CN2234640Y - 激光全息水印护卡膜 - Google Patents

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刘永智
张寿康
廖原
王亚非
帅毅
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Abstract

激光全息水印护卡膜,是一种防伪薄膜,它是由印有全息图案的有机薄膜和由高、低折射率介质材料相间重叠组成的多层介质膜,以及粘接层构成。使用该薄膜贴附在被防伪物上,穿透薄膜不但能观察到被防伪物的表面细节。而且在印制全息图案的薄膜上又具有干涉效应及保护全息图案的多层介质膜,从而防止了用复印或印刷的办法来复制伪造物品的可能性。该薄膜特别适用于有效专用证件的封塑,能有利识别、防止和打击一切假冒伪造行为。

Description

激光全息水印护卡膜
本实用新型涉及到光学中的薄膜光学和全息技术。
采用光学原理制作的防伪薄膜产品,目前有两大类,全息光印产品和全息水印产品。全息光印技术制作的产品是由有机薄膜、铝膜和不干胶组成,并在有机薄膜或铝膜上制作有全息图案,使用时将薄膜贴附在被防伪物的上面(见附图1)。由于这种薄膜组织成份中的铝膜不具有透明性,若用它贴附在被防伪物上,则观察不到被防伪物的表面细节。全息水印技术制作的产品是利用多层膜的干涉效应,在不同的角度下通过多层介质膜能观察到被防伪物呈现出不同的颜色(见附图2)。以上所述的产品多用于一般要求的防伪物上。
本实用新型的目的是为了获得既有全息图案,又能通过防伪薄膜观察到被防伪物的表面细节,以及具有多层膜的干涉效应的防伪薄膜,
以便用于特殊要求和一般要求的防物上。
为了实现以上的任务,本实用新型提供出一种新的防伪薄膜——激光全息水印护卡膜。该薄膜包含有图案层、光干涉效应图案保护层和粘接层,图案层选用有机薄膜材料、在上面印制有所需的全息图案作为防伪标志,在印制有全息图案的有机薄膜上复盖有由高(H)、低(L)折射率介质材料相间重叠组成的多层介质膜(HLHL……H),并在其上涂有粘接层(见附图3、附图4)。
本实用新型提供的激光全息水印护卡膜,从外观上看光学效应极佳,若用它贴附在被防伪物上,穿透该薄膜不但能观察到被防伪物的表面细节,而且在印制全息图息的薄膜上又具有干涉效应及保护全息图案的多层介质膜,从而防止了用复印或印刷的办法来复制伪造物品的可能性。它特别适用于有效的专用证件的封塑,如居民身份证、金融、税务、公安、交通、工商、邮电等部门发行的各种证、卡,有利识别、防止和打击一切假冒伪造行为。
附图说明:
图1是全息光印技术产品的结构示意图
图2是全息水印技术产品结构示意图
图3是本实用新型结构示意图
图4是本实用新型采用的多层介质膜结构示意图
图中:1—被防伪物;2—粘接层;3—铝膜;4—有机薄膜;5—多层介质膜;7—高折射率介质材料;8—低折射率介质材料。
接合附图通过实施进一步说明本实用新。
现以制作防伪身份证为例。首先制作激光全息水印护卡膜,在这里选用有机薄膜材料PET,在它上面模压所需的全息图案作为专用识别标志,然后在全息图案膜上蒸镀多层介质膜,该多层介质膜由高(H)、低(L)折射率介质材料相间重叠组成(HLHLH)。高折射率材料可用二氧化锆(ZrO2)、或二氧化锆加二氧化钛(ZrO2+TiO2)、或一氧化钛(TiO)、或五氧化二钽(Ta2O5)、或五氧化二铌(Nb2O5)、或硫化锌(ZnS),在这里选用二氧化锆加二氧化钛(ZrO2+TiO2),低折射率介质材料可用一氧化硅(SiO)、或二氧化硅(SiO2)、或三氧化二钇(Y2O3)、或三氧化二铝(Al2O3)、或氟化钡(BaF2)、或氟化镁(MgF2)、或氟化钙(CaF2),在这里选用一氧化硅(SiO),最后在多层介质膜上涂复粘接层,本实施例中粘接层选用热熔胶,以上完成激光全息水印护卡膜的制作。然后将身份证正面紧贴涂有热熔胶的薄膜,通过塑压机过塑,就得到具有激光全息水印的防伪身份证。
同理,用上述方法可制造出其它的具有激光全息水印的防伪证或防伪卡。

Claims (3)

1、激光全息水印护卡膜,包含有图案层、光干涉效应保护层和粘接层构成,其特征在于图案层是印制有全息图案的有机薄膜,并在其上复盖有由高、低折射率介质材料相间重叠组成的多层介质膜,在介质膜上涂有粘接层。
2、根据权利要求1所术的激光全息水印护卡膜,其特征在于印制有全息图案的有机薄膜是PET薄膜;组成多层介质膜选用的高折射率介质材料是:ZrO2、或ZrO2+TiO2、或TiO2、或Ta2O5、或Nb2O5、或ZnS,选用的低折射率介质材料是:SiO、或SiO2、或Y2O3、或Al2O3、或BaF2、或MgF2、或CaF2;介质膜上涂复的粘接层是热熔胶。
3、根据权利要求2所述的激光全息水印护卡膜,其特征在于多层介质膜选用的高折射率介质材料是ZrO2+TiO2,低折射率介质材料是SiO相间重叠组成HLHLH。
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