CN221207962U - 一种具有均匀的上料功能的反应釜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种具有均匀的上料功能的反应釜，包括釜体，釜体内部固定安装有安装环，安装环内部固定安装有输送管，输送管底部固定安装有若干个喷头，输送管左侧固定连接有进水管，进水管顶部固定安装有阀门，釜体顶部设置有上料箱，上料箱内部左右两侧分别固定安装有置料板，上料箱顶部固定安装有送料机构，上料箱右侧固定安装有螺纹块，螺纹块底部左端内部设置有限位杆，限位杆底部固定连接有底座，螺纹块底端右侧内部转动安装有螺纹杆，螺纹杆底部固定连接有第一驱动电机。本实用新型通过设置进水管、输送管、安装环和喷头，在反应釜使用过后，对反应釜内壁上的残留物清洗时，不在需要人工进行清洗，解决了工作人员工作强度较大的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及反应釜技术领域，尤其涉及一种具有均匀的上料功能的反应釜。
背景技术
反应釜是一种用于化学反应的设备，通常具有密封性能，能够在高温、高压等极端条件下运行。它广泛应用于化学、制药、食品等工业领域。
经检索，专利申请号为CN202121870025.9的专利公开了一种具有均匀的上料功能的反应釜，包括釜体和上料箱，釜体上方设置有上料箱，釜体上端面固定连接有加料管，釜体下端面固定连接有出料管，釜体下端面四边角处均固定连接有支腿，支腿一侧固定设置有底座，底座上设置有用于升降上料箱的升降机构，上料箱内侧设置有用于间断式送料的导料机构。本实用新型中，通过启动第二驱动电机使得转动杆转动，转动杆带动扫料板进行转动，如此置料板上堆积的物料经扫料板的转动向下掉落，然后物料经出料口向釜体内侧掉落，如此能够很好的控制物料下落的量，又通过与转动杆同步旋转的导料杆将物料打散，如此不仅避免物料堆积成块，且能够避免物料堵塞于加料管内侧。
上述专利中描述的反应釜在使用过后，反应釜的内壁上会残留有一定的缓和物料，那么就需对反应釜内部进行清理，但是在清理时，需要人为手动的对反应釜内部进行清理，就使得工作人员的工作强度较大。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种具有均匀的上料功能的反应釜。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种具有均匀的上料功能的反应釜，包括釜体，釜体的内部固定安装有安装环，安装环的内部固定安装有输送管，输送管的底部固定安装有若干个喷头，输送管的左侧固定连接有进水管，进水管的顶部固定安装有阀门，釜体的顶部设置有上料箱，上料箱的内部左右两侧分别固定安装有置料板，上料箱的顶部固定安装有送料机构，上料箱的右侧固定安装有螺纹块，螺纹块的底部左端内部设置有限位杆，限位杆的底部固定连接有底座，螺纹块的底端右侧内部转动安装有螺纹杆，螺纹杆的底部固定连接有第一驱动电机。
优选地，进水管的右端贯穿釜体和安装环连接在输送管上。
优选地，喷头贯穿安装环的延伸至釜体的内部。
优选地，送料机构由第二驱动电机、转动杆、扫料板、导料杆和海绵垫构成。
优选地，第一驱动电机安装在底座的内部。
优选地，釜体的底部固定连接有四个支腿。
本实用新型具有以下有益效果：
本实用新型通过设置进水管、输送管、安装环和喷头，在反应釜使用过后，对反应釜内壁上的残留物清洗时，不在需要人工进行清洗了，从而解决了工作人员的工作强度较大的问题。
附图说明
图1为本实用新型提出的主视结构示意图；
图2为本实用新型提出的剖视结构示意图；
图3为本实用新型提出的图2中A处局部放大结构示意图；
图4为本实用新型提出的进水管和釜体连接处剖视结构示意图。
图中：1、釜体；2、上料箱；201、置料板；3、底座；301、限位杆；4、送料机构；5、第一驱动电机；501、螺纹杆；502、螺纹块；6、进水管；601、阀门；7、输送管；8、安装环；9、喷头。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-4，一种具有均匀的上料功能的反应釜，包括釜体1，釜体1的内部固定安装有安装环8，安装环8的内部固定安装有输送管7，输送管7的底部固定安装有若干个喷头9，输送管7的左侧固定连接有进水管6，进水管6的顶部固定安装有阀门601，釜体1的顶部设置有上料箱2，上料箱2的内部左右两侧分别固定安装有置料板201，上料箱2的顶部固定安装有送料机构4，上料箱2的右侧固定安装有螺纹块502，螺纹块502的底部左端内部设置有限位杆301，限位杆301的底部固定连接有底座3，螺纹块502的底端右侧内部转动安装有螺纹杆501，螺纹杆501的底部固定连接有第一驱动电机5。
本实施例中，如图2所示，进水管6的右端贯穿釜体1和安装环8连接在输送管7上。
本实施例中，如图2所示，喷头9贯穿安装环8的延伸至釜体1的内部。
本实施例中，如图1和图3所示，送料机构4由第二驱动电机、转动杆、扫料板、导料杆和海绵垫构成，以上结构均与上述专利中结构一致，在此不做过多赘述。
本实施例中，如图2所示，第一驱动电机5安装在底座3的内部，以上结构均与上述专利中结构一致，在此不做过多赘述。
本实施例中，如图1和图2所示，釜体1的底部固定连接有四个支腿，以上结构均与上述专利中结构一致，在此不做过多赘述。
本实施例中，釜体1、上料箱2、置料板201、底座3、限位杆301、送料机构4、第一驱动电机5、螺纹杆501和螺纹块502均与上述专利中结构一致，在此不做过多赘述。
本实用新型的使用方法和优点：该种具有均匀的上料功能的反应釜在使用时，工作过程如下：
如图1、图2、图3和图4所示，在使用本装置时，当在反应釜使用过后，对反应釜内壁上的残留物清洗时，先将水管连接在进水管6上，打开进水管6上的阀门601，水通过进水管6进入到输送管7中，在通过输送管7底部安转的喷头9将水喷出，对釜体1的内壁进行清理。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种具有均匀的上料功能的反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)的内部固定安装有安装环(8)，所述安装环(8)的内部固定安装有输送管(7)，所述输送管(7)的底部固定安装有若干个喷头(9)，所述输送管(7)的左侧固定连接有进水管(6)，所述进水管(6)的顶部固定安装有阀门(601)，所述釜体(1)的顶部设置有上料箱(2)，所述上料箱(2)的内部左右两侧分别固定安装有置料板(201)，所述上料箱(2)的顶部固定安装有送料机构(4)，所述上料箱(2)的右侧固定安装有螺纹块(502)，所述螺纹块(502)的底部左端内部设置有限位杆(301)，所述限位杆(301)的底部固定连接有底座(3)，所述螺纹块(502)的底端右侧内部转动安装有螺纹杆(501)，所述螺纹杆(501)的底部固定连接有第一驱动电机(5)。
2.根据权利要求1所述的一种具有均匀的上料功能的反应釜，其特征在于：所述进水管(6)的右端贯穿釜体(1)和安装环(8)连接在输送管(7)上。
3.根据权利要求1所述的一种具有均匀的上料功能的反应釜，其特征在于：所述喷头(9)贯穿安装环(8)的延伸至釜体(1)的内部。
4.根据权利要求1所述的一种具有均匀的上料功能的反应釜，其特征在于：所述送料机构(4)由第二驱动电机、转动杆、扫料板、导料杆和海绵垫构成。
5.根据权利要求1所述的一种具有均匀的上料功能的反应釜，其特征在于：所述第一驱动电机(5)安装在底座(3)的内部。
6.根据权利要求1所述的一种具有均匀的上料功能的反应釜，其特征在于：所述釜体(1)的底部固定连接有四个支腿。
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