CS196840B1 - Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation - Google Patents

Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation Download PDF

Info

Publication number
CS196840B1
CS196840B1 CS748877A CS748877A CS196840B1 CS 196840 B1 CS196840 B1 CS 196840B1 CS 748877 A CS748877 A CS 748877A CS 748877 A CS748877 A CS 748877A CS 196840 B1 CS196840 B1 CS 196840B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
boat
substrate
holder
liquid phase
preparation
Prior art date
Application number
CS748877A
Other languages
English (en)
Slovak (sk)
Inventor
Rudolf Srnanek
Peter Habovcik
Original Assignee
Rudolf Srnanek
Peter Habovcik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rudolf Srnanek, Peter Habovcik filed Critical Rudolf Srnanek
Priority to CS748877A priority Critical patent/CS196840B1/cs
Publication of CS196840B1 publication Critical patent/CS196840B1/cs

Links

Landscapes

  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

POPIS VYNÁLEZU K AUTORSKÉMU OSVĚDČENÍ (51) Int. Cl.’ H Ol L 21/36 (11) CB1> ČESKOSLOVENSKÁSOCIALISTICKÁREPUBLIKA( 19 )
ÚŘAD PRO VYNÁLEZY
A OBJEVY (bl) (23) Výstavní priorita (22) Přihlášeno 15.11.77 (2i) (PV 7488 - 77) (40) Zveřejněno 31.07.79(45) Vydáno 31.03.82
Autor vynálezu S r n á n e k Rudolf ing. a Hóbovčík Peter doc. ing, CSc., Bratislava (54) LODIČKA A DRŽIAK SUBSTRÁTU ZARIADENIA NA PŘÍPRAVUNAJMENEJ DVOCH EPITAXIÁLNYCH VRSTIEV RASTOM Z KVA-
PALNEJ FÁZY V JEDNOM PRACOVNOU PROCESE
Vynález ea týká lodičky a držiaku substrátu zariadenia na přípravu naj-menej dvoch epitaxiálnych vrstiev rastom z kvapalnéj fázy, v jednom pracovno·procese. RieSi sa přitom konštrukcia lodičky a držiaku substrátu.
Existuje niekoTko metod na přípravu mnohovrstvovýeh epitaxiálnych Střede**túr. NajčastejSie sa používá posúvacia metoda. Pri tejto metóde sa lodičkovýsystém skládá z najmenej dvoch dlhých posúvacích častí doskovitého tvaru.
Dolná část je držiakom substrátu, ktorý leží na nej horizontálně. V hornéjčasti sú otvory pre taveniny. Posúvaním dielov lodičky sa dostávajú rOzne ta-veniny na substrát, a tým narastajú na ňom pri chladnutí postupné vrstvys rfiznym zložením a vlastnosťami. Pri inéj podobnéj metóde sanamiesto dosko-vitých častí používá lodička a držiak substrátu válcovitého tvaru, které súpoložené na sebe. Substrát je umiestnený v držiaku tak, že je na ňom opfiť po-ložený horizontálně. V hornéj časti, lodičke, sú otvory pre taveniny, usporia-dané do kruhu. Otáčaním lodičky sa rdzne taveniny dostávajú na substrát.
Nevýhodou spomínaných metod je, že substrát je počas homogenizácie tave-niny v blízkosti taveniny, a preto aj na rovnakej teplote. Homogenizácie sarealizuje pri teplotách, pri ktorých dochádza k nežiadúcemu úletu prchavýchzložiek zo substrátu. Substrát je v horizontálněj polohe, a preto sa taveninapo skončení epitaxiálneho rastu zle odtrha od substrátu. Na urýchlenie hoao-

Claims (2)

196840 - 2 - genizácie taveniny aa a lodičkou mdle vibrovat. U apomínaných metod to nieje možné, přetože jednotlivé diely lodičkového systému sú na sebe iba voTnepoložené. Uvedené nedostatky odstraňuje lodička a držiak substrátu zariadenia poedTa vynálezu, kterého podstaita spočívá v tom, že lodička je vytvořená z val-čeka, v ktorého čele sú vytvořené otvory tak, že v střede je otvor pre zasu-nut i e tyčky držiaka substrátu. Okolo otvoru sa nachádza jú diery pre zasunutievodiaceho kolíka a po okraji sú urobené otvory pre taveniny. Držiak substrá-tu je tvořený tyčkou s vodiaoim kolíkom a doskou, na ktorej je upevňovacoudoskou a skrutkou s maticou upevněný substrát. Pokrok vynálezu je predov&etkým v tom, že lodička a držiak substrátuzariadenia umožňujú přípravu najmenej dvoeh epitaxiálnych vrstiev v jednompraeovnom procese, pričom sa nevyskytujú uvedené nedostatky. Na připojených výkresoch je znázorněná lodička a držiak substrátu zaria-denia podlá vynálezu. Na obr. 1 je bočný pohled na lodičku a držiak substrá-tu v polohe před epitaxiálnym rastom. Na obr.
2 je pddorys lodičky. Lodičku 1 tvoří valček,v ktorého čele sú vyrobené otvory J pre tave-niny· Otvory sú uaporiadané do kruhu a ich počet sa dá zhotovit podl’a velkos-ti valčeka. V střede válčeka je otvor ± pre zasunutie tyčky 10 držiáku£ substrátu, Ďalej aú vo valčeku diery £ pre zasunutie vodiaceho kolíkaDržiak 2. substrátu aa akladá z tyčky 10. na ktorej je pritavený vodiacikolík £ a doska 2· Substrát 11 je pridržiavaný v zvislej polohe doskou2 a upevňovacou doskou £ a skrutkou s maticou £· Možnost využitia vynálezu je pri príprave mnohovrstvových polovodičovýchStruktúr. Predaet vynálezu Lodička a držiak substrátu zariadenia na přípravu najmenej dvoch epita-xiálnyeh vrstiev rastom z kvapalnej fázy v jednom praeovnom procese, vyzná-čů júce sa tým, že Lodička (1) je vytvořená z valčeka, v ktorého čele je vytvo-řený otvor (4) pre zasunutie tyčky (10) držiaka (2) substrátu, diery (5) prezasunutie vodiaceho kolíka (6) a otvory (3) pre taveniny, pričom držiak (2)substrátu sa skládá z tyčky (10), na ktorej je vodiaci kolík (6) a doska (7),na ktorú je upevňovacou doskou (8) a skrutkou s maticou (9) upevněný substrát (11).
CS748877A 1977-11-15 1977-11-15 Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation CS196840B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS748877A CS196840B1 (en) 1977-11-15 1977-11-15 Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS748877A CS196840B1 (en) 1977-11-15 1977-11-15 Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS196840B1 true CS196840B1 (en) 1980-04-30

Family

ID=5424096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS748877A CS196840B1 (en) 1977-11-15 1977-11-15 Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS196840B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2847963A1 (de) Konvektionsofen
EP0881950B1 (de) Temperierblock mit temperiereinrichtungen
EP0936945B1 (de) Temperierblock mit aufnahmen
EP0618035B1 (de) Löt-/Entlötvorrichtung, insbesondere für integrierte Schaltungen
DE3433522C2 (cs)
DE102008025828B4 (de) Kristallzüchtungsofen mit Schmelzedrainagekanalstruktur
DE3825519A1 (de) Vorrichtung zum schmelzen von lot an einer verbindungsstelle zwischen anschlussklemmen eines elektronischen bauelements und kontaktelementen eines substrats
CS196840B1 (en) Boat and holder of the substrate of the facility for preparation at least two epitaxial layers by the growth from the liquid phase in a single working operation
DE60309420T2 (de) Vorrichtung zum Ausrichten und Verteilen von Lötmittelsäulen in einer Matrix
DE60312929T2 (de) Apparat zur Befestigung von Halbleiterchips und eine Methode zur Befestigung
DE1498929C3 (de) Bearbeitungsvorrichtung für röhren- oder zylinderförmige Gefäße
DE68903625T2 (de) Einzelschermessermechanismus zum abtrennen von tropfen.
DE20122579U1 (de) Vorrichtung zum Montieren von elektronischen Schaltungen
US4979662A (en) Desoldering vat
DE10297102T5 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer dünnen Platte sowie Solarzelle
DE2227433C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur schlagartigen Vakuumverdampfung von pulverförmigem Material
DE3933423A1 (de) Tempervorrichtung, insbesondere fuer lcd-substratplatten
DE2458203A1 (de) Automatische loetanlage
EP0034283B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum zonenweisen Erwärmen bzw. Abkühlen länglicher Behandlungskörper
DE3612390C2 (cs)
DE69103375T2 (de) Element, das durch einen Umschmelzofen Hybridschaltkreise trägt.
DE590613C (de) Foerdervorrichtung fuer Schokoladenwerkstuecke
DE1758115A1 (de) Vibrierender feuerfester Ofen
DE3839396A1 (de) Verfahren und einrichtung zum verloeten von auf einer leiterplatte aufliegenden elektrischen bauelementen mit der leiterplatte
DE401733C (de) Vorrichtung zum Schmelzen von Fetten