CN220840810U - 一种cvd用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，包括压制机主体，压制机主体的上端面设置有上压模和下压模，压制机主体内设置有料筒和料泵，料泵的两端分别与上压模的顶部和料筒的底部贯通连接，料筒的上端面设置有桶盖，压制机主体的上端面设置有搅拌架，搅拌架上转动连接有电机架，电机架上设置有第一电机，第一电机的下端设置有搅拌轴，搅拌轴上设置有搅拌叶，搅拌架的侧端面设置有第二电机，第二电机与搅拌架键接，搅拌桶的底部设置有涡流气孔，压制机主体内设置有空压机，涡流气孔与空压机通过橡胶管贯通连接。本实用新型通过在搅拌桶的底部设置有涡流气孔，并在设备内设置空压机，加速底部和上层物料混合。

Description

一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备

技术领域

本实用新型涉及陶瓷热压成型技术领域，具体为一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备。

背景技术

CVD是ChemicalVaporDeposition的简称，是指高温下的气相反应。CVD原料一般为两种及以上的气态物质，在一定的温度和压力下进行反应，生成薄膜沉积在基材的表面。CVD工艺中最佳的气场条件是要求原料气即时、均匀的混合，因此CVD对喷嘴的精度要求极高。

现有CVD喷嘴大多采用氮化铝陶瓷热压成型制成，CVD喷嘴对原料均匀性要求极高，为使原料充分混合不产生沉降，从而导致而现有的热压成型设备的原料桶较小，大批量生产时，需要频繁勾兑原料，而若直接更换大容量的原料桶，则容易导致原料混合不均匀，原料沉降，导致底层物料和顶部物料浓度不同，从而影响喷嘴质量，因此，需要一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，以解决现有技术中陶瓷喷嘴热压成型设备的原料桶过小影响生产效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，包括压制机主体，所述压制机主体的上端面设置有上压模和下压模，所述压制机主体内设置有料筒和料泵，所述料泵的两端分别与上压模的顶部和料筒的底部贯通连接，所述料筒的上端面设置有桶盖，所述压制机主体的上端面设置有搅拌架，所述搅拌架上转动连接有电机架，所述电机架上设置有第一电机，所述第一电机的下端设置有搅拌轴，所述搅拌轴上设置有搅拌叶，所述搅拌架的侧端面设置有第二电机，所述第二电机与搅拌架键接，所述搅拌桶的底部设置有涡流气孔，所述压制机主体内设置有空压机，所述涡流气孔与空压机通过橡胶管贯通连接。

优选的，所述桶盖上设置有滑槽，所述滑槽内设置有防尘垫，所述防尘垫采用硅胶材质制成，通过滑槽搅拌轴具有一定的空间摆动，通过防尘垫避免灰尘或异物通过滑槽落入料筒内。

优选的，所述料筒的底部为圆底结构，圆底结构避免搅拌轴摆动时，搅拌叶与桶底干涉，同时方便排空物料。

优选的，所述涡流气孔为若干圆周阵列的涡流气孔，使空压机向涡流气孔通入高压空气，从而使高压空气将底部浓稠物料向上吹，加速底部和上层物料混合。

优选的，所述空压机和涡流气孔之间设置有单向阀，通过单向阀防止涡流气孔回料。

优选的，所述桶盖上通过合页转动连接有投料翻板，通过投料翻板方便快速投料。

优选的，所述搅拌叶采用聚四氟乙烯材质制成，聚四氟乙烯耐磨和耐腐蚀性能好。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型通过在料筒的上端设置电机架和第二电机，使第二电机带动电机架往复旋转，从而带动搅拌轴摆动，大大提升了搅拌轴搅拌的均匀性，能够将大容量搅拌桶内物料搅拌均匀。

2.本实用新型通过在搅拌桶的底部设置有涡流气孔，并在设备内设置空压机，使空压机向涡流气孔通入高压空气，从而使高压空气将底部浓稠物料向上吹，加速底部和上层物料混合。

3.本实用新型通过在桶盖的滑槽上设置防尘垫，能够避免灰尘或异物通过滑槽落入料筒内，保证了原料质量。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的俯视图；

图3为本实用新型的图2中A-A剖面图；

图4为本实用新型的图3中B处放大图。

图中：1压制机主体、11上压模、12下压模、13桶盖、131滑槽、132投料翻板、133防尘垫、14搅拌架、141第二电机、15料筒、151涡流气孔、2电机架、21第一电机、23搅拌轴、24搅拌叶、3料泵、4空压机、41单向阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

请参阅图1至图4，图示中的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，包括压制机主体1，压制机主体1的上端面设置有上压模11和下压模12，压制机主体1内设置有料筒15和料泵3，料泵3的两端分别与上压模11的顶部和料筒15的底部贯通连接，料筒15的上端面设置有桶盖13，压制机主体1的上端面设置有搅拌架14，搅拌架14上转动连接有电机架2，电机架2上设置有第一电机21，第一电机21的下端设置有搅拌轴23，搅拌轴23上设置有搅拌叶24，搅拌架14的侧端面设置有第二电机141，第二电机141与搅拌架14键接，搅拌桶的底部设置有涡流气孔151，压制机主体1内设置有空压机4，涡流气孔151与空压机4通过橡胶管贯通连接。

桶盖13上设置有滑槽131，滑槽131内设置有防尘垫133，防尘垫133采用硅胶材质制成，通过滑槽131搅拌轴23具有一定的空间摆动，通过防尘垫133避免灰尘或异物通过滑槽131落入料筒15内。

料筒15的底部为圆底结构，圆底结构避免搅拌轴23摆动时，搅拌叶24与桶底干涉，同时方便排空物料。

涡流气孔151为若干圆周阵列的涡流气孔151，使空压机4向涡流气孔151通入高压空气，从而使高压空气将底部浓稠物料向上吹，加速底部和上层物料混合。

空压机4和涡流气孔151之间设置有单向阀41，通过单向阀41防止涡流气孔151回料。

桶盖13上通过合页转动连接有投料翻板132，通过投料翻板132方便快速投料。

搅拌叶24采用聚四氟乙烯材质制成，聚四氟乙烯耐磨和耐腐蚀性能好。

本设备在使用时：通过第一电机21带动搅拌轴23转动，从而使搅拌轴23带动搅拌叶24对料筒15内的物料进行搅动，同时使第二电机141带动电机架2往复旋转，从而带动搅拌轴23摆动，大大提升了搅拌轴23搅拌的均匀性，通过空压机4向涡流气孔151通入高压空气，从而使高压空气将底部浓稠物料向上吹，加速底部和上层物料混合，进一步增强了物料混合的均匀性，能够将大容量搅拌桶内物料搅拌均匀，从而减少投料次数，提升生产效率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于，包括：

压制机主体(1)，所述压制机主体(1)的上端面设置有上压模(11)和下压模(12)，所述压制机主体(1)内设置有料筒(15)和料泵(3)，所述料泵(3)的两端分别与上压模(11)的顶部和料筒(15)的底部贯通连接，所述料筒(15)的上端面设置有桶盖(13)，所述压制机主体(1)的上端面设置有搅拌架(14)，所述搅拌架(14)上转动连接有电机架(2)，所述电机架(2)上设置有第一电机(21)，所述第一电机(21)的下端设置有搅拌轴(23)，所述搅拌轴(23)上设置有搅拌叶(24)，所述搅拌架(14)的侧端面设置有第二电机(141)，所述第二电机(141)与搅拌架(14)键接，所述搅拌桶的底部设置有涡流气孔(151)，所述压制机主体(1)内设置有空压机(4)，所述涡流气孔(151)与空压机(4)通过橡胶管贯通连接。

2.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述桶盖(13)上设置有滑槽(131)，所述滑槽(131)内设置有防尘垫(133)，所述防尘垫(133)采用硅胶材质制成。

3.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述料筒(15)的底部为圆底结构。

4.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述涡流气孔(151)为若干圆周阵列的涡流气孔(151)。

5.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述空压机(4)和涡流气孔(151)之间设置有单向阀(41)。

6.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述桶盖(13)上通过合页转动连接有投料翻板(132)。

7.根据权利要求1所述的一种CVD用氮化铝陶瓷喷嘴压制成型设备，其特征在于：所述搅拌叶(24)采用聚四氟乙烯材质制成。