CS196840B1 - Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese - Google Patents

Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese Download PDF

Info

Publication number
CS196840B1
CS196840B1 CS748877A CS748877A CS196840B1 CS 196840 B1 CS196840 B1 CS 196840B1 CS 748877 A CS748877 A CS 748877A CS 748877 A CS748877 A CS 748877A CS 196840 B1 CS196840 B1 CS 196840B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
boat
substrate
holder
liquid phase
preparation
Prior art date
Application number
CS748877A
Other languages
Czech (cs)
English (en)
Inventor
Rudolf Srnanek
Peter Habovcik
Original Assignee
Rudolf Srnanek
Peter Habovcik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rudolf Srnanek, Peter Habovcik filed Critical Rudolf Srnanek
Priority to CS748877A priority Critical patent/CS196840B1/sk
Publication of CS196840B1 publication Critical patent/CS196840B1/sk

Links

Landscapes

  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Vynález sa týká lodičky a držiaku substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev raatom z kvapalnej fázy, v jednom pracovno* procese. RieSi sa přitom konštrukcia lodičky a držiaku substrátu.
Existuje niekoTko metod na přípravu mnohovrstvovýeh epitaxiálnych štruktúr. Najčastejšie sa používá posúvacia metoda. Pri tejto metóde sa lodičkový systém skládá z najmenej dvoch dlhých posúvacich častí doskovitého tvaru.
Dolná časť je držiakom substrátu, ktorý leží na nej horizontálně. V hornej časti sú otvory pre taveniny. Posúvaním dielov lodičky ea dostávájú rdzne taveniny na substrát, a tým narastajú na ňom pri chladnutí postupné vrstvy 8 rdznym zložením a vlastnosťami. Pri inéj podobnéj metóde ea.namieato doskovitých častí používá lodička a držiak substrátu válcovitého tvaru, ktoré sú položené na sebe. Substrát je umiestnený v držiaku tak, že je na ňom opfiť položený horizontálně. V hornej časti, lodičke, sú otvory pre taveniny, usporiadané do kruhu. Otáčaním lodičky sa rdzne taveniny dostávájú na substrát.
Nevýhodou spomínaných metod je, že substrát je počas homogenizácie taveniny v blízkosti taveniny, a preto aj na rovnakej teplote. Homogenizácie sa realizuje pri teplotách, pri ktorých dochádza k nežiadúcemu úletu prchavých zložiek zo substrátu. Substrát je v horizontálněj polohe, a preto sa tavenina po skončení epitaxiélneho rastu zle odtřha od substrátu. Na urýchlenie hoao196840 - 2 genizácie taveniny ea s lodičkou mfiže vibrovat. U apomínaných metod to nie je možné, pretože jednotlivé diely lodičkového systému sú na sebe iba volné položené.
Uvedené nedostatky odstraňuje lodička a držiak substrátu zariadenia poidla vynálezu, ktorého podstaita spočívá v tom, že lodička je vytvořená z valčeka, v ktorého čele sú vytvořené otvory tak, že v střede je otvor pre zasunutie tyčky držiaka substrátu. Okolo otvoru sa nachádza jú diery pre zašunutie vodiaceho kolíka a po okraji sú urobené otvory pre taveniny. Držiak substrátu je tvořený tyčkou s vodiacim kolíkom a doskou, na ktorej je upevňovacou doskou a skrutkou s maticou upevněný substrát.
Pokrok vynálezu je predovšetkým v tom, že lodička a držiak substrátu zariadenia umožňujú přípravu najmenej dvoch epitaziálnych vrstiev v jednom praoovnom procese, pričom sa nevyskytujú uvedené nedostatky.
Na připojených výkresoch je znázorněná lodička a držiak substrátu zariadenia podía vynálezu. Na obr. 1 je bočný pohlaď na lodičku a držiak substrátu v polohe před epitaxiálnym rastem. Na obr. 2 je pOdorys lodičky.
Lodičku g tvoří valček,v ktorého čele eú vyrobené otvory g pre taveniny· Otvory eú usporiadané do kruhu a lob počet sa dá zhotovit podía velkosti valčeka. V střede valčeka je otvor g pre zaaunutie tyčky 10 držiaku £ substrátu. Ďalej eú vo valčeku diery g pre zaaunutie vodiaceho kolíka £· Držiak 2. substrátu sa skládá z tyčky 10. na ktorej je pritavený vodiaci kolík £ a doska J. Substrát 11 je pridržiavaný v zvislej polohe doskou 2 a upevňovacou doskou £ a skrutkou a maticou g.
Možnost využitie vynálezu je pri príprave anohovrstvových polovodičových štruktúr.

Claims (2)

  1. Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoeh epitaxiálnyehvrstiev raston z kvapalnej fázy v jednom praoovnom procese, vyznaču júoe sa tým, že lodička (1) je vytvořená z valčeka, v ktorého čele je vytvořený otvor (4) pre zašunutie tyčky (10) držiaka (2) substrátu, diery (5) pre sasunutie vodiaceho kolíka (6) a otvory (3) pre taveniny, pričom držiak (2) substrátu ea skládá z tyčky (10), na ktorej je vodiaci kolík (6) a doska (7), na ktorú je upevňovacou doskou (8) a skrutkou β maticou (9) upevněný substrát (11).
CS748877A 1977-11-15 1977-11-15 Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese CS196840B1 (sk)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS748877A CS196840B1 (sk) 1977-11-15 1977-11-15 Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS748877A CS196840B1 (sk) 1977-11-15 1977-11-15 Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS196840B1 true CS196840B1 (sk) 1980-04-30

Family

ID=5424096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS748877A CS196840B1 (sk) 1977-11-15 1977-11-15 Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS196840B1 (sk)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2847963A1 (de) Konvektionsofen
EP0881950B1 (de) Temperierblock mit temperiereinrichtungen
EP0936945B1 (de) Temperierblock mit aufnahmen
EP0618035B1 (de) Löt-/Entlötvorrichtung, insbesondere für integrierte Schaltungen
DE3433522C2 (sk)
DE102008025828B4 (de) Kristallzüchtungsofen mit Schmelzedrainagekanalstruktur
DE3825519A1 (de) Vorrichtung zum schmelzen von lot an einer verbindungsstelle zwischen anschlussklemmen eines elektronischen bauelements und kontaktelementen eines substrats
CS196840B1 (sk) Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom pracovnom procese
DE60309420T2 (de) Vorrichtung zum Ausrichten und Verteilen von Lötmittelsäulen in einer Matrix
DE60312929T2 (de) Apparat zur Befestigung von Halbleiterchips und eine Methode zur Befestigung
DE1498929C3 (de) Bearbeitungsvorrichtung für röhren- oder zylinderförmige Gefäße
DE68903625T2 (de) Einzelschermessermechanismus zum abtrennen von tropfen.
DE20122579U1 (de) Vorrichtung zum Montieren von elektronischen Schaltungen
US4979662A (en) Desoldering vat
DE10297102T5 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer dünnen Platte sowie Solarzelle
DE2227433C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur schlagartigen Vakuumverdampfung von pulverförmigem Material
DE3933423A1 (de) Tempervorrichtung, insbesondere fuer lcd-substratplatten
DE2458203A1 (de) Automatische loetanlage
EP0034283B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum zonenweisen Erwärmen bzw. Abkühlen länglicher Behandlungskörper
DE3612390C2 (sk)
DE69103375T2 (de) Element, das durch einen Umschmelzofen Hybridschaltkreise trägt.
DE590613C (de) Foerdervorrichtung fuer Schokoladenwerkstuecke
DE1758115A1 (de) Vibrierender feuerfester Ofen
DE3839396A1 (de) Verfahren und einrichtung zum verloeten von auf einer leiterplatte aufliegenden elektrischen bauelementen mit der leiterplatte
DE401733C (de) Vorrichtung zum Schmelzen von Fetten