CN221063748U - 自动清洗设备 - Google Patents
自动清洗设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN221063748U CN221063748U CN202322182859.6U CN202322182859U CN221063748U CN 221063748 U CN221063748 U CN 221063748U CN 202322182859 U CN202322182859 U CN 202322182859U CN 221063748 U CN221063748 U CN 221063748U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cleaning
- chamber
- automatic cleaning
- drying
- automatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 313
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 62
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 27
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
提供了一种用于对部件承载件制造设备中使用的元件进行清洗的自动清洗设备。自动清洗设备包括:形成内部容置空间并且设置有装载入口和卸载出口的外壳;清洗站,其设置在内部容置空间中,粘附在元件的表面上的异物在清洗站处被移除;干燥站,其设置在内部容置空间中并且沿清洗路径设置在清洗站的下游,经清洗的元件在干燥站中被干燥;以及操纵装置,其设置在内部容置空间中并且构造成沿着清洗路径在装载入口、清洗站、干燥站以及卸载出口之间来回移动;其中,操纵装置对经由装载入口装载到内部容置空间中的待清洗的元件进行保持并沿清洗路径将元件移动至清洗站和/或干燥站,并且将经清洗和/或干燥后的元件经由卸载出口从内部容置空间中移出。
Description
技术领域
本申请涉及半导体器件加工的技术领域。具体地,本申请涉及一种用于对部件承载件制造设备中使用的元件进行清洗的自动清洗设备。
背景技术
本部分提供与本申请有关的背景信息,但是这些信息并不必然构成现有技术。
在部件承载件诸如印刷电路板的制造过程中,通常需要钻版机(routingmachine)或钻孔机(drilling machine)等对印刷电路板进行操作。在利用钻版机或钻孔机进行加工的过程中,安装在钻版机或钻孔机上的用于紧固钻头的夹紧元件例如夹头上会累积异物,诸如加工过程中产生的废屑,特别是当夹头上涂覆有润滑用黑油时尤其如此,从而对夹头并因此对被加工的印刷电路板的性能造成不利影响。因此,有必要对这种夹紧元件诸如夹头进行定期清洗以清除异物。
然而,在相关技术中,通常利用人力对夹头进行定期清洗。这种人工清洗方式不仅清洗效率低,而且清洗效果不均一。此外,低清洗效率又导致钻版机或钻孔机的较长时间的停机,并进而导致部件承载件的整个制造过程的效率受损。
因此,需要一种能够解决以上缺陷中的至少一些缺陷的用于对部件承载件制造设备中使用的元件诸如夹头进行清洗的自动清洗设备。
实用新型内容
本部分提供本申请的总体概述,而不是本申请的全部范围或全部特征的全面披露。
本申请提供了一种用于对部件承载件制造设备中使用的元件进行清洗的自动清洗设备。自动清洗设备可以包括:
外壳,所述外壳形成内部容置空间,并且所述外壳设置有装载入口和卸载出口;
清洗站,所述清洗站设置在内部容置空间中,粘附在待清洗的元件的表面上的异物在清洗站处被移除;
干燥站,所述干燥站设置在内部容置空间中并且沿着清洗路径设置在清洗站的下游,经清洗的元件在干燥站中被干燥;以及
操纵装置,所述操纵装置设置在内部容置空间中,并且所述操纵装置构造成沿着所述清洗路径在所述装载入口、所述清洗站、所述干燥站以及所述卸载出口之间来回移动;
其中,操纵装置对经由装载入口装载到内部容置空间中的待清洗的元件进行保持并且沿着清洗路径将元件顺序地移动至清洗站和/或干燥站,并且将经清洗和/或干燥后的元件经由卸载出口从内部容置空间中移出。
以此方式,根据本申请实施方式的自动清洗设备能够实现对部件承载件制造设备中使用的元件的自动化清洗,有效地减少了甚至消除了过多人力的参与。与人工清洗相比,这种自动化清洗具有清洗效率高、清洗效果均一的优点。此外,由于自动化清洗的高清洗效率,部件承载件制造设备因元件需要清洗而被从其卸除所造成的停机时间显著缩短,这使得部件承载件的制造效率与相关技术相比得以有效提升。此外,根据本申请所提供的自动清洗设备以相对独立的隔离空间完成元件的清洗和干燥,提高了清洗操作的安全性,同时清洗设备整体具备优良的环保性。
在一些示例性实施方式中,清洗站可以包括第一清洗室和第二清洗室,第一清洗室中可以容纳有将粘附在待清洗的元件的表面上的异物移除的第一清洗流体,第二清洗室沿着清洗路径设置在第一清洗室的下游,第二清洗室中可以容纳有用于对余留在元件的表面上的第一清洗流体进行冲洗的第二清洗流体。
以此方式,通过第一清洗流体对粘附在元件表面特别是粘附在涂覆有润滑用黑油的元件表面上的异物进行清洗,并通过第二清洗流体对余留在元件表面上的第一清洗流体进行冲洗,能够实现对元件的更好的清洗效果。
在一些示例性实施方式中,干燥站可以包括干燥室,干燥室沿着清洗路径设置在第二清洗室的下游,干燥室中设置有干燥用流体供给装置,来自干燥用流体供给装置的流体将余留在元件的表面的上第二清洗流体和/或第一清洗流体去除并对元件进行干燥。
以此方式,可以以较高的效率实现对元件的烘干,有助于缩短元件的清洗过程所耗时长,从而缩短部件承载件制造设备的停机时间。
在一些示例性实施方式中,自动清洗设备还可以包括安装台,安装台设置在内部容置空间中并且附接至外壳,安装台构造成沿着清洗路径延伸,第一清洗室、第二清洗室和干燥室沿清洗路径呈线性地设置在安装台中并处于同一水平平面。
在一些示例性实施方式中,第一清洗室可以包括设置在安装台上并适于容纳第一清洗流体的第一清洗槽,第二清洗室可以包括设置在安装台上并适于容纳第二清洗流体的第二清洗槽。
在一些示例性实施方式中,自动清洗设备还可以包括收集装置,待清洗的多个元件布置在收集装置中,操纵装置对收集装置进行保持和携载。
在一些示例性实施方式中,收集装置可以包括至少一个层布置结构,每个层布置结构包括至少一个子收集器,每个子收集器构造成以成阵列的方式保持多个元件。
以此方式,可以实现同时对批量的待清洗元件进行清洗。此外,可以根据实际需求调整收集装置中所包括的层布置结构的数量和/或调整每个层布置结构中所包含的子收集器的数量,从而使得可以根据实际需求调整可被同时清洗的批量元件的数量。
在一些示例性实施方式中,收集装置可以包括多个成对的层布置结构,每个成对的层布置结构中的层布置结构彼此叠置,每个层布置结构包括布置成多排的多个子收集器。
在一些示例性实施方式中,子收集器可以包括基部构件、设置在基部构件上的用于保持元件的至少一排保持柱以及设置在基部构件上的操纵部。
以此方式,可以通过将清洗元件插置在保持柱上而容易地将待清洗元件保持在子收集器上。此外,可以根据实际需求调整子收集器中的保持柱的数量,例如通过调整保持柱的排数。
在一些示例性实施方式中,操纵部沿基部构件的长度的延伸方向设置在基部构件的中间区域。
以此方式,在通过人力或者机器操纵操纵部从而操纵子收集器时,可以容易地使装载有待清洗元件的子收集器基本上保持平衡。此外,通过人力或者机器操纵操纵部从而操纵子收集器还可以使得在利用子收集器载运清洗后的元件时避免对元件造成不期望的污染。
在一些示例性实施方式中,子收集器可以包括用于保持元件的第一保持构件和第二保持构件,第一保持构件和第二保持构件是呈长形的,第一保持构件位于第二保持构件上方并通过竖向连接构件与第二保持构件连接,第一保持构件沿长度的延伸方向设置有用于保持元件的至少一排第一留置孔,第二保持构件沿长度的延伸方向设置有用于保持元件的至少一排第二留置孔,每个第一留置孔沿竖向方向与一个第二留置孔对准,使得在元件布置在子收集器中时元件的上部部分位于第一留置孔内且元件的下部部分位于与该第一留置孔对准的第二留置孔内。
在一些示例性实施方式中,收集装置可以包括本体部和从本体部沿竖向方向向上延伸的接合构件,操纵装置与接合构件接合以对收集装置进行保持和携载。
在一些示例性实施方式中,收集装置可以包括立式的一对接合构件,一对接合构件中的一个接合构件附接至本体部的第一周向侧面并且沿着第一周向侧面竖向地向上延伸直至距收集装置的顶面预定距离处,一对接合构件中的另一接合构件附接至本体部的与第一周向侧面相对的第二周向侧面并且沿着第二周向侧面竖向地向上延伸直至距本体部的顶面预定距离处。
在一些示例性实施方式中,收集装置为构造为具有一对供操纵装置夹持、抓持或钩持的提手的篮状件,篮状件具有方形的形状,作为接合构件的一对提手分别设置于篮状件的相对的周向侧面处。
在一些示例性实施方式中,收集装置包括壳体,该壳体围成一容纳空间,多个子收集器以可移除的方式布置在容纳空间内。
在一些示例性实施方式中,自动清洗设备还包括附接至操纵装置的罩盖,罩盖具有适于笼罩收集装置并且适于被接纳在清洗站的第一清洗室和第二清洗室的尺寸。
以此方式,在清洗过程中,罩盖可以笼罩在收集装置上并且可以随收集装置一起被操纵装置放入和抬离清洗室,以防止清洗流体飞溅,特别是防止作为第一清洗流体的化学溶液的飞溅,从而避免对设备或人员造成不期望的损伤。
在一些示例性实施方式中,罩盖包括顶部部分和连接至顶部部分并且共同围成用于笼罩收集装置的罩盖内部空间的多个周向部分,其中,所述罩盖包括设置在顶部部分上的多个安装孔,操纵装置设置有与多个安装孔对准的多个螺纹孔,罩盖经由穿过多个安装孔而与多个螺纹孔相接合的多个螺纹紧固件紧固至操纵装置。
以此方式,通过螺纹紧固件、安装孔和螺纹孔三者的配合,可以容易地将罩盖连接至操纵装置特别是操纵臂以及容易地将罩盖从操纵装置特别是操纵臂移除。
在一些示例性实施方式中,操纵装置包括连接至外壳的导轨、能够沿着导轨行进的移动装置以及安装在移动装置上的操纵臂;以及其中,移动装置包括与操纵臂连接并且在竖向方向、与该竖向方向垂直的横向方向和/或与清洁路径一致的行进方向上对操纵臂进行驱动以使操纵臂产生往复运动的致动组件。
在一些示例性实施方式中,致动组件包括竖向可伸缩结构,竖向可伸缩结构驱动操纵臂在竖向方向上产生往复运动,使得由操纵臂保持的收集装置反复地浸入和抬离相应的第一清洗流体或第二清洗流体达预定时间。
在一些示例性实施方式中,容纳在第一清洗室中的第一清洗流体为化学溶液,容纳在第二清洗室中的第二清洗流体为水。
以此方式,首先通过化学溶液对粘附在元件表面上的加工废屑进行清除,然后通过水溶液对余留在元件表面上的化学溶液进行冲洗,可以有效地清洁元件。特别是在元件表面涂覆有润滑用黑油,而废屑又进一步积聚在这种润滑用黑油上时,利用化学溶液溶解元件表面上的润滑用黑油并进而从元件表面上清除废屑是十分有效的。
在一些示例性实施方式中,在第一清洗室和/或第二清洗室中设置有超声波系统,所述超声波系统对容置在第一清洗室中的第一清洗流体和/或对容置在第二清洗室中的第二清洗流体进行致动,以对元件进行超声波清洗。
以此方式,通过对元件进行超声波清洗,可以实现更快的清洗效率,更均一的清洗效果。
在一些示例性实施方式中,干燥室设置有用于产生高温蒸汽或者产生无蒸汽的过热气体的干燥用流体供给装置。以此方式,可以实现元件的快速烘干。
在一些示例性实施方式中,自动清洗设备还包括设置在装载入口处的装载装置和设置在卸载出口处的卸载装置,在装载装置处,操纵装置与收集装置接合从而对收集装置进行携载,在卸载装置处,所述操纵装置与所述收集装置脱离接合。
在一些示例性实施方式中,装载装置与卸载装置位于外壳的同一侧。以此方式,可以缩减自动清洗设备所需的安装空间。
在一些示例性实施方式中,元件为用于部件承载件制造设备的夹紧元件。
在一些示例性实施方式中,夹紧元件为用于钻版机的夹头。
以上限定的方面和本实用新型的另外的方面从下文中要描述的实施方式的示例变得明显并且参考实施方式的这些示例对其进行说明。
附图说明
通过以下参照附图的描述,本申请的实施方式的特征和优点将变得更加容易理解,附图并非按比例绘制,并且一些特征被放大或缩小以显示特定部件的细节,在附图中:
图1示出了根据本申请的示例性实施方式的自动清洗设备100的示意性平面结构图。
图2示出了根据本申请的示例性实施方式的自动清洗设备100的示意性平面俯视图。
图3示出了根据本申请的示例性实施方式的操纵装置的立体结构示意图,其中导轨未示出。
图4示出了根据本申请的示例性实施方式的操纵装置的正视图。
图5示出了根据本申请的示例性实施方式的空载状态(未装载待清洗元件和子收集器)下的收集装置的结构示意图。
图6示出了根据本申请的示例性实施方式的基本上半满载状态(部分地装载有待清洗元件和子收集器)下的收集装置的结构示意图。
图7示出了根据本申请的一些示例性实施方式的满载状态(完全地装载有待清洗元件和子收集器)下的收集装置的结构示意图,其中,图9所示的子收集器被装载在该收集装置中。
图8至图10示出了根据本申请的示例性实施方式的子收集器的结构示意图。
图11示出了根据本申请的另一些示例性实施方式的满载状态下的收集装置的结构示意图,其中,图10所示的子收集器被装载在该收集装置中。
图12示出了根据本申请的一些示例性实施方式的罩盖的结构示意图。
具体实施方式
下面将参照附图借助于本申请的示例性实施方式对本申请进行详细描述。应指出的是,以下对本申请的详细描述仅是出于说明的目的,而不是对本申请进行限制。此外,在各个附图中采用相同的附图标记来表示相同的部件。
还应指出的是,为了清楚起见,在说明书和附图中并未描述和示出实际的特定实施方式的所有特征,另外,为了避免不必要的细节模糊了本申请关注的技术方案,在说明书和附图中仅描述和示出了与本申请的技术内容密切相关的布置结构,而省略了与本申请的技术内容关系不大的且本领域技术人员已知的其他细节。
为使本申请实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请的各实施方式进行详细的阐述。然而,本领域的普通技术人员可以理解,在本申请各实施方式中,为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是,即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改,也可以实现本申请所要求保护的技术方案。以下各个实施方式的划分是为了描述方便,不应对本申请的具体实现方式构成任何限定,各个实施方式在不矛盾的前提下可以相互结合相互引用。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序,并且不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变型,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
在本申请文件中,用于描述夹具在正常使用状态下的方位、比如“上”、“下”、“外”和“内”等的术语仅仅出于便于描述的目的,而不应视为是限制性的。此外,虽然已经参照示例性实施方式对本申请进行了描述,但是应当理解,本申请并不局限于文中详细描述和示出的具体实施方式。在不偏离本申请的权利要求书所限定的范围的情况下,本领域技术人员可以对示例性实施方式做出各种改变。
在本申请的上下文中,术语“部件承载件”可以特别地表示能够在其上和/或在其中对一个或更多个部件进行容置以提供机械支撑和/或电连接的任何支撑结构。换言之,部件承载件可以构造为用于部件的机械承载件和/或电子承载件。特别地,部件承载件可以是印刷电路板、有机中介层、无机基板和IC(集成电路)基板中的一者。部件承载件也可以是将上述类型的部件承载件中的不同类型的部件承载件组合而成的混合板。
在本申请的上下文中,术语“元件”可以特别地表示用于部件承载件制造设备的夹紧元件,例如用于钻版机或钻孔机的夹头。然而,可以理解的是,这仅仅是示例性的,并不意在限制本申请的自动清洗设备的用途。原则上,本申请的自动清洗设备可以应用于任何适合在该设备的清洗站和/或干燥站进行清洗和/或干燥的元件,包括但不限于,生产生活过程中在其表面积聚了不期望的异物的元件。
在本申请的上下文中,术语“清洗路径”可以特别地表示待清洗元件在清洗过程中所遵循的移动路径。例如,在本申请的一些示例性实施方式中,待清洗元件经历的清洗过程包括酸洗步骤、水洗步骤和干燥步骤,由此“清洗路径”可以为“装载入口—>第一清洗室—>第二清洗室—>干燥室—>卸载出口”,即,待清洗元件在清洗过程中的移动路径为从装载入口经由第一清洗室移动至第二清洗室、以及从第二清洗室移动至干燥室、然后从干燥室移动至卸载出口处。在可选的实施方式中,“清洗路径”可以包括前述示例性“清洗路径”即“装载入口—>第一清洗室—>第二清洗室—>干燥室—>卸载出口”的一部分。在本申请的上下文中,“清洗路径”从空间概念的角度可以理解为是双向轨迹。作为示例,“清洗路径”可以表示诸如“卸载出口—>干燥室—>第二清洗室—>第一清洗室—>装载入口”之类的反向路径。
接下来,将以用于对部件承载件制造设备中使用的夹紧元件例如用于钻版机的夹头进行清洗的自动清洗设备为例,参照附图对根据本申请的自动清洗设备进行详细的描述。
参照图1和图2。图1示出了根据本申请的示例性实施方式的自动清洗设备100的示意性正视图。该自动清洗设备100用于对部件承载件制造设备中使用的夹紧元件例如用于钻版机的夹头进行清洗。图2示出了根据本申请的示例性实施方式的自动清洗设备100的示意性俯视图,其中,操纵装置114未被示出。
如图1和图2所示,自动清洗设备100可以包括外壳104、清洗站107、干燥站111和操纵装置114。外壳104围成内部容置空间106。清洗站107可以设置在内部容置空间106中,该清洗站107可以适于将粘附在待清洗元件的表面的异物(诸如润滑用黑油和粘附在润滑用黑油上的加工废屑)移除。干燥站111可以设置在内部容置空间106中并沿着清洗路径设置在清洗站107的下游,经清洗的元件可以在干燥站111中进行干燥。操纵装置114可以设置在内部容置空间106中,该操纵装置114构造成例如能够沿着清洗路径在装载入口121、清洗站107、干燥站111以及卸载出口123之间来回移动。在待清洗的元件经外壳104上的装载入口121装载到内部容置空间106后,操纵装置114可以对经由装载入口121装载到内部容置空间106中的待清洗的元件进行保持并沿着清洗路径将元件顺序地移动经过清洗站107和/或干燥站111,并且可以将经清洗和/或干燥后的元件经由外壳104上的卸载出口123从内部容置空间106中移出。
根据本申请的实施方式所提供的自动清洗设备能够实现对部件承载件制造设备中使用的元件的自动化清洗,有效地减少了甚至消除了过多人力的参与。与人工清洗相比,这种自动化清洗具有清洗效率高、清洗效果均一的优点。此外,由于自动化清洗的高清洗效率,部件承载件制造设备因元件需要清洗而被卸除所造成的停机时间显著缩短,这使得部件承载件的制造效率与相关技术相比得以明显提升。此外,根据本申请所提供的自动清洗设备以相对独立的隔离空间完成元件的清洗和干燥,提高了清洗操作的安全性,同时清洗设备整体具备优良的环保性。
在本申请的可选实施方式中,待清洗的元件可以为用于部件承载件制造设备的夹紧元件。例如,夹紧元件可以为用于钻版机或钻孔机的夹头。
在本申请的可选实施方式中,自动清洗设备100的长度可以约为2000mm,宽度约为1000mm,以及高度约为1850mm。
在本申请的一些可选实施方式中,外壳104可以包括顶壁和侧壁。侧壁固定地连接至支撑表面。顶壁连接至侧壁并且与侧壁和支撑表面共同围成自动清洗设备100的内部容置空间106。
在一些可选实施方式中,外壳104可以包括顶壁、底壁以及侧壁,其中,顶壁、底壁以及侧壁共同围成内部容置空间106。以此方式,可以将自动清洗设备100构造成能够整体移动的独立单元设备。
在一些可选实施方式中,装载入口121和卸载出口123可以设置在外壳104的相对的两个侧壁上。在一些可选实施方式中,装载入口121和卸载出口123可以设置在外壳104的同一侧壁上。在另一些可选实施方式中,装载入口121和卸载出口123可以由外壳104的侧壁上的同一开口形成。当然,可以理解的是,还可以以许多其他方式在外壳104上设置装载入口和卸载出口,只要装载入口和卸载出口的设计允许较为便利地将待清洗元件装载入内部容置空间106以及将经清洗的元件卸载出内部容置空间106即可。
在一些可选实施方式中,自动清洗设备100还可以包括装载装置122和卸载装置124,如图2所示。装载装置122可以构造成将待清洗元件或装载有待清洗元件的收集装置136从自动清洗设备100的外部传送至自动清洗设备100的内部,以供后续由操纵装置114在装载装置122处开始对待清洗元件的保持或者开始对装载有待清洗元件的收集装置136(稍后将参照图5至图7以及图11详细描述)的携载。卸载装置124可以构造成将经清洗和/或干燥后的元件102和/或装载有经清洗和/或干燥后的元件102的收集装置136从自动清洗设备100的内部传送至自动清洗设备100的外部。在卸载装置124处,操纵装置114将经清洗和/或干燥后的元件102或装载有经清洗和/或干燥后的元件102的收集装置136释放至卸载装置124上,以供卸载装置124将其传送出设备。在本申请的如图所示实施方式中,装载装置122和/或卸载装置124可以采用滚动装置诸如传送带等实现。然而,可以理解,装载装置122和/或卸载装置124还可以采用其他的机构来实现,本申请对此不作具体限定。
装载装置122可以设置在装载入口121处或者设置成与装载入口121邻接。卸载装置124可以设置在卸载出口123处或者设置成与卸载出口123邻接。如前所述的,在装载装置122处,操纵装置114直接对待清洗的元件102进行携载,或者通过与对待清洗的元件102进行保持的收集装置136接合,从而对待清洗的元件102和/或待清洗的元件102的收集装置136进行携载。在卸载装置124处,操纵装置114与经清洗和/或干燥后的元件102和/或所述收集装置136脱离接合,从而实现将经清洗和/或干燥后的元件102从所述内部容置空间106中移出。
在一些可选实施方式中,装载装置122可以与外壳104上的装载入口对应设置,以便于待清洗元件的装载。卸载装置124可以与外壳104上的卸载出口对应设置,以便于经清洗元件的卸载。在另一些可选实施方式中,装载装置122与卸载装置124可以位于相同的区域,例如位于相对于外壳的同一侧,与之对应地,装载入口与卸载出口可以由外壳上的同一开口构成。
在一些可选实施方式中,清洗站107和/或干燥站111固定地设置在内部容置空间106中。例如,清洗站107和/或干燥站111与外壳104的侧壁形成一体。在一些可选实施方式中,清洗站107和/或干燥站111可以以可拆装的方式附接至外壳104的侧壁。
在一些可选实施方式中,清洗站107和/或干燥站111可以分别设置成独立单元并且以可移动的方式设置在内部容置空间106中。例如,可以在清洗站107和/或干燥站111的底部安装有滑动轮,使得清洗站107和/或干燥站111能够在内部容置空间106内移动,特别是在清洗和/或干燥时间之外能够在内部容置空间106内移动,甚至使得能够从内部容置空间106移出至外壳104外部的环境以及从该外部的环境移入内部容置空间106中,以便利进行自动清洗设备100的内部清洁和维护。
在本申请的可选实施方式中,清洗站107可以包括第一清洗室108和与该第一清洗室108分隔开的第二清洗室110。第一清洗室108适于容纳将粘附在待清洗的元件的表面上的异物移除的第一清洗流体。第二清洗室110沿着清洗路径设置在第一清洗室108的下游,该第二清洗室110适于容纳用于对余留在元件的表面上的第一清洗流体进行冲洗的第二清洗流体。
在本申请的可选实施方式中,自动清洗设备100还可以包括安装台134,安装台134设置在内部容置空间106中并且附接至外壳104。安装台134可以构造成沿着清洗路径延伸。第一清洗室108、第二清洗室110和干燥室112沿清洗路径优选地呈线性地设置在安装台134中并处于同一水平平面。然而,可以理解的是,在一些实施方式中,第一清洗室108、第二清洗室110和干燥室112可以沿清洗路径呈非线性地设置在安装台134上和/或不处于同一水平平面。
在一些可选实施方式中,第一清洗室108可以包括设置在安装台134上并适于容纳第一清洗流体的第一清洗槽,并且第二清洗室110可以包括设置在安装台134上并适于容纳第二清洗流体的第二清洗槽。
在一些可选实施方式中,第一清洗流体为化学溶液,特别地为酸性溶液,更特别地为5%盐酸溶液。在一些可选实施方式中,第二清洗流体为水。
在一些可选实施方式中,在第一清洗室108和/或第二清洗室110中可以设置有超声波系统。在一些可选实施方式中,超声波系统可以附接至第一清洗室108的第一清洗槽以及第二清洗室110的第二清洗槽。超声波系统可以对容置在第一清洗室108(例如,第一清洗室108的第一清洗槽)中的第一清洗流体和/或对容置在第二清洗室110(例如,第二清洗室110的第二清洗槽)中的第二清洗流体进行致动,以对元件进行超声波清洗。
具体而言,该超声波系统利用超声波在第一清洗流体和/或第二清洗流体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对清洗流体和异物进行直接或间接的作用,从而使异物层被分散和乳化、以及被从待清洗元件剥离而达到清洗目的。通过附加地设置超声波清洗系统,有助于实现更高的清洗效率、更均一的清洁效果。
在本申请的可选实施方式中,干燥站111可以包括干燥室112。干燥室112沿着清洗路径设置在第二清洗室110的下游。干燥室112中可以设置有干燥用流体供给装置130,来自干燥用流体供给装置130的流体用以将余留在元件的表面的上第二清洗流体和/或第一清洗流体去除以对元件进行干燥。
在一些可选实施方式中,干燥用流体供给装置130可以产生高温蒸汽或者产生无蒸汽的过热气体,用以对元件进行干燥处理。
在本申请的实施方式中,操纵装置114可以包括连接至外壳104的导轨116、能够沿着导轨116行进的移动装置118、以及安装在移动装置118上的操纵臂120。移动装置118可以包括在竖向方向、与竖向方向垂直的横向方向和/或与清洁路径一致的行进方向上对操纵臂120进行驱动以使操纵臂120产生往复运动的致动组件119。
在一些实施方式中,操纵臂120上可以设置有用于与收集装置136的接合构件140(例如参见图5或图6)相配合的钩状件127。在一些实施方式中,钩状件127的数量可以为一对或更多对(例如参见图3及图4,其中仅示意性地示出两对钩状件)。
在本申请的一些实施方式中,自动清洗设备100在对元件102的清洗过程和干燥过程中所涉及的过程参数,诸如清洗时间、干燥时间、操纵装置的移动路径、操纵装置将收集装置136反复地浸入和抬离清洗液体的次数(具体参见下面参照图3-4的描述),可以预先程控地设定。上述过程参数通过编程而预先设定后,自动清洗设备100将根据该预先设定的参数执行对元件的清洗和干燥。
可以理解的是,在另一些实施方式中,自动清洗设备100可以包括用于执行人机交互的控制面板105(如图1所示)。人类操作员可以通过控制面板输入期望的过程参数以对清洗设备的清洗过程和干燥过程进行控制。示例性地,人类操作员可以通过控制面板105对已预先程控地设定的过程参数进行修改,或者,可以在无需对过程参数进行预先编程设置的情况下直接由人类操作员通过控制面板来设置所需的过程参数。此外,在一些可选的实施方式中,人类操作员还可以根据清洗过程和/干燥过程的进展情况来实时地操控自动清洗设备100特别是操纵装置的114的操作,包括但不限于延长/缩短清洗时间、延长/缩短干燥时间、暂停/重启清洗操作、暂停/重启干燥操作等等。
控制面板105可以采用已知的智能控制面板,本申请对其结构及相应的操作过程不再赘述。
下面将参照图3和图4对根据本申请的示例性实施方式的致动组件119进行描述。
如图3和图4所示,在一些可选的实施方式中,致动组件119可以包括竖向可伸缩结构125。所述竖向可伸缩结构125构造成能够在自动清洗设备100的竖向方向上相对于移动装置118在伸出位置与缩进位置之间往复运动。在竖向可伸缩结构125的伸出位置,竖向可伸缩结构125沿竖向方向从移动装置118中伸出。在竖向可伸缩结构125的缩进位置,竖向可伸缩结构125沿竖向方向缩回至移动装置118中。通过竖向可伸缩结构125在竖向方向上的往复运动,可以驱动操纵臂120在竖向方向上产生往复运动,从而使与操纵臂120接合的收集装置136被反复地浸入和抬离相应的第一清洗流体或第二清洗流体达预定时间。可以理解的是,这种竖向可伸缩机构可以采用现有的任意适当的可伸缩机构,在此对其结构不再赘述。在一些实施方式中,如上所述的,收集装置136反复地浸入和抬离清洗流体的次数以及在清洗流体中停留的时长可以根据实际需求被人为地操纵或者预先程控地设定。
如图3和图4所示,在一些可选的实施方式中,致动组件119还可以包括横向可伸缩结构(图中未示出)或者前后向可伸缩结构126。横向可伸缩结构构造成能够在与竖向方向垂直的横向方向上相对于移动装置118在伸出位置与缩进位置之间运动。前后向可伸缩结构126构造成能够在与清洁路径一致的行进方向上相对于移动装置118在伸出位置与缩进位置之间运动。可以理解的是,这种横向可伸缩机构或前后向可伸缩结构同样可以采用现有的任意适当的可伸缩机构,在此对其结构不再赘述。此外,还可以理解的是,前述的“横向方向”与“同清洁路径一致的行进方向”两者是不同的方向。一般地,“横向方向”、“同清洁路径一致的行进方向”以及“竖向方向”三者基本上彼此垂直。
通过横向可伸缩结构或者前后向可伸缩结构126的相对于移动装置118在伸出位置与缩进位置之间运动,可以驱动操纵臂120在与竖向方向垂直的横向方向上或者在与清洁路径一致的行进方向上往复移动,从而与对待清洗元件进行保持的收集装置136适当地接合。横向可伸缩结构或者前后向可伸缩结构126的相对于移动装置118在伸出位置与缩进位置之间的运动可以根据实际需求被人为地操纵或者预先程控地设定。
接下来将参照图5至图7及图11对根据本申请的实施方式的自动清洗设备100中的收集装置136进行详细描述。
在根据本申请的实施方式中,自动清洗设备还可以包括用于装载元件102的收集装置136。如图5至图7及图11所示,待清洗的多个元件102可以布置在收集装置136中。操纵装置114可以对收集装置136进行保持和携载从而将装载在收集装置136中的待清洗元件沿清洗路径移动。图5至图7及图11示出了根据本申请的示例性实施方式的收集装置136的结构示意图。具体地,图5示出了空载状态(未装载待清洗元件和子收集器)下的收集装置136的结构示意图。图6示出了基本上半满载状态(部分地装载有待清洗元件和子收集器)下的收集装置136的结构示意图。图7和图11示出了满载状态(完全地装载有待清洗元件和子收集器)下的收集装置136的结构示意图,其中,图7所示的收集装置装载有图9所示的子收集器及待清洗元件,图11所示的收集装置装载有图10所示的子收集器及待清洗元件。
参照图5和图6,在本申请的一些实施方式中,收集装置136可以包括本体部138和从本体部138沿竖向方向向上延伸的接合构件140。操纵装置114特别是设置在操纵臂上的钩状件可以通过与接合构件140接合来实现对收集装置136的保持和携载。
在一些实施方式中,收集装置136可以包括立式的一对接合构件。该对接合构件中的一个接合构件140可以附接至收集装置136的第一周向侧面142并且沿着该第一周向侧面142竖向地向上延伸直至距收集装置136的本体部138的顶面预定距离处。该对接合构件中的另一接合构件140可以附接至收集装置136的与第一周向侧面142相对的第二周向侧面144并且沿着该第二周向侧面144竖向地向上延伸直至距收集装置136的本体部138的顶面预定距离处。可以理解,收集装置136的接合构件140延伸超出本体部138的顶面的距离可以根据待清洁元件的类型和数量预先确定,在本申请中对此不作具体限定。
在一些实施方式中,收集装置136可以具体地为具有一对供操纵装置114夹持、抓持或钩持的提手的篮状件,该篮状件构造为具有方形的形状。作为接合构件140的一对提手分别设置于篮状件的相对的周向侧面处。
在另一些实施方式中,收集装置136例如还可以呈筒形形状。接合构件可以沿筒形的收集装置136的周向外侧壁设置,例如,接合构件可以构造成延伸超出周向外侧壁的顶部边缘的弧形或环形的接合结构。
在一些实施方式中,收集装置136可以包括壳体146,壳体146围成一容纳空间148,多个子收集器152以可移除的方式布置在容纳空间148内。
当然,可以理解的是,还可以以许多其他方式设计收集装置136,只要其适于容置装载了元件102的子收集器152并适于与操纵装置114相配合即可。
参照图7和图11,在本申请的一些实施方式中,收集装置136可以包括至少一个层布置结构150(图中仅示出一个层布置结构)。每个层布置结构可以包括至少一个子收集器152,并且每个子收集器152可以构造成以成阵列的方式保持多个元件102(参见图9和图10)。
在一些实施方式中,收集装置136可以包括彼此叠置的多个层布置结构150,其中,每个层布置结构150包括布置成一排或更多排的多个子收集器152,彼此叠置的多个层布置结构150中的相邻两个层布置结构中的成排的子收集器152沿竖向方向彼此对准或彼此交错。特别地,收集装置136可以包括多个成对的层布置结构150,每个成对的层布置结构150中的层布置结构彼此叠置,每个层布置结构150包括布置成多排的多个子收集器152。
下面将图8至图10对根据本申请的示例性实施方式的子收集器152进行描述。图8为根据本申请的一些实施方式的子收集器152的结构示意图,其中,子收集器152上未装载任何待清洗元件102;图9为根据本申请的另一些实施方式的子收集器152的结构示意图,其中,子收集器152部分地装载有待清洗元件102;图10为根据本申请的又一些实施方式的子收集器152的结构示意图,其中,子收集器152满载有待清洗元件102。
如图8所示,子收集器152可以包括基部构件154和设置在基部构件154上的用于保持元件102的至少一排保持柱156。待清洗元件102可以通过插置在保持住156上而装载在子收集器152上(例如参见图9)。图8中示出的子收集器152仅包括一排保持柱156,然而可以理解,可以根据实际需求在子收集器152的基部构件154上设置两排或更多排保持柱156,以使得子收集器152能够以成阵列的方式对元件102进行保持。
仍然参照图8,子收集器152的基部构件154可以包括长形主体180,该长形主体180可以包括第一主表面182和相反的第二主表面184。一排或更多排保持柱156可以以成阵列的形式布置在第一主表面182上。在长形主体180的沿其长度延伸方向的相反两个端部处可以分别设置有侧向延伸部186,使得基部构件154整体上呈H形。
如图9所示,图9中所示的子收集器152与图8中所示的子收集器152的不同之处在于,图9中的子收集器152除了包括基部构件154和设置在基部构件154上的用于保持元件102的至少一排保持柱156之外,还包括设置在基部构件154上的操纵部158。操纵部158可以沿基部构件154的长度的延伸方向设置在基部构件154的基本上中间的区域。操纵部158可以供手持或者供机器操纵。
接下来参照图10。图10示出了根据本申请的自动清洗设备100的收集装置136的子收集器152的另一种示例性实施方式。所示出的子收集器152可以包括用于保持元件102的第一保持构件160和第二保持构件162。第一保持构件160和第二保持构件162可以是呈长形的。第一保持构件160位于第二保持构件162上方并通过竖向连接构件164与第二保持构件162连接。第一保持构件160可以沿长度的延伸方向设置有用于保持元件102的至少一排第一留置孔166(图中仅示出一排第一留置孔),相应地,第二保持构件162可以沿长度的延伸方向设置有用于保持元件102的至少一排第二留置孔168(图中仅示出一排第二留置孔)。每个第一留置孔166沿竖向方向与一个第二留置孔168对准,使得在元件102布置在子收集器152中时元件102的上部部分位于第一留置孔166内且元件102的下部部分位于与该第一留置孔166对准的第二留置孔168内。
下面参照图12,在本申请的一些实施方式中,自动清洗设备100还可以包括罩盖170。如图12所示,该罩盖170可以附接至操纵装置114,以在清洗过程中随操纵装置114一起运动。该罩盖170具有适于笼罩收集装置136并且适于被接纳在清洗站107的第一清洗室108(例如,第一清洗室108的第一清洗槽)和第二清洗室110(例如,第二清洗室110的第一清洗槽)中的尺寸,使得在清洗过程中,罩盖170可以笼罩在收集装置136上并且可以在操纵装置114的作用下而随同由操纵装置114携载的收集装置136一起被放入和抬离清洗室,以防止清洗流体飞溅,特别是防止作为第一清洗流体的化学溶液的飞溅,从而避免对设备或人员造成不期望的损伤。在另一些实施方式中,罩盖170的尺寸还可以是适于被接纳在干燥室112内的,从而使得在整个清洗及干燥过程中罩盖170可以始终保持笼罩在收集装置136上而无需在任何中间节点上进行罩盖170的卸除。
在一些实施方式中,罩盖170可以包括顶部部分172和连接至顶部部分172并且共同围成用于笼罩收集装置136的罩盖内部空间的多个周向部分174。罩盖170可以包括设置在顶部部分172上的多个安装孔176(例如,四个)。相应地,操纵装置114上设置有与多个安装孔176对准的多个螺纹孔。罩盖170可以借助于穿过多个安装孔176而与多个螺纹孔相接合的多个螺纹紧固件紧固至所述操纵装置114。
虽然已经参照示例性实施方式对本申请进行了描述,但是应当理解,本申请并不局限于文中详细描述和示出的具体实施方式。在不偏离本申请的权利要求书所限定的范围的情况下,本领域技术人员可以对示例性实施方式做出各种改变。
在以上对本申请的示例性实施方式的描述中所提及和/或示出的特征可以以相同或类似的方式结合到一个或更多个其他实施方式中,与其他实施方式中的特征相组合或替代其他实施方式中的相应特征。这些经组合或替代所获得的技术方案也应当被视为包括在本申请的保护范围内。
Claims (24)
1.一种自动清洗设备(100),用于对部件承载件制造设备的元件(102)进行定期清洗,其特征在于,所述自动清洗设备(100)包括:
外壳(104),所述外壳(104)形成内部容置空间(106),并且所述外壳(104)设置有装载入口(121)和卸载出口(123);
清洗站(107),所述清洗站(107)设置在所述内部容置空间(106)中,粘附在待清洗的所述元件(102)的表面上的异物在所述清洗站处被移除;
干燥站(111),所述干燥站(111)设置在所述内部容置空间(106)中并且沿着清洗路径设置在所述清洗站(107)的下游,经清洗的所述元件(102)在所述干燥站中被干燥;以及
操纵装置(114),所述操纵装置(114)设置在所述内部容置空间(106)中,并且所述操纵装置(114)构造成沿着所述清洗路径在所述装载入口(121)、所述清洗站(107)、所述干燥站(111)以及所述卸载出口(123)之间来回移动;
收集装置(136),所述收集装置(136)包括至少一个层布置结构(150),每个所述层布置结构包括至少一个子收集器(152),每个子收集器(152)构造成以成阵列的方式保持多个所述元件(102);
其中,所述操纵装置(114)对经由所述装载入口(121)装载到所述内部容置空间(106)中的容置有多个待清洗的元件(102)的所述收集装置(136)进行保持并且沿着所述清洗路径将所述收集装置(136)顺序地移动至所述清洗站(107)和/或所述干燥站(111),并且将容置有经清洗和/或干燥后的多个元件(102)的所述收集装置(136)经由所述卸载出口(123)从所述内部容置空间(106)中移出。
2.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述清洗站(107)包括第一清洗室(108)和第二清洗室(110),
所述第一清洗室(108)中容纳有将粘附在待清洗的所述元件(102)的表面上的异物移除的第一清洗流体,
所述第二清洗室(110)沿着所述清洗路径设置在所述第一清洗室(108)的下游,所述第二清洗室(110)中容纳有用于对余留在元件(102)的表面上的第一清洗流体进行冲洗的第二清洗流体。
3.根据权利要求2所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述干燥站(111)包括干燥室(112),所述干燥室(112)沿着所述清洗路径设置在所述第二清洗室(110)的下游,所述干燥室(112)中设置有干燥用流体供给装置(130),来自所述干燥用流体供给装置(130)的干燥用流体将余留在所述元件(102)的表面的上第二清洗流体和/或第一清洗流体去除并对所述元件(102)进行干燥。
4.根据权利要求3所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述自动清洗设备(100)还包括安装台(134),所述安装台(134)设置在所述内部容置空间(106)中并且附接至所述外壳(104),所述安装台(134)构造成沿着所述清洗路径延伸,所述第一清洗室(108)、所述第二清洗室(110)和所述干燥室(112)沿所述清洗路径呈线性地设置在安装台(134)中并处于同一水平平面。
5.根据权利要求4所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述第一清洗室(108)包括设置在所述安装台上并适于容纳所述第一清洗流体的第一清洗槽,所述第二清洗室(110)包括设置在所述安装台上并适于容纳所述第二清洗流体的第二清洗槽。
6.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述收集装置(136)包括多个成对的所述层布置结构(150),每个成对的所述层布置结构(150)中的层布置结构彼此叠置,每个所述层布置结构(150)包括布置成多排的多个所述子收集器(152)。
7.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述子收集器(152)包括:基部构件(154);设置在所述基部构件(154)上的用于保持所述元件(102)的至少一排保持柱(156);以及设置在所述基部构件(154)上的操纵部(158)。
8.根据权利要求7所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述操纵部(158)沿所述基部构件(154)的长度的延伸方向设置在所述基部构件(154)的中间区域。
9.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述子收集器(152)包括用于保持所述元件(102)的第一保持构件(160)和第二保持构件(162),所述第一保持构件(160)和所述第二保持构件(162)是呈长形的,所述第一保持构件(160)位于所述第二保持构件(162)上方并通过竖向连接构件(164)与所述第二保持构件(162)连接,所述第一保持构件(160)沿长度的延伸方向设置有用于保持所述元件(102)的至少一排第一留置孔(166),所述第二保持构件(162)沿长度的延伸方向设置有用于保持所述元件(102)的至少一排第二留置孔(168),每个所述第一留置孔(166)沿竖向方向与一个所述第二留置孔(168)对准,使得在所述元件(102)布置在所述子收集器(152)中时所述元件(102)的上部部分位于所述第一留置孔(166)内且所述元件(102)的下部部分位于与该第一留置孔(166)对准的所述第二留置孔(168)内。
10.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述收集装置(136)包括本体部(138)和从本体部(138)沿竖向方向向上延伸的接合构件(140),所述操纵装置(114)与所述接合构件(140)接合以对所述收集装置(136)进行保持和携载。
11.根据权利要求10所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述收集装置(136)包括立式的一对接合构件,所述一对接合构件中的一个接合构件(140)附接至所述本体部(138)的第一周向侧面(142)并且沿着所述第一周向侧面(142)竖向地向上延伸直至距所述本体部(138)的顶面预定距离处,所述一对接合构件中的另一接合构件(140)附接至所述本体部(138)的与所述第一周向侧面(142)相对的第二周向侧面(144)并且沿着所述第二周向侧面(144)竖向地向上延伸直至距所述本体部(138)的顶面所述预定距离处。
12.根据权利要求10所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述收集装置(136)构造为具有一对供所述操纵装置(114)夹持、抓持或钩持的提手的篮状件,所述篮状件具有方形的形状,一对所述提手分别设置于所述篮状件的相对的周向侧面处。
13.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述收集装置(136)包括壳体(146),所述壳体(146)围成一容纳空间(148),多个所述子收集器(152)以可移除的方式布置在所述容纳空间(148)内。
14.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述自动清洗设备(100)还包括附接至所述操纵装置(114)的罩盖(170),所述罩盖(170)具有适于笼罩所述收集装置(136)并且适于被接纳在所述清洗站(107)的第一清洗室(108)和第二清洗室(110)中的尺寸。
15.根据权利要求14所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述罩盖(170)包括顶部部分(172)和连接至所述顶部部分(172)并且与所述顶部部分一起共同围成用于笼罩所述收集装置(136)的罩盖内部空间的多个周向部分(174),其中,所述罩盖(170)包括设置在所述顶部部分(172)上的多个安装孔(176),所述操纵装置(114)设置有与所述多个安装孔(176)对准的多个螺纹孔,所述罩盖(170)经由穿过所述多个安装孔而与所述多个螺纹孔相接合的多个螺纹紧固件紧固至所述操纵装置(114)。
16.根据权利要求2所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述操纵装置(114)包括连接至所述外壳(104)的导轨(116)、能够沿着所述导轨(116)行进的移动装置(118)、以及安装在所述移动装置(118)上的操纵臂(120);以及
其中,所述移动装置(118)包括与所述操纵臂(120)连接并且在竖向方向、与所述竖向方向垂直的横向方向和/或与所述清洗路径一致的行进方向上对所述操纵臂(120)进行驱动以使所述操纵臂(120)产生往复运动的致动组件(119)。
17.根据权利要求16所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述致动组件(119)包括竖向可伸缩结构(125),所述竖向可伸缩结构(125)驱动所述操纵臂(120)在竖向方向上产生往复运动,使得由所述操纵臂(120)保持的所述收集装置(136)反复地浸入和抬离相应的所述第一清洗流体或所述第二清洗流体达预定时间。
18.根据权利要求2所述的自动清洗设备(100),其特征在于,容纳在所述第一清洗室(108)中的所述第一清洗流体为化学溶液,容纳在所述第二清洗室(110)中的所述第二清洗流体为水。
19.根据权利要求2所述的自动清洗设备(100),其特征在于,在所述第一清洗室(108)和/或所述第二清洗室(110)中设置有超声波系统,所述超声波系统对容置在所述第一清洗室(108)中的第一清洗流体和/或对容置在所述第二清洗室(110)中的第二清洗流体进行致动,以对所述元件(102)进行超声波清洗。
20.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述干燥站(111)设置有用于产生高温蒸汽或者产生无蒸汽的过热气体的干燥用流体供给装置(130)。
21.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述自动清洗设备(100)还包括设置在所述装载入口(121)处的装载装置(122)和设置在所述卸载出口(123)处的卸载装置(124),在所述装载装置(122)处,所述操纵装置(114)与所述收集装置(136)接合从而对所述收集装置(136)进行携载,在所述卸载装置(124)处,所述操纵装置(114)与所述收集装置(136)脱离接合。
22.根据权利要求21所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述装载装置(122)与所述卸载装置(124)位于所述外壳(104)的同一侧。
23.根据权利要求1所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述元件(102)为用于部件承载件制造设备的夹紧元件。
24.根据权利要求23所述的自动清洗设备(100),其特征在于,所述夹紧元件(102)为用于钻版机的夹头。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202322182859.6U CN221063748U (zh) | 2023-08-14 | 2023-08-14 | 自动清洗设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202322182859.6U CN221063748U (zh) | 2023-08-14 | 2023-08-14 | 自动清洗设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN221063748U true CN221063748U (zh) | 2024-06-04 |
Family
ID=91249840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202322182859.6U Active CN221063748U (zh) | 2023-08-14 | 2023-08-14 | 自动清洗设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN221063748U (zh) |
-
2023
- 2023-08-14 CN CN202322182859.6U patent/CN221063748U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100514624B1 (ko) | 기판의정렬장치및방법 | |
TWI564988B (zh) | 平行且單一的基板處理系統 | |
DE202018106740U1 (de) | Chemilumineszenzdetektor | |
KR101226954B1 (ko) | 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법 | |
KR20150088792A (ko) | 반도체 웨이퍼의 세정 방법 및 장치 | |
US7775222B2 (en) | Single substrate cleaning apparatus and method for cleaning backside of substrate | |
JP2000121647A (ja) | 自動分注装置 | |
CN221063748U (zh) | 自动清洗设备 | |
CN111112221A (zh) | 一种工件储存运输装置 | |
JPH0515858A (ja) | ワーク洗浄装置 | |
CN104078390B (zh) | 化学物质供应单元、基片处理设备及使用该基片处理设备处理基片的方法 | |
KR100817762B1 (ko) | 웨이퍼 자동 도금시스템 | |
CN217009129U (zh) | 半导体清洗设备 | |
KR101768519B1 (ko) | 기판 처리 설비 | |
CN114654291B (zh) | Cnc自动加工系统及自动上下料的cnc加工方法 | |
CN116417385A (zh) | 处理基板的设备和方法 | |
JPS63208223A (ja) | ウエハ処理装置 | |
JPH11223636A (ja) | 自動分注装置 | |
JPH07211679A (ja) | 洗浄装置 | |
JP3896983B2 (ja) | 自動分析装置 | |
KR20220088561A (ko) | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 | |
KR101267929B1 (ko) | 기판 처리장치 및 이의 기판 개별 수납/인출 방법 | |
KR101317252B1 (ko) | 웨이퍼 세정시스템 | |
CN221149948U (zh) | 晶圆清洗系统 | |
CN114951176B (zh) | 样品瓶处理系统及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |