CN2307429Y - 生产核径迹膜的连续蚀刻装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种生产核径迹膜的连续蚀刻装置,该装置将需要蚀刻的薄膜缠绕在送膜轴上,从送膜轴上拉出的薄膜经紫外光源照射后依次通过蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子水清洗槽和烘干槽,最后缠绕在收膜轴上。本连续蚀刻装置可用于核反应堆或重离子加速器制造的核径迹膜的蚀刻,连续操作,自动控制,每小时可生产孔径在0.1～10.0μ之间的核径迹蚀刻膜10～400米。
Description
本实用新型涉及一种生产核径迹膜的连续蚀刻装置，属核能应用技术领域。
核径迹蚀刻膜的生产是利用反应堆的中子流，辐射U235，使U235裂变产生裂变碎片，或利用重离子加速器加速的高能重离子，经过准直系统，穿过模板，照射聚酯、聚碳酸酯、聚丙烯等塑料薄膜，使塑料薄膜产生径迹损伤，再经氧化、酸或碱等化学试剂蚀刻、清洗、干燥。制成不同孔密度、不同孔径大小的具有不同图案的直通圆柱孔型径迹蚀刻膜。
这种径迹蚀刻膜既可以利用它的精确孔径和高的透过率用于精确过滤，也可以利用它特殊的微孔结构制成特定图案而用于防伪标志以及其他的特殊用途。由于用途广泛，社会需求日益增加，但传统蚀刻过程，采用简单间断蚀刻设备，因而十分费工费时，生产效率很低，制造成本太高，远满足不了社会需求。
本实用新型的目的是设计一种生产核径迹膜的连续蚀刻装置，使整个蚀刻过程连续、自动完成，以达到提高生产效率、降低生产成本的目的。
本实用新型设计的生产核径迹膜的连续蚀刻装置，由紫外光源、蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子水清洗槽和烘干槽组成。需要蚀刻的薄膜缠绕在送膜轴上，从送膜轴拉出的薄膜依次通过紫外光源照射后进入蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子水清洗槽和烘干槽，最后缠绕在收膜轴上。蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子清洗槽和烘干槽内设有支撑轴，每两槽之间设有驱动轴。
本实用新型设计的连续蚀刻装置，可用于核反应堆或重离子加速器制造的核径迹膜的蚀刻，整个装置将紫外线照射、化学蚀刻、洗涤、烘干等连在一起，连续操作，自动控制，每小时可生产孔径在0.1～10.0μ之间核径迹蚀刻膜10～400米，该装置既可以做粒膜，也可以做防伪标志膜。
附图说明：
图1是本实用新型的结构示意图。
图1中1是送膜轴、2是照射后塑料薄膜、3是紫外光源、4是驱动轴、5是支撑轴、6是蚀刻槽、7是水洗槽、8是酸洗中和槽、9是无离子水清洗槽、10是烘干槽、11是成品收膜轴。
本装置的工作过程为：
经中子辐射过的塑料薄膜2，从送膜轴1上被驱动轴4输出后，首先经紫外光源3照射，然后依次经过蚀刻槽6、水洗槽7、酸洗中和槽8、无离子水清洗槽9，最后进入烘干槽10烘干后成为核径迹膜成品，被卷起在成品收膜轴11上。
实施例1：
将辐照过的聚酯薄膜，在用不锈钢材料制成的连续蚀刻装置中，蚀刻剂为NaOH，浓度8Mol，蚀刻促进剂为十二烷基苯磺酸钠，重量百分比为：0.1％，紫外线照射剂量1J/cm2；蚀刻温度80℃；清洗水量2T/h，烘干温度80℃，蚀刻速度50米/小时，制得孔径5.0微米的径迹蚀刻膜。
实施例2：
将辐射过的聚丙烯薄膜，在用钛材制成的连续蚀刻装置中，蚀刻剂硫酸浓度8Mol，添加适量三氧化铬；紫外线照射剂量1J/cm2；蚀刻温度80℃；清洗水量2T/h，烘干温度80℃，蚀刻速度30米/小时，制得孔径1.0微米的径迹蚀刻膜。
Claims (1)
1、一种生产核径迹膜的连续蚀刻装置，其特征在于该连续蚀刻装置由紫外光源、蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子水清洗槽和烘干槽组成；需要蚀刻的薄膜缠绕在送膜轴上，从送膜轴拉出的薄膜经紫外光源照射后依次通过蚀刻槽、水洗槽、酸洗中的槽、无离子水清洗槽和烘干槽，最后缠绕在收膜轴上；所述的蚀刻槽、水洗槽、酸洗中和槽、无离子清洗槽和烘干槽内设有支撑轴，每两槽之间设有驱动轴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 97219075 CN2307429Y (zh) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 生产核径迹膜的连续蚀刻装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN 97219075 CN2307429Y (zh) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 生产核径迹膜的连续蚀刻装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN2307429Y true CN2307429Y (zh) | 1999-02-10 |
Family
ID=33935206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 97219075 Expired - Lifetime CN2307429Y (zh) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 生产核径迹膜的连续蚀刻装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN2307429Y (zh) |
-
1997
- 1997-06-27 CN CN 97219075 patent/CN2307429Y/zh not_active Expired - Lifetime
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