CN2436514Y - 一种陶瓷薄膜沉积装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型是一种大型数控等离子化学气相沉积装置,主要由高频电源、流量计、气瓶及设置在主机柜内的机械泵、罗茨泵、蝶阀、升降机械等构成。其中在主机柜的上部设置一带上下封头的真空室,其内室直径为1000mm—2000mm,主机柜可直接与电脑控制系统相连,与现有设备相比工作空间大,自动化程度高,减轻了操作难度,广泛用于发动机零部件、刀具、模具等金属异型表面沉积各种陶瓷薄膜。
Description
本实用新型涉及一种大型数控等离子化学气相沉积装置,尤其是一种陶瓷薄膜沉积装置。
目前,国内外等离子化学气相沉积装置,主要用于半导体和光学仪器沉积,其沉积装置一是工作空间小(直径一般在750mm以内),无法实行产业化生产;二是配气为人工手动操作,稳定性差,重复性不好。
本实用新型的目的在于克服上述现有设备的不足,提供一种具有空间大,可与电脑控制柜配合使用,其主机真空室的直径为1000mm-2000mm,由电脑自动采集工作数据和控制加工过程,主要用于发动机摩擦副、刀具、模具等金属异型工件表面沉积各种陶瓷薄膜的产业化设备。
本实用新型的目的是这样实现的,它主要由高频电源、隔直流电容、流量计、气瓶以及设置在主机柜内的机械泵、蝶阀、管道、罗茨泵、放气阀、升降机械、真空计构成,其中在所述的主机柜的上部设置一带有上、下封头的真空室,且在真空室的内部设有上、下极板,其中,上极板连接一根贯穿真空室上封头的通管接头,在通管封头的管封处连接一根与计量计相通的配气管,并且,上极板极端通过导线与隔直流电容相连接,隔直流电容的另一端与高频电源连接,而设置在真空室下封头上端的下极板,其极端通过导线与高频电源的地线共接对地;所述的下封头其封头底部设置一与蝶阀相连的阀管接头,在阀管接头左、右两侧的下封头壳体上分别设置了与真空室相通的放气阀、真空计,所述的真空室的端头设有二根流通管,真空室的内室直径为1000mm-2000mm之间。
由于采用了本设计,提供了大的工作空间,并且与配套设置使用时操作方便简单,自动化程度高,提高了加工质量和加工质量的稳定性,减轻了工人的操作难度,可用于大型金属异型工件的表面化学气相沉积。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中1.高频电源;2.隔直流电容;3.上极板;4.下极板;5.流量计;6.气瓶;7.机械泵;8.蝶阀;9.管道;10.罗茨泵;11.放气阀;12.升降机械;13.真空计;14.主机柜;15.上封头;16.下封头;17.真空室;18.通管接头;19.阀管接头;20.管封;21.配气管;22.导线;23.导线;24.流通管。
在主机柜14的上部设置一带有上、下封头15、16的真空室17,在真空室17的内部设有上、下极板3、4,其中,上极板3连接一根贯穿真空室17上封头15的通管接头18,在通管接头18的管封20处连接有一根与流量计5相通的配气管21,配气管21的另一端与带有流量计的气瓶6连接。气瓶6内可装有用于沉积的陶瓷气体上极板3的极端通过导线22与隔直流电容2相连接,隔直流电容2的另一端与高频电源1连接;设置在直空室17下封头16上端的下极板4,其极端通过导线23与高频电源1的地线共接对地;下封头16其封头底部设置一与蝶阀8相连的阀管接头19,在阀管接头19的左、右两侧的下封头16壳体上分别设置了与真空室17相通的放气阀11和真空计13。阀管接头19通过管道9和蝶阀8分别与安装在主机柜14壳体上的罗茨泵10和机械泵7连接,在真空室17的端头通过二根流通管24与安装在主机柜14壳体上的升降机械12连接,从而构成整个主机结构。
此主机机构可与相应的电脑控制系统连接,由电脑自动采集工作数据和控制加工过程,提高了加工质量和质量的稳定性,减轻了工人操作难度及工作强度。又由于具有直径1000mm-2000mm的真空室17、工作空间大,可实行产业化生产,广泛应用于发动机零部件、刀具、模具等金属异型工件表面沉积各种陶瓷薄膜及各种化学气相沉积,与现有设备相比,工作空间大,易于产业化生产,加工质量明显提高,质量稳定可靠,减轻了操作难度。
Claims (2)
1、一种陶瓷薄膜沉积装置,具有高频电源(1)、隔直流电容(2)、流量计(5)、气瓶(6),以及设置在主机柜(14)内的机械泵(7)、蝶阀(8)、管道(9)、罗茨泵(10)、放气阀(11)、升降机械(12)、真空计(13),其特征是:在所述的主机柜(14)的上部设置一带有上、下封头(15)、(16)的真空室(17),且在真空室(17)的内部设有上、下极板(3)、(4),其中,上极板(3)连接一根贯穿真空室(17)上封头(15)的通管接头(18),在通管接头(18)的管封(20)处连接一根与流量计(5)相通的配气管(21),并且,上极板(3)极端通过导线(22)与隔直流电容(2)相连接,隔直流电容(2)的另一端通过导线与高频电源(1)连接,而设置在真空室(17)下封头(16)上端的下极板(4),其极端通过导线(23)与高频电源(1)的地线共接对地;所述的下封头(16)其封头底部设置一与蝶阀(8)相连的阀管接头(19),在阀管接头(19)左、右两侧的下封头(16)壳体上分别设置了与真空室(17)相通的放气阀(11)、真空计(13),所述的真空室(17)的端头设有二根流通管(24)。
2、根据权利要求1所述的一种陶瓷薄膜沉积装置,其特征是:所述的真空室(17),其内室直径为1000mm-2000mm之间。
Priority Applications (1)
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CN 00245788 CN2436514Y (zh) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | 一种陶瓷薄膜沉积装置 |
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CN2436514Y true CN2436514Y (zh) | 2001-06-27 |
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Family Applications (1)
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CN 00245788 Expired - Lifetime CN2436514Y (zh) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | 一种陶瓷薄膜沉积装置 |
Country Status (1)
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2000
- 2000-08-08 CN CN 00245788 patent/CN2436514Y/zh not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20010627 |