CN221192376U - 一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型提出一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其包括支承容纳组件、进料支托组件、出料支托组件、加工支托组件、工件定位组件及吊升移送组件，该处理槽在支承壳体上顺次设置进料支座、氧化支座、清洗支座及出料支座，并设置由定位框架、定位横梁及定位端杆组成的工件定位组件，定位框架可置于进料支座、氧化支座、清洗支座及出料支座上，定位横梁上可挂置工件，还设置由吊升框架与吊升托板组成的吊升移送组件，由吊升框架带动定位框架及定位横梁升降或平移，使工件在工件供应设备、氧化槽体、清洗槽体及工件储纳设备之间转移，使得进料、氧化、清洗及出料动作连续进行，有利于提升加工效率。

Description

一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽

技术领域

本实用新型涉及氧化处理设备，尤其涉及一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽。

背景技术

微弧氧化是在适当的脉冲电参数和电解液条件下，使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象，阳极上原有的氧化物瞬间熔化，同时又受电解液冷却作用，进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti等有色金属或其合金的表面处理中。形成的涂层优于阳极氧化，其防腐及耐磨性能显著优于传统阳极氧化涂层。

专利文献CN210237809U公开一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽，其包括微弧氧化槽装置和楼梯，微弧氧化槽装置内部底端位置处设置有底部处理板，微弧氧化槽装置内部前后两端中间位置处套接有滑动电极装置，微弧氧化槽装置内部位置处设置有微弧氧化处理液，因为安装有微弧氧化槽装置和滑动电极装置，所以在长时间使用微弧氧化槽的时候，工作人员就需要对滑动电极装置进行更换，这时候通过向上移动滑动电极装置，使得滑动电极装置中的滑动体在微弧氧化槽装置中的滑动槽内部向上移动，从而使得滑动电极装置与微弧氧化槽装置滑动分离，方便滑动电极装置的更换和清洗，可避免电极体的损坏，提高更换效率，降低设备的损坏率。然而，这种氧化槽在使用时需要工作人员将基体金属放入微弧氧化槽主体中进行处理，处理完成后，工作人员站在楼梯最高层，取出微弧氧化槽主体内部已经完成微弧氧化镀层的基体金属，处理效率较低。因此，有必要对这种氧化处理槽进行结构优化，以克服上述缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，以提升加工效率。

本实用新型为解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，包括：

支承容纳组件，该支承容纳组件中具有工作液容纳空间；

进料支托组件，该进料支托组件安装于支承容纳组件的进料端，其与工件供应设备连通；

出料支托组件，该出料支托组件安装于支承容纳组件的出料端，其与工件储纳设备连通；

加工支托组件，该加工支托组件安装于支承容纳组件中，其位于进料端与出料端之间，并与工作液容纳空间位置对应；

工件定位组件，该工件定位组件中具有放置工件的定位空间，并与进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件适配，可由进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件对其进行支托；

吊升移送组件，该吊升移送组件与工件定位组件适配，并与驱动设备衔接，由吊升移送组件带动工件定位组件沿进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件移动。

具体地，支承容纳组件包括：

支承壳体，该支承壳体采用板件围合形成，其内部具有工作液容纳空间，其顶部开口；

分隔竖板，该分隔竖板安装于支承壳体中，将工作液容纳空间分隔形成存放电解液的氧化槽体与存放清洗液的清洗槽体。

在本实用新型的一个实施例中，支承壳体及分隔竖板采用聚丙烯板件制作。

进料支托组件包括：

进料座架，该进料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的进料端外壁，并向支承壳体外侧延伸；

进料支座，该进料支座设有一对，各进料支座分别安装于进料座架顶部，并向进料座架上方凸出。

出料支托组件包括：

出料座架，该出料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的出料端外壁，并向支承壳体外侧延伸；

出料支座，该出料支座设有一对，各出料支座分别安装于出料座架顶部，并向出料座架上方凸出。

加工支托组件包括：

氧化支座，该氧化支座设有一对，各氧化支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与氧化槽体位置对应；

清洗支座，该清洗支座设有一对，各清洗支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与清洗槽体位置对应。

在本实用新型的一个实施例中，进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座顶部分别开设有配接槽口，配接槽口的横截面为倒三角形。

工件定位组件包括：

定位框架，该定位框架采用杆件围合形成，其底部设有一对配接端头，各配接端头分别位于定位框架两端，其与进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座形状适配，可置于进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座上；

定位横梁，该定位横梁安装于定位框架底部，待加工工件可挂置于定位横梁上；

定位端杆，该定位端杆设有两组，各组定位端杆分别安装于定位框架顶部，并位于定位框架两端。

吊升移送组件包括：

吊升框架，该吊升框架采用杆件围合形成，其顶部通过传动结构与驱动设备衔接，由驱动设备带动吊升框架做升降或平移动作；

吊升托板，该吊升托板设有两组，各组吊升托板分别安装于吊升框架底部，并位于吊升框架两端，其形状与定位端杆适配，定位端杆可置于吊升托板中，由吊升框架带动定位框架及定位横梁升降或平移，使工件在工件供应设备、氧化槽体、清洗槽体及工件储纳设备之间转移。

在本实用新型的一个实施例中，定位端杆为圆柱形，吊升托板的横截面为倒三角形。

本实用新型的优点在于：

该处理槽在支承壳体上顺次设置进料支座、氧化支座、清洗支座及出料支座，进料支座与工件供应设备位置对应，氧化支座与氧化槽体位置对应，清洗支座与清洗槽体位置对应，出料支座与工件储纳设备位置对应，并设置由定位框架、定位横梁及定位端杆组成的工件定位组件，定位框架可置于进料支座、氧化支座、清洗支座及出料支座上，定位横梁上可挂置工件，还设置由吊升框架与吊升托板组成的吊升移送组件，由吊升框架带动定位框架及定位横梁升降或平移，使工件在工件供应设备、氧化槽体、清洗槽体及工件储纳设备之间转移，使得进料、氧化、清洗及出料动作连续进行，有利于提升加工效率。

附图说明

图1是本实用新型提出的用于微弧氧化加工的氧化处理槽的结构示意图；

图2是工件定位组件与吊升移送组件的配合状态示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1、图2所示，本实用新型提出的用于微弧氧化加工的氧化处理槽包括支承容纳组件、进料支托组件、出料支托组件、加工支托组件、工件定位组件及吊升移送组件，支承容纳组件中具有工作液容纳空间，进料支托组件安装于支承容纳组件的进料端，其与工件供应设备连通，出料支托组件安装于支承容纳组件的出料端，其与工件储纳设备连通，加工支托组件安装于支承容纳组件中，其位于进料端与出料端之间，并与工作液容纳空间位置对应，工件定位组件中具有放置工件的定位空间，并与进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件适配，可由进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件对其进行支托，吊升移送组件与工件定位组件适配，并与驱动设备衔接，由吊升移送组件带动工件定位组件沿进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件移动。

在本实施例中，支承容纳组件包括支承壳体110及分隔竖板120，支承壳体采用板件围合形成，其内部具有工作液容纳空间，其顶部开口，分隔竖板安装于支承壳体中，将工作液容纳空间分隔形成存放电解液的氧化槽体与存放清洗液的清洗槽体。

在本实施例中，支承壳体及分隔竖板采用聚丙烯板件制作。

进料支托组件包括进料座架210及进料支座220，进料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的进料端外壁，并向支承壳体外侧延伸，进料支座设有一对，各进料支座分别安装于进料座架顶部，并向进料座架上方凸出。

出料支托组件包括出料座架310及出料支座320，出料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的出料端外壁，并向支承壳体外侧延伸，出料支座设有一对，各出料支座分别安装于出料座架顶部，并向出料座架上方凸出。

加工支托组件包括氧化支座410及清洗支座420，氧化支座设有一对，各氧化支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与氧化槽体位置对应，清洗支座设有一对，各清洗支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与清洗槽体位置对应。

在本实施例中，进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座顶部分别开设有配接槽口，配接槽口的横截面为倒三角形。

工件定位组件包括定位框架510、定位横梁520及定位端杆530，定位框架采用杆件围合形成，其底部设有一对配接端头511，各配接端头分别位于定位框架两端，其与进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座形状适配，可置于进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座上，在本实施例中，配接端头的横截面为倒三角形，并与进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座顶部的配接槽口形状适配，定位横梁安装于定位框架底部，待加工工件可挂置于定位横梁上，在本实施例中，定位横梁采用导电材料制作，并通过线路与电源连通，可向工件供电，定位端杆设有两组，各组定位端杆分别安装于定位框架顶部，并位于定位框架两端。

吊升移送组件包括吊升框架610及吊升托板620，吊升框架采用杆件围合形成，其顶部通过传动结构与驱动设备衔接，由驱动设备带动吊升框架做升降或平移动作，吊升托板设有两组，各组吊升托板分别安装于吊升框架底部，并位于吊升框架两端，其形状与定位端杆适配，定位端杆可置于吊升托板中，由吊升框架带动定位框架及定位横梁升降或平移，使工件在工件供应设备、氧化槽体、清洗槽体及工件储纳设备之间转移。

在本实施例中，定位端杆为圆柱形，吊升托板的横截面为倒三角形，使得定位端柱可顺畅地进入吊升托板中。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，出现“上”、“下”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系的术语时，应理解为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，出现“第一”、“第二”等术语时，仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，“安装”、“设置”、“连接”等术语应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

Claims (7)

1.一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，包括：

支承容纳组件，该支承容纳组件中具有工作液容纳空间；

进料支托组件，该进料支托组件安装于支承容纳组件的进料端，其与工件供应设备连通；

出料支托组件，该出料支托组件安装于支承容纳组件的出料端，其与工件储纳设备连通；

加工支托组件，该加工支托组件安装于支承容纳组件中，其位于进料端与出料端之间，并与工作液容纳空间位置对应；

工件定位组件，该工件定位组件中具有放置工件的定位空间，并与进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件适配，可由进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件对其进行支托；

吊升移送组件，该吊升移送组件与工件定位组件适配，并与驱动设备衔接，由吊升移送组件带动工件定位组件沿进料支托组件、加工支托组件及出料支托组件移动。

2.根据权利要求1所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，支承容纳组件包括：

支承壳体，该支承壳体采用板件围合形成，其内部具有工作液容纳空间，其顶部开口；

分隔竖板，该分隔竖板安装于支承壳体中，将工作液容纳空间分隔形成存放电解液的氧化槽体与存放清洗液的清洗槽体。

3.根据权利要求2所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，进料支托组件包括：

进料座架，该进料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的进料端外壁，并向支承壳体外侧延伸；

进料支座，该进料支座设有一对，各进料支座分别安装于进料座架顶部，并向进料座架上方凸出。

4.根据权利要求3所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，出料支托组件包括：

出料座架，该出料座架采用板件围合形成，其安装于支承壳体的出料端外壁，并向支承壳体外侧延伸；

出料支座，该出料支座设有一对，各出料支座分别安装于出料座架顶部，并向出料座架上方凸出。

5.根据权利要求4所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，加工支托组件包括：

氧化支座，该氧化支座设有一对，各氧化支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与氧化槽体位置对应；

清洗支座，该清洗支座设有一对，各清洗支座分别安装于支承壳体顶部，并向支承壳体上方凸出，其与清洗槽体位置对应。

6.根据权利要求5所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，工件定位组件包括：

定位框架，该定位框架采用杆件围合形成，其底部设有一对配接端头，各配接端头分别位于定位框架两端，其与进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座形状适配，可置于进料支座、出料支座、氧化支座及清洗支座上；

定位横梁，该定位横梁安装于定位框架底部，待加工工件可挂置于定位横梁上；

定位端杆，该定位端杆设有两组，各组定位端杆分别安装于定位框架顶部，并位于定位框架两端。

7.根据权利要求6所述的一种用于微弧氧化加工的氧化处理槽，其特征在于，吊升移送组件包括：

吊升框架，该吊升框架采用杆件围合形成，其顶部通过传动结构与驱动设备衔接，由驱动设备带动吊升框架做升降或平移动作；

吊升托板，该吊升托板设有两组，各组吊升托板分别安装于吊升框架底部，并位于吊升框架两端，其形状与定位端杆适配，定位端杆可置于吊升托板中，由吊升框架带动定位框架及定位横梁升降或平移，使工件在工件供应设备、氧化槽体、清洗槽体及工件储纳设备之间转移。