CN220881828U - 一种玻璃基板去污研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及研磨装置技术领域，公开了一种玻璃基板去污研磨装置，包括机架、支撑台和研磨机构，所述机架顶部设置有研磨机构，所述研磨机构包括研磨电机和研磨片，所述第一电机输出端设置有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆一端螺纹连接有移动块，所述移动块一端设置有第二电机，所述第二电机输出端设置有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆一端螺纹连接有第一气缸，所述第一气缸输出端设置有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆一端设置有研磨电机，所述研磨电机输出端设置有研磨片，本实用新型通过第一气缸让研磨片上下移动，通过第一电机和第二电机让研磨片可以进行前后左右移动，这样玻璃基板的各个位置都能被研磨片研磨到。

Description

一种玻璃基板去污研磨装置

技术领域

本实用新型涉及研磨装置技术领域，具体为一种玻璃基板去污研磨装置。

背景技术

玻璃基板在生产过程中需要对其进行去污处理，这时单纯的通过清洗液冲洗时无法将玻璃基板上的牢固污渍清洗掉的，因此在清洗液清洗的同时需要用到研磨装置在玻璃基板表面研磨，这样玻璃基板上的哪些牢固污渍就能去掉了，

如中国专利公开的公开号为CN215470305U、授权公告日为2022年1月11日的中国实用新型专利公开的一种玻璃基板去污研磨装置，包括：安装架，具有安装面，喷淋机构、研磨机构和清洁机构呈直线排列依次间隔安装在安装面上；运料机构，具有传动面，按照指定间隔布置在传动面上的玻璃基板能够由运料机构移动依次通过喷淋机构下方的喷淋区、研磨机构下方的研磨区和清洁机构下方的清洁区；喷淋机构，用于向通过喷淋区的玻璃基板喷淋研磨液；研磨机构，用于磨除通过研磨区的玻璃基板上的污物；清洁机构，用于清除通过清洁区的玻璃基板上的残留研磨液，

但是在实际使用时，上述装置通过喷淋机构将玻璃基板浸湿，再通过研磨机构对玻璃进行研磨，但是其设置的研磨机构无法移动，只能对固定的位置进行研磨，这样的话当玻璃基板面积较大时，就无法将玻璃基板的各个位置都研磨到，这时就只能通过人工调整玻璃基板的位置，这样不仅费时费力，而且在调整玻璃基板时稍不注意就会将其弄坏，另外上述装置时直接将玻璃放置在传送机构的传送面上，这样放置是非常不稳定的，这时研磨机在对玻璃基板进行研磨时，玻璃基板是非常容易滑落的，进而造成损失。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种玻璃基板去污研磨装置，以解决现有玻璃基板去污研磨装置只能对一个固定位置进行研磨的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种玻璃基板去污研磨装置，包括机架、支撑台、第一电机和研磨机构，所述机架顶部设置有研磨机构，所述研磨机构包括研磨电机和研磨片，所述第一电机输出端设置有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆一端螺纹连接有移动块，所述移动块一端设置有第二电机，所述第二电机输出端设置有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆一端螺纹连接有第一气缸，所述第一气缸输出端设置有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆一端设置有研磨电机，所述研磨电机输出端设置有研磨片。

优选的，所述第一气缸一端设置有滑块，所述移动块一端设置有滑槽，所述滑块与滑槽滑动连接。

优选的，所述机架位于螺纹杆上方设置有滑杆，所述滑杆与移动块滑动连接。

优选的，所述机架底部中心位置设置有第二气缸，所述第二气缸输出端设置有第二伸缩杆，所述第二伸缩杆顶部设置有支撑台。

优选的，所述机架位于支撑台四周均设置有第三气缸，所述第三气缸输出端设置有第三伸缩杆，所述第三伸缩杆一端设置有气动夹爪。

优选的，所述机架顶部两端均设置有水泵，所述水泵输出端设置有喷水管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过第一电机驱动第一螺纹杆转动，从而实现研磨片可以前后移动，通过第二电机驱动第二螺纹杆转动，从而实现研磨片可以左右移动，通过第一气缸驱动第一伸缩杆伸缩，从而实现研磨片上下移动，由此，研磨片就可以在前后左右和上下方向上进行灵活的运动，这样玻璃基板的各个位置都能被研磨片研磨到，另外通过气动夹爪的设计可以将玻璃基板稳定的夹持住，这样研磨片在研磨时玻璃基板就不会滑落，非常实用。

附图说明

图1为本实用新型立体结构示意图；

图2为本实用新型中研磨机构结构示意图；

图3为图2中A处局部放大结构示意图。

图中：1、机架；2、支撑台；3、研磨机构；4、第一电机；5、第二电机；6、研磨片；7、第一螺纹杆；8、移动块；9、第二螺纹杆；10、第一气缸；11、第一伸缩杆；12、研磨电机；13、滑块；14、滑槽；15、滑杆；16、第二气缸；17、第二伸缩杆；18、第三气缸；19、第三伸缩杆；20、气动夹爪；21、水泵；22、喷水管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种玻璃基板去污研磨装置，包括机架1、支撑台2、第一电机4和研磨机构3，机架1顶部设置有研磨机构3，研磨机构3包括研磨电机12和研磨片6，第一电机4输出端设置有第一螺纹杆7，第一螺纹杆7一端螺纹连接有移动块8，移动块8一端设置有第二电机5，第二电机5输出端设置有第二螺纹杆9，第二螺纹杆9一端螺纹连接有第一气缸10，第一气缸10输出端设置有第一伸缩杆11，第一伸缩杆11一端设置有研磨电机12，研磨电机12输出端设置有研磨片6，

在本实施例中，首先开启第一气缸10，让第一伸缩杆11带动研磨片6向玻璃基板移动，然后将研磨电机12打开，以此对玻璃基板进行研磨，当需要调整研磨片6的位置时可以通过第一电机4驱动第一螺纹杆7转动，这时移动块8就会在第一螺纹杆7上来回移动，从而带动研磨片6进行前后移动，通过第二电机5驱动第二螺纹杆9转动，这时第一气缸10就会在第二螺纹杆9上来回移动，从而带动研磨片6进行左右移动，由此，研磨片6就可以在前后左右方向上进行灵活的运动，这样玻璃基板的各个位置都能被研磨片6研磨到。

如图2-3所示，第一气缸10一端设置有滑块13，移动块8一端设置有滑槽14，滑块13与滑槽14滑动连接，在本实施例中，为了防止第二螺纹杆9转动时带动第一气缸10一起转动，因此动过滑块13和滑槽14的设计，让第二螺纹杆9转动时，第一气缸10只会在第二螺纹杆9上来回移动，从而带动研磨片6进行左右移动。

如图2所示，机架1位于螺纹杆上方设置有滑杆15，滑杆15与移动块8滑动连接，在本实施例中，为了防止第一螺纹杆7转动时带动移动块8一起转动，因此动过滑杆15的设计，让第一螺纹杆7转动时，移动块8只会在第一螺纹杆7上来回移动，从而带动研磨片6进行前后移动。

如图1所示，机架1底部中心位置设置有第二气缸16，第二气缸16输出端设置有第二伸缩杆17，第二伸缩杆17顶部设置有支撑台2，在本实施例中，通过将玻璃基板放置到支撑台2上，然后通过开启第二气缸16，这时第二伸缩杆17带动支撑台2上升到气动夹爪20处，并被固定，以便于研磨片6进行研磨。

如图1所示，机架1位于支撑台2四周均设置有第三气缸18，第三气缸18输出端设置有第三伸缩杆19，第三伸缩杆19一端设置有气动夹爪20，在本实施例中，通过气动夹爪20的设计可以将玻璃基板稳定的夹持住，这样研磨片6在研磨时玻璃基板就不会滑落，其中气动夹爪20设置有四个，分别设置在玻璃基板的四周，这样的设计让玻璃基板在被研磨时，当玻璃基板左右两端被气动夹爪20挡住导致研磨片6无法研磨到，这时就可以松开玻璃基板左右两端的气动夹爪20，通过玻璃夹板前后两端的气动夹爪20将其固定，同样的道理也可以研磨玻璃基板前后两端被气动夹爪20挡住的位置。

如图1所示，机架1顶部两端均设置有水泵21，水泵21输出端设置有喷水管22，在本实施例中，由于玻璃基板在研磨时需要用清洗液进行清洗，因此通过水泵21的设计将清洗液抽出，在通过喷水管22将清洗液喷洒在玻璃基板上。

工作原理：在使用时，首先将玻璃基板放置到支撑台2上，然后开启第二气缸16，这时第二伸缩杆17带动支撑台2上升，当玻璃基板上升到气动夹爪20的位置时启动第三电机，这时第三伸缩杆19会带动气动夹爪20向玻璃基板移动，位置调整好后通过气动夹爪20将玻璃基板固定住，然后将水泵21开启，这时清洗液会在水泵21的作用下通过喷水管22喷洒在玻璃基板上，接着启动第一气缸10，让第一伸缩杆11带动研磨片6向玻璃基板移动，然后将研磨电机12打开，以此对玻璃基板进行研磨，当需要调整研磨片6的位置时可以通过第一电机4驱动第一螺纹杆7转动，这时移动块8就会在第一螺纹杆7上来回移动，从而带动研磨片6进行前后移动，通过第二电机5驱动第二螺纹杆9转动，这时第一气缸10就会在第二螺纹杆9上来回移动，从而带动研磨片6进行左右移动，由此，研磨片6就可以在前后左右方向上进行灵活的运动，另外当玻璃基板左右两端被气动夹爪20挡住导致研磨片6无法研磨到，这时就可以松开玻璃基板左右两端的气动夹爪20，通过玻璃夹板前后两端的气动夹爪20将其固定，同样的道理也可以研磨玻璃基板前后两端被气动夹爪20挡住的位置，这样玻璃基板的各个位置都能被研磨片6研磨到。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理下可以对这些实施例进行多种变化和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种玻璃基板去污研磨装置，包括机架(1)、支撑台(2)、第一电机(4)和研磨机构(3)，其特征在于：所述机架(1)顶部设置有研磨机构(3)，所述研磨机构(3)包括研磨电机(12)和研磨片(6)，所述第一电机(4)输出端设置有第一螺纹杆(7)，所述第一螺纹杆(7)一端螺纹连接有移动块(8)，所述移动块(8)一端设置有第二电机(5)，所述第二电机(5)输出端设置有第二螺纹杆(9)，所述第二螺纹杆(9)一端螺纹连接有第一气缸(10)，所述第一气缸(10)输出端设置有第一伸缩杆(11)，所述第一伸缩杆(11)一端设置有研磨电机(12)，所述研磨电机(12)输出端设置有研磨片(6)。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃基板去污研磨装置，其特征在于：所述第一气缸(10)一端设置有滑块(13)，所述移动块(8)一端设置有滑槽(14)，所述滑块(13)与滑槽(14)滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种玻璃基板去污研磨装置，其特征在于：所述机架(1)位于螺纹杆上方设置有滑杆(15)，所述滑杆(15)与移动块(8)滑动连接。

4.根据权利要求3所述的一种玻璃基板去污研磨装置，其特征在于：所述机架(1)底部中心位置设置有第二气缸(16)，所述第二气缸(16)输出端设置有第二伸缩杆(17)，所述第二伸缩杆(17)顶部设置有支撑台(2)。

5.根据权利要求4所述的一种玻璃基板去污研磨装置，其特征在于：所述机架(1)位于支撑台(2)四周均设置有第三气缸(18)，所述第三气缸(18)输出端设置有第三伸缩杆(19)，所述第三伸缩杆(19)一端设置有气动夹爪(20)。

6.根据权利要求5所述的一种玻璃基板去污研磨装置，其特征在于：所述机架(1)顶部两端均设置有水泵(21)，所述水泵(21)输出端设置有喷水管(22)。