CN85106475A

CN85106475A - 感光红外线的照相材料

Info

Publication number: CN85106475A
Application number: CN85106475.2A
Authority: CN
Inventors: 尼古拉斯·E·格齐斯科威阿克; 小詹姆斯·伯纳德·菲利普
Original assignee: Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1984-08-31
Filing date: 1985-08-29
Publication date: 1987-03-11
Also published as: CN1011833B

Abstract

由辐射近红外线的激光扫描器可以成象并不形成干涉条纹的照相材料。该材料包括承载一层或多层颗粒平均直径不大于0.4微米的卤化银乳剂的片基。及一层或多层以上涂层：(1)一层上层，它是和照相感光乳剂同一片基面上的最外层，该上层是一层对近红外辐射的漫透射层；(2)一层背层，它是离照相感光乳剂较远的片基上的最外层，该背层是一层对近(原文为new)红外辐射的漫反射层或吸收层；(3)一层底层，它位于片基和照相感光乳剂之间，该底层是一层对近红外辐射漫透射层或吸收层。

Description

本发明涉及对从750纳米和750纳米以上，特别是750至1500纳米近红外光谱区发射的光线感光的照像材料，特别涉及适宜于为激光二极管扫描系统提供高质量记录介质的照像材料。

通过把可见影像的邻近小范围亮度编码使可见影像转换成电子数据，是一种广泛使用的影像处理技术。这种电子编码，对影像的控制、传送和贮存是有利的。已知通过所谓“扫描系统”使电子数据重新转换成可见影像，利用该扫描系统，使一束精细聚焦的光束，以一连串邻接的光栅行扫描穿过感光介质，同时根据电子信号调节光线强度使再现需要的影像密度。

激光器，特别是那些使用氩、氪、氦-氖或氦-镉混合物作为气体激光介质的激光器已被用作这一影像处理技术的高强度光源。然而，所有这些激光器都具有需要一种附加的，复合装置以调节发射光线强度的缺陷，并在很大程度或较小程度上，因大的物理体积，机械脆性和高的生产费用而受到限制。

半导体激光二极管可能高度地适合于作为扫描系统的光源，因为它们的光线输出可以通过电信号输入直接调节，并且它们非常小巧和物理上耐用。

然而，目前唯一具有满意的长操作寿命，并能廉价生产大批供应的激光二极管装置是那些发射从750至1500纳米近红外（NIR）光谱区的激光二极管。因此，为了使用供影像显影的激光二极管扫描系统，需要提供一种对近红外线（NIR）范围光线感光的记录介质。

使用长链花青染料使照像卤化银乳剂对近红外线感光是已知的，例如，见Mees和James著的照像显影理论，1966，MacMil-lan第三版198-201页和本文引证的参考文献。

已发现，对近红外线感光的胶片，特别是那些卤化银颗粒平均直径小于0.4微米的胶片，当在一个没有玻璃的底板中被边缘所支承，以防止与其它表面接触，并在820纳米处由一激光二极管扫描系统发射给予均匀的总曝光时，得到覆盖有宽的旋涡干涉图样的影像，该干涉图样本文在以后叫作“无触点的扫描条纹”。这些条纹被认为是由于来自胶片材料与周围空气两个界面曝光光线的反射所产生的。由胶片上表面和底表面来的反射光线之间的程差，受到在给定位置胶片厚度的支配，同时纯相差既不造成有害的也不造成积极的影响，既不减少也不增加在该给定位置传送到感光乳剂层的曝光量。从而条纹按照胶片材料本身的极细微厚度变化的轮廓，并通常以1毫米的间隔，长度常为几厘米宽的行覆盖全部影像区。

无触点干涉条纹在有关卤化银乳剂材料的文献中，以前尚未报道过。这一现象在用可见光曝光的常规条件下是不会发生的，因为感光乳剂层的浊度足以使由胶片材料背后来的反射光散射掉。可见，红外光线由于其较长的波长，能够通过小颗粒照像乳剂而不发生严重的散射，并且激光二极管输出的光线的相干性加强了形成干涉图样的倾向。因此，卤化银颗粒平均直径为0.28微米，银涂层重3克/米²的照像乳剂显示出可检测到的干涉条纹。使粒度减小到0.23微米或减少涂层重量产生更为显著的图样，而平均颗粒直径为0.20微米或更小的乳剂，在无触点激光二极管扫描以后，显示出严重的干涉条纹。

无触点扫描干涉条纹严重地降低了扫描影像的质量，特别是那些具有连续影调层次的扫描影像的质量。它们不仅在美学上使人讨厌，而且使在影像中由小的密度差传送的重要情报模糊不清。能够使用平均直径小于0.4微米，最好小于0.3微米颗粒的照像乳剂是合于要求的。颗粒0.4微米或小于0.4微米的细颗粒乳剂，在容许高空间分辨率，并且有高遮盖率，容许较低的银涂层重量以得到给定的最大光学密度和显影方面是有利的。因此，供激光二极管扫描系统使用的照像材料必须能够消除无触点干涉条纹。

干涉条纹的现象在光学记录系统中不是公知的。当使发光表面的照像胶片与其它发光表面，例如玻璃片基，光点屏或接触印像底片接触曝光时，一个共同的问题是在显影的影像中发生通称为“牛顿环”的紧密间隔的同心条纹图样（见物理百科词典，J、Thewlis，Ed，pergaman，伦敦，1961，P，878）。这些干涉条纹是由于从胶片上表面和接触片基的底表面来的反射光之间的光学干涉产生的;局部空气间隙的大小决定了这两个位置光线之间的程差，并从而决定了它们的相位差是否导致亮或暗的干涉条纹，造成增加或减少传送到乳剂层的曝光量。牛顿环趋于形成分隔的图样区域，该区域在曝光期间由接触位置同心地扩散，该区域具有窄小的条纹间隔，该间隔向每个图样的边缘逐渐变得更小。这些区域在外观上与宽的旋涡无触点扫描干涉条纹相当的不同，这些干涉条纹以通常约1毫米间距和常为几厘米长度的宽行覆盖整个影像区。

在现有技术中为防止形成牛顿环的方法是公知的。例如，已知在胶片的外表面掺入消光的颗粒。已知的消光颗粒的例子包括二氧化硅，聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA），其它聚乙烯化合物包括共聚物，淀粉或无机盐类。消光层的密度，从较少数量（例如使用小于0.1克/米²）直径通常为5到10微米的相当大的颗粒（如美国专利说明书No4235959，4022622，3754924和2322037所公开的）到颗粒重量较大直到1克/米²或50%的上层粘合剂（如英国专利说明书No 2077935和2033596以及美国专利说明书No 3507678和299201所公开的，这些专利使用较小的粒度）变化。

使用可见激光作为两种乳剂接触网版曝光的照明产生特别严重的牛顿环干涉条纹。美国专利说明书No 4343873公开了一种照像材料，该材料目的是使这种干涉条纹降至最低，它包含一层光散射层，通过该层感光层在激光下曝光。光散射颗粒的直径为照明激光波长的50-150%。该光散射层可以被涂作在照像材料上面或其它层下面的一层外层。

为了非光学性能，如抗粘结性能，耐磨性，润色能力，真空系统中的良好降落，以及降低的静电效应，在照像材料中使用消光剂也是已知的。一个使用消光剂的例子是如美国专利说明书No 4266010公开的一种红外感光胶片，该说明书描述了一种乳剂上层，该上层含有在酸处理的明胶粘合剂中的大小在0.2-10微米范围的PMMA，指出了这一涂层适用于所有类型照像材料，包括红外胶片。另一个例子是美国专利说明书No 3695888所公开的，它描述了一种借助具有内消旋烷基氨基取代基和特殊超增感剂的花青染料对红外线感光的照像乳剂，指出了这种材料可以含有消光剂，如淀粉，二氧化钛，氧化锌，二氧化硅，聚合物颗粒，包括如美国专利说明书No 2992101所公开的1-4微米甲基丙烯酸甲酯共聚物的颗粒和如美国专利说明书No 2701245所公开的由乳剂聚合生成的1-20微米聚甲基丙烯酸甲酯颗粒。

已发现，为消除牛顿环在照像材料上所用的已知类型涂层，不能防止含有对近红外线感光的细粒度乳剂的照像材料形成无触点干涉条纹。

按照本发明，提供了一种照像材料，该材料含有可以透过高于750纳米，一般在750-1500纳米范围内的近红外幅射的片基，一层或多层卤化银乳剂，该乳剂含有平均直径不超过0.4微米的颗粒，可对近红外幅射感光，特征在于该材料包括一种或多种：

（ⅰ）一层上层，该层是和感光乳剂相同的片基面上的最外层，这一上层是近红外线幅射的漫透射层，

（ⅱ）一层背层，该背层是在离照像感光乳剂较远的片基-面上的最外层，这一背层是近（译者注：原文为New）红外线幅射的漫反射层或吸收层，

（ⅲ）一层底层，该层位于片基和感光乳剂之间，这一底层是近红外线幅射的漫透射或吸收层，从而可以通过一激光扫描系统发射近红外线幅射使材料成像，而基本上不形成无触点干涉条纹。

按照本发明的照像材料防止内部光学干涉图样的形成，该图样使无保护的细颗粒的近红胶片在激光二极管近红外光源扫描以后冲洗时，尽管该胶片在显影期间与其他表面无接触，但被宽旋涡条纹所覆盖。

为防止无触点干涉条纹的形成，已经找到了三种主要工艺，这些工艺可以单独或结合使用。

已发现，材料的极细微的表面粗糙度可以在抑制干涉条纹的形成中起一种重要作用。平方毫米有200000个突出物的极细微粗糙度使得干涉条纹的形成显著降低，胶片背面的表面粗糙度为每平方毫米250000个突出物将基本上完全消除干涉条纹，在上表面粗糙度大于每平方毫米25000个，最好大于450000个突出物，也将基本上完全消除干涉条纹。

抑制干涉条纹形成的第二种工艺是提供一层背层或底层，该层含有一种吸附曝光光源波长范围光线的染料，当这样一层单独用作本发明方法的干涉条纹抑制层时，该层将具有至少0.75的峰值透射光学密度;当这样一层和其他干涉条纹抑制方法结合使用时，至少0.3光学密度将对干涉条纹的降低作出重要贡献。

减少条纹形成的第三种工艺是使用一种含有粘合剂的背层和/或上层，该粘合剂含有的颗粒比例如减感卤化银明胶颗粒的粘合剂的折射率大的高折射率，最好大体上大于0.3。

使用卤化银颗粒是有利的，因为卤化物可以在照像材料冲洗时除去。该高折射率层可在曝光后满意地被除去，如通过使用一种粘合剂的溶剂。

已经发现，有一些细颗粒感近红外线照像材料的组成，这些材料将基本上完全抑制触点干涉条纹的形成。例如可以用结合以下组成的一种或多种方法这样的照像材料抑制无触点干涉条纹。

（1）在离照像感光乳剂较远的片基面上的一层背层，该背层含有一种粘合剂，该粘合剂含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂平均粒度不超过2微米，一般在0.1-2微米范围内，最好为0.2-2微米，这一外背层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米至少含有250000个颗粒，这些颗粒突出该表面的平均水平之上至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小。

（2）一层和照像感光乳剂同一片基面上的上层，含有一种粘合剂，该粘合剂含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂的平均粒度大于1.5微米，一般在0.1-1.5微米范围，最好为0.2-1.5微米，这一上层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有250000个最好含有450000个颗，这些颗粒突出该表面的平均水平以上至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小。

（3）一层背层或底层，该层含有一种吸收750纳米以上的光线，最好吸收在750-1500纳米波长范围光线的防光晕染料并在该范围内具有至少0.75的峰值透射光学密度。

（4）含有一种防光晕染料的最外面背层，该染料对750纳米以上光线，最好在750-1500纳米波长范围，得到至少0.3峰值透射光学密度，该背层并含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂的平均粒度不大于2微米，一般在0.1-2微米范围，最好为0.2-2微米，这一层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有200000个颗粒，这些颗粒突出在该表面的平均水平以上，至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小。这一层可有选择地分成两个单独的层，一层含有表面粗糙剂的最外层和含有防光晕染料的内背层。

（5）结合一层背层和一层最外上层，该背层对于750纳米以上，最好在750-1500纳米波长范围内的光线具有峰值透射光学密度至少为0.3，该最外上层含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂平均粒度不大于2微米，一般在0.1-2微米范围内，最好为0.2-2微米，这一层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有200000个颗粒，这些颗粒突出在该表面的平均水平之上至少是其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小。

（6）结合一层防光晕层和一层最外的背层或上层，该防光晕层对于750纳米以上，最好在750-1500纳米波长范围内的光线具有峰值透射光学密度至少为0.3，该层位于感光层和片基之间，该最外背层或上层含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂的平均粒度不大于2微米，一般在0.1-2微米范围内，最好在0.1-0.2微米之间（译者注：原文如此），这一层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有200000个颗粒，这些颗粒突出在该表面的平均水平之上至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小。

（7）一层上层与一层最外背层，以及可选择地与一层位于背层和片基之间的涂层相结合，所说的上层含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂的平均粒度不大于2微米，一般在0.1-2微米范围内，最好在0.2-2微米之间，这一层具有极细微粗糙度的外表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有200000个颗粒，这些颗粒突出在该表面的平均水平之上至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小，所说的最外背层含有一种表面粗糙剂，该粗糙剂的平均粒度不大于2微米，通常在0.1-2微米范围内，最好在0.2-2微米之间，这一层具有极细微粗糙度的表面，这样以致每平方毫米该表面至少含有200000个颗粒，这些颗粒突出在该表面的平均水平之上，至少为其单个直径的30%，或0.2微米，无论以哪一种计算，突出都较小，所说的一层位于背层和片基之间的涂层含有一种防光晕染料，该染料对于750纳米以上，最好在750-1500纳米波长范围内的光线提供峰值透射光学密度至少为0.2。

（8）一层含有一种粘合剂的背层和/或上层，该粘合剂含有的颗粒折射率基本上大于粘合剂（例如非增感卤化银颗粒）的折射率，所说颗粒平均粒度低于5微米，最好为0.2-3微米，该层在照像冲洗时除去。

已发现，当用一扫描激光器成像时，照像材料的极细微粗糙度显著地影响该材料形成无触点干涉条纹的倾向。特别是发现了提供一层外背层，该层在该表面的平均水平之上提供了每平方毫米至少250000个突出物的极细微粗糙度，假定幅射由材料的其它面上发生时，将防止条纹的形成。类似地，假定从这一层的同一面幅射材料时，干涉条纹的形成可以通过提供一层上层防止，该上层具有极细微的表面粗糙度，该粗糙度至少提供每平方毫米250000，最好为450000个突出物。这一极细微的表面粗糙度与现有技术含有消光剂层的照像材料中所发现大为不同;通常，现有技术中的消光层往往提供具有比本发明所要求的突出物少一半数量的表面并经常含有小于本发明所使用表面的十分之一数量的突出物。

通过使用一层背层或底层，掺入一种防光晕染料以在750-1500纳米范围中提供至少0.75的峰值透射光学密度，基本上抑制干涉条纹的形成是可能的。

如上所述，可以利用表面粗糙层和防光晕层的结合，在这一场合，表面粗糙的严格参数和每一单独层的光学密度与在这些层用作降低干涉条纹形成的唯一手段时所要求的相比较，可以降低，因为这些层的结合有叠加效果。已发现，和另一层干涉条纹抑制层相结合所用的一层外层的合适的极细微表面粗糙度为每平方毫米200000个突出物。和一层表面粗糙层结合使用的一层防光晕层要求的光学密度至少为0.3。

如上所述的含颗粒的表面层最好用在材料的背表面，或在两个最外表面，而不是如何在感光材料乳剂面上的上层，因为，意外的是，用表面粗糙的背层抑制无触点激光扫描干涉条纹，当假定曝光来自乳剂面时，优于用在乳剂面上的类似上层。

用于这些层的有利的表面粗糙剂是例如美国专利说明书No2992101所公开的有机聚合物的颗粒，特别是聚甲基丙烯酸甲酯或可溶性显影液聚合物，如甲基丙烯酸酯共聚物的颗粒。当以颗粒规模的范围使用时，并且需要加载以得到上面说明的消光性能的其他合适的有机聚合物是例如英国专利说明书No 2078992和2033596以及美国专利说明书No 4287299和3079257中所公开的其他聚乙烯化合物或乙烯化共聚物。

其他合适的材料包括例如美国专利说明书No 4235959，3920456，3591379和3222037中所公开的二氧化硅或二氧化硅与聚合物的组合物以及如英国专利说明书No 2077935中所公开的坚膜的明胶，水溶性无机盐类，或淀粉，葡聚糖和这些聚合物的混合物。

现有技术中已知的一种类型消光剂是由典型地直径为0.1微米或更小的非常小的二氧化硅颗粒所组成。当分散在涂层粘合剂如含水明胶中时，这些小颗粒形成紧密结合的聚集体，典型地直径为1微米或更大，表现出好象他们是单一的颗粒。既可以通过使用所要求大小范围的单一颗粒，或同样地也可通过使用其总的大小在同样要求范围内的聚集体，得到为本发明所要求的消光性能。

合适的高折射率材料包括非感光卤化银晶体，这些晶体易于制成均匀的大小并被照像定影液所消除。卤化银的折射率通常在2.0-2.2范围内，其他合适的高折射率材料包括氧化锌和碳酸钙。

明胶是对所有这些涂层的合适的粘合剂并且具有大约1.5的折射率。

当小的聚合物或其他颗粒，特别是平均直径1微米或1微米以下的那些颗粒用来对涂覆的粘合剂层表面的消光时，在平均表面水平以上突出物的高度，以及突出的颗粒数，不仅取决于所含颗粒的重量，也取决于所用的涂覆和干燥条件。选择涂覆和干燥的条件，这些条件产生本发明所要求的高度的颗粒突出物，并且这些参数将被普通技术人员所理解是重要的。已经证明，当和合适的配方一起使用时，提供满意的表面粗糙度的一种工艺是在涂覆后立即把湿材料送入一个13℃相对湿度30%的冷却区以使凝胶凝固，然后于30℃，相对湿度30%干燥。发现薄层在30秒至1分钟内干燥。

按照本发明，除为了表面粗糙化加入上述消光颗粒外，照像材料可以含有小量（小于0.1克/米²）较大的聚合物，二氧化硅或具有平均直径5微米或更大颗粒的其他消光剂，以改善机械性能，如粘附力和耐磨性。

用于本发明照像材料的卤化银乳剂可以包括溴化银、氯化银、氯溴化银、溴碘化银和氯溴碘化银，并可用任何公知的，例如，在Re-search Disclosure 17643，1978年12月，Ⅱ段和Ⅲ段中所公开的方法制备。乳剂粒度不大于0.4微米，通常在0.05-0.4微米范围。

使用欧洲专利申请公开No 0088595中所公开的染料，或使用任何在现有技术中已知的其他光谱增感染料以得到例如在Mees and James，The Theory of The Photographic Process，第三版，198-199页中所公开的对波长750-1500纳米，最好为750-900纳米幅射的感光度，能使该乳剂感近红外线。

在本发明照像材料中存在的卤化银乳剂可防止产生灰雾并在保存期间稳定，防止灵敏度降低。合适的防灰雾剂和稳定剂是例如在Re-search Disclosure 17643，1978年12月，Ⅵ段中所公开的。

本发明照像材料中存在的卤化银乳剂可以使用例如在ResearchDisclosure 17643，1978年12月，Ⅴ段中所公开的光学增白剂。

本发明所用的光科增感卤化银可以含有例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，××1段中所公开的那些感光度增加化合物。

本照像材料的涂层可以含有例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，Ⅸ段中所公开的那些各种不同的胶体作为载体或粘合剂。这样的胶体可以用例如在Research Disclo-sure 17643，1978年12月，Ⅹ段中所公开的那些各种不同的有机和无机坚膜剂坚膜。

本发明的照像材料可以含有例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，Ⅺ，Ⅻ，和ⅩⅢ段中所公开的抗静电和导电层，增塑剂，和润滑剂，表面活性剂。

本发明所用的照像材料被涂覆在例如在Research Disclo-sure 17643，1978年12月，ⅩⅧ段中所公开的各种各样的透明片基上。

通过例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，ⅪⅤ段中所公开的那些已知的各种方法将感光染料和其他乳剂附加物渗入到照像材料的涂层中。类似地，也可用各种操作方法将照像材料涂覆在照像片基上。片基和涂覆操作是在例如Research Disclosure 17643，1978年12月，ⅩⅤ和ⅩⅦ段中所公开的。

可以通过例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，ⅪⅩ段中所公开的，在有显影剂存在时，使卤化银与一种含水碱性介质结合，在曝光以后使本发明所用的增感卤化银乳剂显影以生成可见银和/或染料影像。

虽然本发明的详尽公开是对含有直径低于0.4微米卤化银颗粒材料的，但干涉条纹的抑制方法同样可适用于含有其他感光卤化银晶体的材料，这些材料由于低的浊度（译者注：原文为Furbidity）可以限制扫描条纹的形成。特别是本发明可适用于含有直径超过0.4微米但有高的宽高比（译者注：原文为High asplect ratio）的卤化银片状颗粒的材料，特别是当这些颗粒在材料中以低的卤化银颗粒的百分率存在，余量由细颗粒组成时。

本发明的照像材料可以用于例如在Research Disclosure 17643，1978年12月，ⅩⅫ，ⅩⅫⅠ，ⅩⅪⅤ，ⅩⅩⅤ，ⅩⅩⅥ和ⅩⅩⅦ段中所公开的物理显影系统，影像转印系统，干式显影系统，扩散转印系统，印象和平版印刷，复制和直接印刷系统。现在将通过以下实施例来说明本发明。

在实施例中如下所述进行对样品的评价：通过无触点激光二极管扫描对样品的评价，以及对条纹的测量

在一个扫描器装置中，通过均匀的曝光对样品评价，在其中由一台Hitachi HLP 1400激光二极管发射的815纳米的幅射线在样品表面上被聚焦成一个50微米的小园点。用一种红外束行程的振动检流计反射镜在样品上以200行/厘米的筏式（rafter）光栅扫描聚焦的点。逐步提高曝光强度，以使在显影以后在样品上得到从最低到最高密度的影调范围。然后利用一台3M型XP507自动辊式洗片机，使用Eastman Kodak RPX-Omat冲洗药液使样品显影。对条纹图样进行目视检查，使用以下排列次序对其进行评价：

1.无可见条纹

2.几乎不能发现条纹

3.非常微弱，仅在仔细观察下见到

4.漫射图样

5.微弱，但明显清晰的条纹

6.易于观察的条纹

7.明显清晰的条纹图样

通过一台Joyce-Loebl MDM6测微密度计，使用一个小的滑动小孔（2.0×0.25毫米）跟踪，定量地评价了条纹图样。在实施例中给出了在亮的和暗的条纹之间用该法测量到的最大透射光学密度差（O、D）。在对1.0和2.0之间的平均光学密度的扫描范围中测量了O、D，在该范围，乳剂具有从2.5至3.5的反差值。

在实施例中对样品表面反射率的测量如下进行：

消光的背表面的直接（镜面）表面反射率的测量

在试验前通过物理除去感光乳剂层，并通过在其位置上使用一种浓厚地吸收红外线的防反光层制得样品。然后用一束由一激光二极管在815纳米处幅射的直径5毫米，已知能量的准直光束以10°至法角幅照这些样品的未处理过的面。使用一台幅射探测器以监测在20°到入射光束总角度处的反射能量（光导发光型730A）。

将这一探测器设备设置在离试验表面的30厘米距离处，并容许光线通过一个1厘米直径的园孔。

当使用同一探测器以评价入射和反射能量时，一种简单的计算使能确定百分反射率。仔细选择激光二极管/样品胶片/探测器的配置以保证测量中消除外来的能量。

对实施例中样品的消光表面的检验进行如下：

扫描电子显微镜（S、E、M）检验消光表面

将一个胶片样品（约1厘米²）从被检测表面的最上面粘到一个细棒上。使用一种国际科学仪器有限公司（ISI）的PS-2涂布装置于1.2千伏和10毫安经2分钟敷上一层金涂层，该层约25纳米厚。在一台ISI Super IIIA扫描电子显微镜上，操作电压10千伏，检验这些样品。将这些样品置于+20°角。在所有情况下，使用一种内标记号于图象放大5000x处摄相。在一个代表10微米×10微米区域的栅格内进行颗粒计数。如果颗粒看起来像是超出平均表面水平至少是其直径的30%，或0.2微米，无论以那一种计算，突出都较小，则对颗粒进行计数，于2000x或更低的放大倍数处摄相，并超出更为延伸的区域进行计数，在样品中该处仅是大的，不常见的颗粒存在。

所报导的结果是从每个被检验表面的两个不同部分的照相所得计数的一个平均值。

实施例1

感近红外线卤化银乳剂的制备及其在激光二极管扫描器试验所用照相材料中的使用

用欧洲专权申请公开№0088595的实施例17B所述的双注沉淀法制备一种含有平均粒度为0.28微米的具有立方体颗粒和一条窄分布曲线的64%（摩尔）氯化银和36%（摩尔）溴化银的乳剂。

连续使用较低的沉淀温度，同样制备平均颗粒度为0.23微米、0.20微米、0.16微米和0.13微米的相似的乳剂。所有这些乳剂习惯上都是金和硫增感及稳定的。并按欧洲专利申请公开№0088595的实施例18中所述的基本配方加入近红外光谱增感染料、三苯磷超增感剂、湿润剂和坚膜剂。在透明的0.18毫米的涂聚酯底板上逐一地涂上乳剂，以得到2.7到3.0米²重的银涂层。冈时敷上含有100毫克过酰胺L9C和0.15毫升Teepol（阴离子去垢剂）610湿润剂的200毫升5%的含水明胶的保护层和4.5毫升2%的甲醛坚膜剂溶液，但不敷消光剂或滤光染料，以得到1.33克/米²明胶的上层。胶片底板的背表面留下不涂。过酰胺L9C是商业上可从英国Millmaster-Onyx购到的一种高活性月桂酸-二乙醇胺缩合物。Teepol610是商业上可以从英国Shell Chemicals有限公司购得的一种仲硫酸烷基钠盐。

按上述所述测定试样，结果示于表1。

表1

乳剂颗粒度对扫描器条纹的影响

卤化银粒度视觉外观条纹光学

（微米）密度差

0.28 2 0.02

0.23 4 0.03

0.20 6 0.04

0.16 7 0.07

0.13 7 0.06

这一实施例证明随着卤化银粒度的减小，扫描器条纹增加严重。

实施例2

根据本发明具有含聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）颗粒的背面层的照相材料和抗扫描器条纹

性能

如实施例1那样，制备、近红外增感并涂覆乳剂，不同的是使用0.18毫米涂聚酯底板，该底板提供有一层在明胶粘合剂（1.3克/米²）中含0.3克/米²的平均直径0.5微米的聚（甲基丙烯酸甲酯）颗粒的背层。该背层由也含如实施例1中的过酰胺L9C和Teepol610湿润剂的含水溶液及甲醛坚膜剂涂覆。涂到胶片底板上之后，马上就使湿的背层短暂地通过温度13℃和相对湿度30%的激冷区，以使胶体固化，然后通过温度约30℃和相对湿度30%干燥，并在一分钟之内完成。如上所述，试样在激光二极管扫描器系统中试验，结果列于表2。

在实施例1中同样粒度乳剂的涂层作为控制标准。

表2

0.5微米聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）颗粒背层的效果

卤化银乳剂 0.5微米视觉外观条纹光学每（10微米）²

粒度（微米） PMMA背层克/米²密度差突出颗粒数

0.20 0.3 1 0.015 153

0.16 0.3 1 0.015 154

0.13 0.3 1 0.015 154

实施例3

根据本发明具有含非照相感光卤化银颗粒的背层的照相材料

如同实施例1中那样涂覆一层0.16微米氯溴化物乳剂，不同的是使用0.18毫米聚酯底板，该底板提供在明胶粘合剂中（1.3克/米²）含卤化银颗粒，对近红外光不感光的背层颗粒的不同粒度和加载量对扫描器条纹的影响列于表3。

表3

非照相感光的卤化银背层

颗粒类型颗粒度涂层视觉外观条纹

（微米）克/米²O.D.D.

无 - - 7 0.06

（控制）

表3（续）

颗粒类型颗粒度涂层视觉外观条纹

（微米）克/米²O.D.D.

AgIBr 0.6 0.4 2 0.02

AgIBr 0.6 0.8 2 0.02

AgIBr 1.0 0.5 2 0.02

AgIBr 1.0 1.0 1 0.015

′O.D.D.二光学密度差

实施例4

具有含其它表面粗糙剂的背层的照相材料

如同在实施例1中那样涂覆一层0.16微米氯溴乳剂，不同的是该乳剂，不同的是该乳剂涂覆在0.18毫米涂聚酯底板上，该底板具有一层在明胶粘合剂中（1.3克/米²）含碱-可溶性甲基丙烯酸-甲基丙烯酸乙酯共聚物的颗粒（平均粒度为0.5到2.0微米）的背层，由含有如同在实施例1中的过酰胺L9C或Teepol610湿润剂的含水溶液和如同在实施例1中的甲醛坚膜剂涂覆该背层。另外制备一个同样的试样，其中聚合物颗粒被较低加载量的平均直径5微米的二氧化硅颗粒所取代。试验这些试样同一个无背层的试样比较，结果列于表4。

表4

背层组成加加载量视觉外观条纹每（10微米）²

克/米²O.D.D.′突出颗粒数

无 - 7 0.06 -

碱性可溶共聚物

平均粒度0.5到 0.32 2 0.02 46

2.0微米

二氧化硅

粒度5微米 0.1 7 0.06 7

′O.D.D.＝光学密度差

常规的二氧化硅消光落到本发明颗粒涂层范围之外不能防止条纹形成

实施例5

防光晕背层对扫描条纹的影响（0.16微米氯溴化物乳剂）

如同在实施例1中那样涂覆一层0.16微米氯溴化物乳剂，不同的是该乳剂涂覆在0.18毫米聚酯底板上，该底板具有由5克/米²明胶所组成的一层背层，该背层含有一种在750和900纳米间强吸收的防光晕染料（在欧洲专利申请公开№0101646中的染料29），该染料在820纳米处光学密度为0.40，在激光二极管扫描器系统中与一个无背层的试样比较试验该涂层，结果列于表5。

表5

防光晕涂层（AH）的效果

实施例乳剂在820纳米处视觉外观条纹

防光晕O.D. O.D.D.′

5 氯溴化物 0 7 0.07

5 氯溴化物 0.40 5 0.035

6 碘溴化物 0 7 0.06

6 碘溴化物 0.45 6 0.04

6 碘溴化物 0.80 3 0.025

6 碘溴化物 1.20 2 0.02

′O.D.D＝光学密度差

一层防光晕涂层光晕涂层明显地有助于抑制条纹

实施例7

扫描器条纹形成与镜面反射率和表面粗糙度的关系

如果实施例1中那样涂覆一层0.16微米氯溴化物乳剂，不同的是使用0.18微米的聚酯底板，该底板提供含有一系列浓的平均直径0.5微米的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）颗粒的背层，该背层用一种如实施例2的明胶粘合剂（1.3克/米²）涂覆。这些试样在激光二极管扫描器系统中试验，对条纹形成的影响列于表6。

染料17）的明胶层（5克/米²），该染料具有从750到900纳米的红外线吸收，在815纳米处的光学密度为0.6，底板反面并具有一层含0.065克米²平均直径6微米的聚甲基丙烯酸甲脂（PMMA）颗粒的明胶上层（1.3克/米²）（背层）。用激光二极管扫描器试验这种涂层，结果列于表7。

（b）按照本发明的光晕染料和表面粗糙剂

重复（a）的涂层，添加0.18克/米²的0.5微米聚甲基丙烯酸甲脂（PMMA）园颗粒到正面和反面上层上。用激光扫描器试验该试样，结果列于表7。

表7

试样激光扫描的影响在背层每（10微米）²

视觉外观突出颗粒数

a 5 2

b 1 35

发现试样（a）有清楚可见，无触点扫描条纹，而试样（b）在大多数精确的激光二极管扫描器试验条件下没有任何无触点扫描条纹。

实施例9

具有含一种碱一种碱-可溶性共聚物的颗粒的外消光层的照相材料

如同实施例1中那样涂敷一层0.16微米氯溴化物乳剂，不同的是以一种明胶粘合剂（1.3克/米²）将该乳剂涂敷在0.18毫米聚脂

表6

条纹减少和通过表面反射率测量0.5微米聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）的表面消光效果及物理突出的关系

0.5微米PMMA 激光扫描的影响背面反射率每（10微米）²

背层克/米²视觉外观条纹O.D.D.′ 突出颗粒数

无 7 0.07 4.6 2

0.04 6 0.05 4.4 27

0.07 4 0.04 3.1 51

0.13 2 0.025 1.49 83

0.20 1 0.02 0.76 126

0.27 1 0.02 0.46 157

′O.D.D.＝光学密度差

实施例8

防光晕染料和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）颗粒都涂覆的涂层

（a）仅有防光晕染料和常规的消光剂

制备一种粒度0.26微米的氯溴化物乳剂，并使用实施例1的方法使增感。该乳剂涂在0.18毫米聚酯底板上，在2.4克/米²银涂层上，同时敷一层含0.036克/米²聚甲基丙烯酸甲脂（PMMA）平均直径2.5微米的颗粒的薄明胶（1.3克/米²）上层。底板的反面涂敷一层含吸收红外线染料（欧洲专利申请公开№.0101646中底板上，该底版有一背层，该背层含碱-水溶性甲基丙烯酸乙酯共聚物，如同实施例1中那样由一种含过酰胺L9C和Teepolo10湿润剂的含水溶液和甲醛坚膜涂覆。该共聚物颗粒平均直径0.75微米，但包括直径直到2微米的大的范围。含不同密度的这种消光剂的试样同无背层试样比较做条纹形成试验，结果列于表8。

表8

不是用作背层就是用作上层的碱-可溶性共聚物的消光层对条纹形成的影响

共聚物消光球每（10微米）²用作染料底层扫描后

颗粒加载量突出颗粒数最外乳剂在820毫米视觉外观

克/米²背层上层 O.D.＝0.4

无 7

0.06 26 + 5

+ + 4

+ 6

0.10 42 + 3

+ + 3

+ 4

0.14 58 + 2-3

+ + 2-3

+ 3

0.20 70 + 1-2

+ + 1-2

+ 2

O.D.＝光学密度

条纹消除的程度取决于结构类型，并取决于由消光剂产生的突出颗粒的表面密度。另外的涂层用一种相似的方法制得，使用同样的0.16微米氯溴化物乳剂和共聚物消光剂的悬浮液，不同的是如同实施例5那样使用0.18毫米的聚酯底板，该底板具有在一面涂覆一层吸收红外线的防光晕层。消光层直接涂到防光晕层上面，并把感光乳剂涂到片基的反面。

如同实施例1那样，第三组涂层由一种无背层的0.18毫米聚酯底板上的同样的氯溴化物乳剂制成，不同的是通常的乳剂保护层被上面所述的共聚物颗粒的消光悬浮液所代替。

在一层防光晕上面涂敷消光层的涂层和把消光保护层涂在乳剂上的那些涂层也用激光二极管扫描器试验，结果列于表8。

勘误表 Cpckl 856569

勘误表

勘误表

Claims

1、一种照相材料，该材料包括一层透近红外辐射的片基，一层或多层颗粒平均直径不大于0.4微米的，对近红外辐射感光的卤化银乳剂，其特征在于该照相材料包括一层或多层以下涂层：

(1)一层上层，该上层是和照相感光乳剂同一片基面上的最外层，该上层是对近红外辐射的漫透射层。

(2)一层背层，该背层是离照相感光乳剂较远的片基面的最外层，该背层是对近(原文为new)红外辐射的漫反射层或吸收层，

(3)一层底层，该底层位于片基和照相感光乳剂之间，该底层是一对近红外辐射的漫透射层或吸收层，所以该照相材料可以由发射近红外辐射的激光扫描系统成象，而基本上不形成无触点干涉条纹。

2、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层背层，该背层包括含有一种平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的粘合剂，该背层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米的这种表面至少含250，000个颗粒，颗粒以至少30%单个直径，或0.2微米突出在表面平均水平以上，无论以那一种计算，突出都较小。

3、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层上层，该上层包括一种含有平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的粘合剂，这上层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米的这种表面至少含有250，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面平均水平以上，无论以那一种计算，突出都较小。

4、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该极微细表面粗糙度是，该表面每平方毫米至少含450，000个颗粒，这些颗粒至少30%单个直径或0.2微米突出在表面平均水平以上，无论以那一种计算，突出都较小。

5、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材包括一层含有吸收近红外光和在该范围内具有峰值透射光学密度至少为0.75的防光晕染料的背层或底层。

6、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层背层，该背层含有对近红外光有峰值透射光学密度至少为0.3的防光晕染料，和含有平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂，这一层具有极细微粗糙度的外表面，以致于每平方毫米的该表面含至少200，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面的平均水平以上，无论那一种计算，突出都较小。

7、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层具有对近红外光峰值透射光学密度至少为0.3的背层和一层含有平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的上层，该上层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米的该表面至少含200，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面的平均水平以上，无论以那一种计算，突出都较小。

8、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层具有对近红外光的峰值透射光学密度至少为0.3的防光晕底层和一层含有平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的背层或上层，该层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米的该表面至少含有200，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面的平均水平以上，无论那一种计算，突出都较小。

9、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层含平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的上层，该层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米该表面至少含200，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面的平均水平以上，无论那一种计算，突出都较小，并且包括一层含平均粒度不大于2微米的表面粗糙剂的背层，该背层具有极细微的外表面粗糙度，以致于每平方毫米的该表面至少含200，000个颗粒，颗粒以至少30%的单个直径，或0.2微米突出在该表面的平均水平以上，无论以那一种计算，突出都较小，并且可选择地包括一层含对近红外光提供峰值透射光学密度至少为0.3的防光晕染料的底层。

10、如权利要求1中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料包括一层背层和/或上层，它们包含一种粘合剂，该粘合剂含有折射率基本上大于平均粒度低于5微米的粘合剂的折射率的颗粒，这些层在照相显影中是可除去的。

11、如权利要求10中所要求的一种照相材料，其特征在于该照相材料是对波长范围750到900纳米的辐射感光的。

12、如权利要求1到3和5到9中任一项所要求的一种照相材料，其特征在于粗糙剂颗粒的平均粒度在0.2到2微米范围之内。

13、如权利要求1到3，5到9和12中任一项所要求的一种照相材料，其特征在于粗糙剂选自聚甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯与甲基或甲基丙烯酸乙酯的共聚物。

14、如权利要求10中所要求的一种照相材料，其特征在于高折射率的材料的平均粒度在0.2到3微米范围内。

15、如权利要求14中所要求的一种照相材料，其特征在于高折射率的材料选自卤化银、氧化锌和碳酸钙。

16、一种基本上没有无触点干涉条纹的记录影象的方法，该方法包括在没有与由位于照相材料的乳剂面上的激光二极管扫描系统产生的近红外辐射接触另外表面的情况下，使上述任一权利要求所要求的照相材料曝光，此后冲洗上述材料使影象显影。