CN220898503U - 一种烤盘结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种烤盘结构，包括烤盘本体，所述烤盘本体上设有烘烤凹槽，所述烘烤凹槽的底壁设有多个凸出条，多个凸出条沿一第一方向延伸，多个凸出条在一第二方向上间隔设置，所述第二方向与所述第一方向相交；相邻两个所述凸出条之间间隔形成导流凹槽；所述凸出条的外表面设有引流面，所述引流面用于引导油脂流动至所述导流凹槽。本实用新型的烤盘结构，其烤盘本体的烘烤凹槽内设有多个凸出条，可以引导油脂流动与食材分离，且相邻两个凸出条之间的导流凹槽可以引导热量流动。

Description

一种烤盘结构

技术领域

本实用新型涉及烹饪器具技术领域，尤其涉及一种烤盘结构。

背景技术

目前，烤箱、炸锅等烹饪器具中，可以是以烤盘放置食材，然后放入烤箱或者炸锅内，以热空气来烘烤烹调食品，在烘烤食物时，一般是需要添加食用油，以防止食物烤焦。

但是，现有的烤盘一般都是采用平面底壁，食材放置在烤盘的底壁后，容易与烤盘的底壁产生粘黏，且在烘烤过程中，由于食材底部跟烤盘直接接触，因而底部会过热，需要定期进行翻面，不然容易出现底部烤焦的情况。

实用新型内容

为了克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，本实用新型提供一种烤盘结构，其烤盘本体的烘烤凹槽内设有多个凸出条，可以引导油脂流动与食材分离，且相邻两个凸出条之间的导流凹槽可以引导热量流动。

本实用新型为解决其问题所采用的技术方案是：

一种烤盘结构，包括烤盘本体，所述烤盘本体上设有烘烤凹槽，所述烘烤凹槽的底壁设有多个凸出条，多个凸出条沿一第一方向延伸，多个凸出条在一第二方向上间隔设置，所述第二方向与所述第一方向相交；相邻两个所述凸出条之间间隔形成导流凹槽；所述凸出条的外表面设有引流面，所述引流面用于引导油脂流动至所述导流凹槽。

进一步地，所述凸出条的外表面设有第一圆弧面，所述第一圆弧面形成为所述引流面。

进一步地，所述导流凹槽的底壁设有第二圆弧面，所述第二圆弧面与所述第一圆弧面衔接。

进一步地，所述第二圆弧面朝下拱起。

进一步地，所述烘烤凹槽设有烘烤区以及集油区，所述烘烤区凸出于所述集油区，所述集油区围设于所述烘烤区的外周沿；所述多个凸出条均设于所述烘烤区，所述集油区用于接收所述导流凹槽导出的油脂。

进一步地，所述集油区设有集油凹槽，所述集油凹槽用于接收所述导流凹槽导出的油脂。

进一步地，所述烘烤区的外周沿设有引导斜面，所述引导斜面用于引导所述导流凹槽的油脂进入所述集油区。

进一步地，所述烘烤区以冲压成型的方式成型有多个所述凸出条。

进一步地，所述第一方向与所述第二方向垂直。

进一步地，所述烤盘本体的顶端外周沿凸设有承托边，所述承托边围设于所述烘烤凹槽。

综上所述，本实用新型具有如下技术效果：其烤盘底壁设置多个间隔设置的凸起条，相邻的两个凸起条之间间隔形成导流凹槽，食材烘烤过程中油脂可以进入导流凹槽，且导流凹槽可以引导热量流动，这样食材烘烤过程中油脂分离快，提高食材烘烤口感，且导流凹槽引导热量在食材的下方流动，这样使得食材烘烤均匀。

附图说明

图1为本实用新型烤盘的结构示意图；

图2为本实用新型的烤盘的剖视图；

图3为本实用新型的烤盘的另一视角结构视图。

其中，附图标记含义如下：10、烤盘本体；11、烘烤凹槽；111、烘烤区；112、集油凹槽；113、凸出条；114、导油凹槽；116、引导斜面。

具体实施方式

为了更好地理解和实施，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本实用新型。

参阅图1、图2以及图3，本实用新型公开了一种烤盘结构，包括烤盘本体10，在烤盘本体10上设有烘烤凹槽11，该烘烤凹槽11的底壁设有多个凸出条113，该多个凸出条113均沿第一方向(参见图1)延伸，且多个凸出条113在第二方向(参见图1)上间隔设置，第二方向与第一方向相交，在相邻两个凸出条113之间间隔形成导流凹槽，由于多个凸出条113在第二方向上间隔分布，因而在第二方向上间隔分布有多个导流凹槽，且凸出条113沿第一方向延伸，因而两个凸出条113之间间隔形成的导流凹槽也是沿第一方向延伸。另外，还可以在凸出条113的外表面设有引流面，引流面可以引导油脂流动至导流凹槽。

在上述结构基础上，使用本实用新型的烤盘结构时，在进行烘烤动作时，食材可以放置在烤盘本体10烘烤凹槽11内，由于烘烤凹槽11是凹陷设置在烤盘本体10上的，因而在烘烤凹槽11内放置食材时，食材不会凸出于烤盘本体10，这样可以防止移动过程中食材掉落，且在烘烤过程中，产生的油脂也是位于内侧，不会滴落至外部。

具体的是，其烘烤凹槽11的底壁设置多个间隔设置的凸起条，且相邻的两个凸起条之间间隔形成导流凹槽，在将食材放置在烘烤凹槽11时，食材可以由多个凸出条113承托，也即食材的底部具有导流凹槽，在食材烘烤过程中，食材上的油脂可以进入导流凹槽，这样食材烘烤过程中油脂分离快，提高食材烘烤口感，且导流凹槽可以引导热量流动，且导流凹槽引导热量在食材的下方流动，这样使得食材烘烤均匀。

当然，若是采用凸点或者凸块等结构凸设在烘烤凹槽11的底壁，这样的虽然能够在烤盘的形成凹凸结构，但是这样的话，凹位中的空气流动不顺畅，导致热量分布不匀，且凹位中的油脂聚集不易流动，因而烘烤过程中油脂不易分离，食材烘烤口感较差。但是，本实施例中采用的凸出条113是沿第一方向延伸的，因而形成导流凹槽也是沿第一方向延伸，这样的话热量流动是沿第一方向流动的，能够充分的与食材接触。

此外，由于凸出条113的表面还设有引流面，该引流面可以在食材放置于凸出条113上后，引流面可以引导烘烤过程中的油脂流动至导流凹槽内，这样可以有效防止油脂堆积在凸出条113的顶端面，方便油脂与食材的分离。

进一步地，本实施例中的凸出条113的外表面设有第一圆弧面，该第一圆弧面形成为引流面，也即在凸出条113采用圆弧表面，这样凸出条113的表面为非平面，食材放置在凸出条113后，圆弧表面具有高低不同的接触点与食材接触，食材烘烤过程中的油脂能够由高处往低处流动，这样油脂分离更快。此外，采用圆弧面与食材接触，食材与凸出条113的接触点少，导流凹槽内能够流动的热空气更多，因而烘焙效果更加均匀。

进一步地，还可以在导流凹槽的底壁设有第二圆弧面，第二圆弧面与第一圆弧面衔接，若是导流凹槽采用平面槽，也即在导流凹槽的侧面和底面之间容易形成死角，这样油脂在聚集在导流凹槽时，容易在两个面衔接位置产生清洗死角，不方便后期清洗。故本实施例中采用第二圆弧面用作导流凹槽的底壁，第二圆弧面与第一圆弧面衔接，方便油脂以及热量流动，且圆弧面展开后相较于平面具有更大的流动面，因而能够提供更大的热量流动空间。

更具体的是，第二圆弧面朝下拱起，如此，相对于向上凸起圆弧面，向下凸出可以在导流凹槽内形成更大的导流空间。

本实施例中，烘烤凹槽11具体可以分为烘烤区111以及集油区，且烘烤区111凸出于集油区，也即集油区下沉于烘烤区111的周沿，将集油区围设于烘烤区111的外周沿。在这一结构基础上，上述多个凸出条113均设于烘烤区111，集油区用于接收导流凹槽导出的油脂。

在进行烘烤时，食材可以放置在烘烤去的多个凸出条113上，在烘烤过程中，经过导流凹槽引导的油脂可以直接进入下沉式的集油区进行沉积，方便后期集中清理，而烘烤区111凸出于集油区，这样油脂也不会在烘烤区111堆集，方便油脂与食材的分离，避免油脂过多的粘黏在食材上造成口感差。

更具体的是，在集油区设有集油凹槽112，集油凹槽112可以接收导流凹槽导出的油脂，这样，集油区设置的集油凹槽112相较于直接下沉的集油区，具有更深的集油区域。

进一步地，还可以在烘烤区111的外周沿设有引导斜面116，该引导斜面116用于引导导流凹槽的油脂进入集油区，具体引导斜面116的一侧衔接于烘烤区111边沿，引导斜面116的另一侧衔接于集油区，如此，烘烤区111与集油区以引导斜面116进行衔接，油脂可以直接沿引导斜面116流动，且以非平面衔接，这样也不会在衔接位置造成清洗死角。

进一步地，本实施例中的烘烤区111以冲压成型的方式成型有多个凸出条113，加工更加方便，相较于焊接的方式焊接凸条，冲压成型不会在烤盘本体10上形成焊印，凸出条113与烘烤凹槽11的底壁衔接位置平滑，更利于油脂以及热量的流动。

进一步地，本实施例中的第一方向与第二方向垂直，具体第一方向可以是烤盘本体10的宽度方向，而第二方向是烤盘本体10的长度方向，凸出条113沿烤盘本体10的宽度方向延伸，且在烤盘本体10的长度方向间隔设置。

当然，第一方向也可以是一倾斜的方向，但是，这样设置凸出条113后，形成的导流凹槽流动时，容易受凸出条113的阻挡，因而采用完全垂直的两个方向，方便导流凹槽的热量以及油脂流动。

进一步地，烤盘本体10的顶端外周沿凸设有承托边，承托边围设于所述烘烤凹槽11，在取放烤盘本体10时，可以手持承托边，方便操作。

本实用新型方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段，还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种烤盘结构，其特征在于，包括烤盘本体，所述烤盘本体上设有烘烤凹槽，所述烘烤凹槽的底壁设有多个凸出条，多个凸出条沿一第一方向延伸，多个凸出条在一第二方向上间隔设置，所述第二方向与所述第一方向相交；相邻两个所述凸出条之间间隔形成导流凹槽；所述凸出条的外表面设有引流面，所述引流面用于引导油脂流动至所述导流凹槽。

2.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，所述凸出条的外表面设有第一圆弧面，所述第一圆弧面形成为所述引流面。

3.根据权利要求2所述的烤盘结构，其特征在于，所述导流凹槽的底壁设有第二圆弧面，所述第二圆弧面与所述第一圆弧面衔接。

4.根据权利要求3所述的烤盘结构，其特征在于，所述第二圆弧面朝下拱起。

5.根据权利要求1-4任一项所述的烤盘结构，其特征在于，所述烘烤凹槽设有烘烤区以及集油区，所述烘烤区凸出于所述集油区，所述集油区围设于所述烘烤区的外周沿；所述多个凸出条均设于所述烘烤区，所述集油区用于接收所述导流凹槽导出的油脂。

6.根据权利要求5所述的烤盘结构，其特征在于，所述集油区设有集油凹槽，所述集油凹槽用于接收所述导流凹槽导出的油脂。

7.根据权利要求5所述的烤盘结构，其特征在于，所述烘烤区的外周沿设有引导斜面，所述引导斜面用于引导所述导流凹槽的油脂进入所述集油区。

8.根据权利要求5所述的烤盘结构，其特征在于，所述烘烤区以冲压成型的方式成型有多个所述凸出条。

9.根据权利要求1-4任一项所述的烤盘结构，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向垂直。

10.根据权利要求1-4任一项所述的烤盘结构，其特征在于，所述烤盘本体的顶端外周沿凸设有承托边，所述承托边围设于所述烘烤凹槽。