOGZSA-N thioacetazone Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(\C=N\NC(N)=S)C=C1 SRVJKTDHMYAMHA-WUXMJOGZSA-N 0.000 claims description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- -1 amine amines Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000003946 cyclohexylamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Vynález se týká přísady do kyselé kadmiovací lázně pro vylučování pololesklých až lesklých kadmiových povlaků.The invention relates to an additive for an acid cadmium bath for the deposition of semi-glossy to glossy cadmium coatings.
Jsou známé alkalické kadmiovací lázně obsahující kyanidové ionty. Tyto lázně jsou lidskému zdraví nebezpečné. Odpadní vody z provozů, používajících tyto lázně, ohrožuj# životní prostředí a jejich zneškodňování je náročné technicky i ekonomicky.Alkali cadmium baths containing cyanide ions are known. These spas are dangerous to human health. Waste water from the plants using these baths is environmentally hazardous and their disposal is technically and economically demanding.
Dále jsou známy nekyanidové, kyselé kadmiovací lázně, které však obsahují jako přísadu metanol a další látky, jako např. kyselina nitriloctová, citrónová, amonné aoli, popřípadě fenoly. Tyto látky vytvářejí s kadmiem komplexní ionty, které se nedají chemicky odbourat za vzniku neškodných látek, a proto rovněž ohrožují životní prostředí. Rovněž jsou již známy kyselé kadmiovací lázně na bázi síranu kademnatého, které obsahují jako přísadu deriváty cyklohexylaminu, aminy nenasycených uhlovodíků nebo aromatické na jádře halogenované isokyanéty spolu β dalšími látkami zvyšujícími vylučovací účinnost případně krycí schopnost lázně. Katodický proudový výtěžek těchto známých lázní je 60 až 70 %.Furthermore, non-cyanide, acid cadmium baths are known which, however, contain, as an additive, methanol and other substances, such as, for example, nitrile acetic acid, citric acid, ammonium salts or phenols. These substances form complex ions with cadmium that cannot be chemically degraded to form harmless substances and therefore also endanger the environment. Also known are cadmium sulphate acid cadmium baths which contain, as an additive, cyclohexylamine derivatives, unsaturated amine amines or aromatic core-halogenated isocyanates together with β additional substances which increase the excretory efficacy or hiding power of the bath. The cathodic current yield of these known baths is 60 to 70%.
VyšSím účinkem, pokud jde o proudový výtěžek, se vyznačuje kyselá kadmiovací lázeň obsahující přísadu podle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom, že je tvořena fenylthiomočovinou V množství 0,3 až 25* % hmotnostních a thiosemikarbazonem heliotropinu v množstvíA higher effect with respect to the current yield is characterized by an acid cadmium bath containing an additive according to the invention, characterized in that it consists of phenylthiourea in an amount of 0.3 to 25% by weight and thiosemicarbazone of heliotropin in an amount of
0,2 až 20 % hmotnostních, vztaženo na celkovou hmotnost přísady. Předmětem vynálezu je dá197 166 le 1 nalezení optimálního rozmezí koncentrace uvedených součástí přísady v rozpouštědle, po jehož přidání vzmikne vlastní přísada, která še potom přidává do kadmiovaeí lázně. Podstata tohoto řešení spočívá v tom, že na 1 díl uvedených účinných aložek obsahuje přísada 0,1 až 30 dílů hmotnostních rozpouštědla. Jako rozpouštědlo lze použít organiekA, e vodou míeitelná rozpouštědla, např. etanol nebo aceton.0.2 to 20% by weight, based on the total weight of the additive. It is an object of the present invention to provide an optimum concentration range for the components of the additive in the solvent, after which the additive itself is formed, which is then added to the cadmium bath. The principle of this solution consists in that for 1 part of said active ingredients the additive contains 0.1 to 30 parts by weight of solvent. Organic solvents such as water-miscible solvents such as ethanol or acetone may be used as the solvent.
Lázeň vytvořená β použitím přísady podle vynálezu neobsahuje neodbouratelná kadmiové komplexy a nečiní problémy z hlediska ochrany životního prostředí. Její hlavní výhodou je vysoká katodioká výtěžnost, která dosahuje 80 %,The bath formed by the use of an additive according to the invention does not contain non-degradable cadmium complexes and does not pose environmental problems. Its main advantage is the high cathodic yield, which reaches 80%,
Přísada do kyselé kadmiovaeí lázně podle vynálezu je dále blíže vysvětlena pomocí příkladu jejího složení.The additive to the acid cadmium bath according to the invention is further explained by way of example of its composition.
Příklad 1Example 1
Do lázně obsahující v 1 litru 70 g síranu kademnatáho, 80 g kyseliny sírová a 15 g tenzidů byly přidány 0,5 g fenylthiomočoviny a 0,4 g thiosemikarbasonu hsliotropinu rozpuštěných v acetonu v poměru 1 : 20, Povlaky vyloučené z takto vzniklá lázně vykazovaly dobrou kvalitu, byly lesklá až pololeeklá.0.5 g of phenylthiourea and 0.4 g of thiosemicarbasone hsliotropin dissolved in acetone in a ratio of 1:20 were added to a bath containing 70 g of cadmium sulphate, 80 g of sulfuric acid and 15 g of surfactants per liter. quality, they were shiny to semi-fluid.
Kadmiovaeí lázeň obsahující přísadu podle vynálezu pracuje při teplotách 15 až 35 °C a při proudové hustotě 1 až 3 A/dm . Je vhodná pro hromadné kadmiování drobných předmětů v bubnech nebo zvonech i pro pokovování zboží na závěsech za pohybu rychlostí 2 až 10 m/min.The cadmium bath containing the additive according to the invention operates at temperatures of 15 to 35 ° C and at a current density of 1 to 3 A / dm. It is suitable for mass cadmiuming of small objects in drums or bells as well as for plating of goods on curtains while moving at a speed of 2 to 10 m / min.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS550178A CS197166B1 (en) | 1978-08-23 | 1978-08-23 | Compenzator of the bank for the electromechanical band |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS550178A CS197166B1 (en) | 1978-08-23 | 1978-08-23 | Compenzator of the bank for the electromechanical band |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS197166B1 true CS197166B1 (en) | 1980-04-30 |
Family
ID=5400004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS550178A CS197166B1 (en) | 1978-08-23 | 1978-08-23 | Compenzator of the bank for the electromechanical band |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS197166B1 (en) |
-
1978
- 1978-08-23 CS CS550178A patent/CS197166B1/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1034484A (en) | Improvements in or relating to the electrodeposition of copper | |
| ATE234948T1 (en) | METHOD FOR TREATING METALLIC SURFACES | |
| GB884036A (en) | Galvanic copper baths | |
| GB1000669A (en) | Baths for the production of electrolytic metal coatings | |
| SE8103008L (en) | BATHROOM AND PROCEDURE FOR ELECTROLYTIC WRAPPING | |
| CS197166B1 (en) | Compenzator of the bank for the electromechanical band | |
| ES476909A1 (en) | Electroplating bath and process | |
| US3414493A (en) | Electrodeposition of copper | |
| CS205979B1 (en) | Admixture in the acid cadmium bath | |
| JP4204664B2 (en) | Algae and mold prevention composition | |
| US3410805A (en) | Paint stripper composition | |
| CS196134B1 (en) | Additive for acid cadmium bath | |
| JPS5544355A (en) | Hardening method for organic sludge | |
| CS197007B1 (en) | Additive for acid bath for electroplating from solutions of cadmium | |
| JPS56271A (en) | Non-electrolytic copper plating solution | |
| CS196992B1 (en) | Additive for acid bath for electroplating from solutions of cadmium | |
| JPS55130905A (en) | Agent for preventing adhesion of aquatic life | |
| GB817037A (en) | Improvements in process and compositions for the electroposition of copper | |
| JPS5770286A (en) | Plating bath composition and plating method | |
| JPS5524970A (en) | Cathode production | |
| DE2740592B1 (en) | Galvanic zinc bath | |
| ATE17015T1 (en) | AQUEOUS COATING AGENT. | |
| SE7702576L (en) | ZINC PLATING | |
| JPS54113635A (en) | Electrodeposition liquid composition | |
| US3309293A (en) | Copper cyanide electroplating bath |