CS196012B1 - Zařízení pro nanášení tenkých vrstev - Google Patents
Zařízení pro nanášení tenkých vrstev Download PDFInfo
- Publication number
- CS196012B1 CS196012B1 CS590877A CS590877A CS196012B1 CS 196012 B1 CS196012 B1 CS 196012B1 CS 590877 A CS590877 A CS 590877A CS 590877 A CS590877 A CS 590877A CS 196012 B1 CS196012 B1 CS 196012B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- reaction
- gas
- bell
- coating
- thin films
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 241000973497 Siphonognathus argyrophanes Species 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Vynález se týká zařízení pro nanášení tenkých vrstev, sestávajícího z topného elementu, reakčních prostorů a přívodů plynu ustavených v základu pece.
Je známa řáda zařízení, která umožňuje nanášení tenkých vrstev z plynné fáze,například otěruvzdorných vrstev z karbidů, nitridů, boridů a některých kysličníků na břitové destičky ze slinutých karbidů. U jednoho typu zařízení se směs reakčních plynů přivádí z chladné části reakčního prostoru směrem k povlakovanému materiálu, vyhřátému na potřebnou reakční teplotu. Materiál určený k povlakovéní, například břitové destičky ze slinutých ka rbidů, může být umístěn na vodorovná podložce, vytápěné zespod, nebo na válcové ploše, vytápěné zevnitř.
Nevýhodou těchto systémů je značný rozdíl v tloušlce a kvalitě povlaků mezi přivrácenou a odvrácenou stranou povlakovaného materiálu, takže je spolehlivě umožněno pouze jednostranné povískování. Při vertikálním nebo horizontálním proudění reakčních plynů vytápěným reakčním prostorem; například ve tvaru válce, je sice možné oboustranné povlakování, avšak v důsledku koncentračního spádu jsou zaznamenávány velké rozdíly v tloušlce povlaku mezi předměty umístěnými blíže nebo dále od vstupu reakčních plynů. Tato nevýhoda bývá alespoň Částečně kompenzována mimořádně vysokými rychlostmi proudění reakčních plynů* U dalšího typu zařízení je směs reakčních plynů přiváděna do vytápěného reakčního prostoru trubkou * btvory nebo štěrbinami, která prochází svisle středem reakčního prostoru.
196 012
IBS 012
Povlakovaný materiál je uložen na vodorovných podložkách. U tohoto zařízení kromě koncentračního spádu, vznikajícího postupnou reakcí plynná směsi dochází navíc ke snižování rychlosti reagujících plynů jejich prouděním ze středu k okrajovým částem reaktoru. Výsledkem je opět rozdílné tloušťka nanesené vrstvy mezi vzorky Umístěnými blíže a dále od vstupu reagujících plynů. Tato nevýhoda může být opět alespoň zčásti odstraněna vysokou rychlostí proudění plynů, eventuálně teplotním spádem směrem nd obvodu ke středu reaktoru. Vzhledem k tomu, že reakci mezi složkami plynné směsi dochází i v plynné fázi, musí být vzdálenost mezi vstupem reakčních plynů a povlakovaným materiálem co nejmenší, jinak dochází k nežádoucímu usazování práškových částic na povrchu povlakovaného materiálu. Reaktory tohoto typu je proto možno konstruovat jen malého průměru a tím i nízké kapacity.
Uvedené nevýhody odstraňuje zařízení pro nanášení tenkých vrstev, sestávající z topného elementu, reakčních prostorů a přívodů plynu ustaveném v základu pece podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že v topném zvonu jsou pod krycím zvonem umístěny nejméně dva válcové pláště s víkem a reakčními prostory opatřenými nosnými podložkami, do nichž ústí trubky s přívodními otvory plynu, které jsou pevně nebo otočně ustaveny v základu pece.
Zařízení pro nanášení tenkých vrstev podle vynálezu dovoluje oboustranné povlakování, například břitových destiček ze slinutých karbidů a umožňuje konstruovat reaktory s větší kapacitou a příznivějším poměrem průměru a délky vytápěného prostoru.
Princip vynálezu je znázorněn na přiloženém výkrese, kde obr. 1 je podélný řez zařízením a v obr. 2 je příčný řez topným zvonem.
Zařízení sestává z topného zvonu 1, pod nímž je umístěn krycí zvon 2, v jehož dutině jsou umístěny nejméně dva válcové pláště s víkem £ s reakčním! prostory V základu pece 9 s výstupními otvory 10,sběrnou dutinou 11 a výstupní trubkou 12,jsou ustaveny trubky 2 s přívodními otvory 6 plynu a nosnými podložkami 6 výrobků 7.
V prostoru vytápěném jediným topným zvonem 1 a plynotěsně uzavřeném krycím zvonem 2 jsou umístěny například tři.oddělené reakční prostory 2 vymezené válcovými plášti s víky 4, do nichž se přivádí směs reagujících plynů trubkami 2 8 výstupními otvory 6. Směs reagujících plynů je tvořena například dusíkem,vodíkem,plynným uhlovodíkem a parami chloridu titáničitého. Výrobky 7 určené k povlakování,například vyměnitelné destičky ze slinutých karbidů jsou uloženy na nosných podložkách 6 umístěných soustředně kolem přívodních trubek Jj.Přívodní trubky 2 jsoa uloženy v základu pece 2 b“3 pevně,nebo mohou vykonávat rotační nebo částečně rotační pohyb kolem podélné osy reakčního prostoru 2 pro zkvalitnění vlastního povlakování. Plynné reakční zplodiny odcházejírvýstupními otvory 10 do sběrné dutiny 11 a jsou odváděny výstupní trubkou 12.
Claims (1)
- PŘEDMĚT VYNÁLEZUZařízení pro nanášení tenkých vrstev z plynné fáze,sestává jící ž topného elementu,reakčních prostorů a přívodu plynu ustaveném v základu pece,vyznačené tím,že v topném zvonu/l/jsou pod krycím zvonem/2/umfetěny nejméně dva válcové pléětě s víkem/4/s reakčními prostory/3/, opatřenými nosnými podložkami/8/,do nichž ústí trubky/5/a přívodními otvory/6/plyna,která jsou pevně nebo otočně ustaveny v základu pece /9/.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS590877A CS196012B1 (cs) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | Zařízení pro nanášení tenkých vrstev |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS590877A CS196012B1 (cs) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | Zařízení pro nanášení tenkých vrstev |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS196012B1 true CS196012B1 (cs) | 1980-02-29 |
Family
ID=5404937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS590877A CS196012B1 (cs) | 1977-09-12 | 1977-09-12 | Zařízení pro nanášení tenkých vrstev |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS196012B1 (cs) |
-
1977
- 1977-09-12 CS CS590877A patent/CS196012B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5160544A (en) | Hot filament chemical vapor deposition reactor | |
| CN101960044B (zh) | 固态前体升华器 | |
| US7851019B2 (en) | Method for controlling the sublimation of reactants | |
| US3805736A (en) | Apparatus for diffusion limited mass transport | |
| JP4809313B2 (ja) | 入口プレナムを含む容器および容器から分配する方法 | |
| GB1328838A (en) | Vapour reaction apparatus | |
| CA2016970A1 (en) | Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films | |
| FR2490246B1 (cs) | ||
| TW200403721A (en) | An improved sublimation bed employing carrier gas guidance structures | |
| EP0322050A3 (en) | Electronic device manufacture with deposition of material, particularly cadmium mercury telluride | |
| GB1436051A (en) | Apparatus for chemically depositing epitaxial layers on semi conductor substrates | |
| US3704987A (en) | Device for the epitaxialy deposition of semiconductor material | |
| JP2001512533A (ja) | 化学蒸着により表面に物質を蒸着させるための流動床リアクター、および、それを用いて被膜基板を形成する方法 | |
| US4636364A (en) | Apparatus for producing a stream of aerosol | |
| JP2672261B2 (ja) | 気相沈着用液体ソースガス放出装置 | |
| US3609829A (en) | Apparatus for the formation of silica articles | |
| Wood et al. | Coating particles by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors | |
| US3206331A (en) | Method for coating articles with pyrolitic graphite | |
| CS196012B1 (cs) | Zařízení pro nanášení tenkých vrstev | |
| EP0521078B1 (en) | An improved hot filament chemical vapor deposition reactor | |
| JPS60243272A (ja) | 化学的蒸着ウエーフアーボート | |
| KR910700360A (ko) | 화학적 증착 반응기 | |
| US5383969A (en) | Process and apparatus for supplying zinc vapor continuously to a chemical vapor deposition process from a continuous supply of solid zinc | |
| JPS6251919B2 (cs) | ||
| RU2192504C1 (ru) | Устройство для нанесения защитных покрытий на малогабаритные изделия |