CN220514628U - 一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及硅钢板生产技术领域,尤其是一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,包括机架,所述硅钢板在机架上水平输送,在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构,所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端,其作用于硅钢板的下表面。本实用新型所得到的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,在硅钢板涂布氧化镁溶液后,利用气缸推动摆锤快速撞击硅钢板,促使硅钢板产生振动,从而将氧化镁溶液振开,均匀覆盖于硅钢板表面,以提升氧化镁溶液在硅钢板表面的滚涂均匀性,提升硅钢板的加工质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅钢板生产技术领域,尤其是一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置。
背景技术
现有技术中,硅钢板在生产过程中,需要在表面喷涂氧化镁溶液。涂液辊为了能从溶液槽内带起较多的氧化镁溶液,所以会在涂液辊的表面沿周向间隔开设有细小的凹槽,氧化镁溶液会停留在内部,当其与硅钢板接触时,氧化镁溶液会涂抹、停留在硅钢板上。但是这就会造成硅钢板表面的氧化镁会成细条状,其在硅钢板表面的覆盖不均匀,会影响硅钢板的加工质量。
实用新型内容
本实用新型为了解决上述技术不足而提供一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,能在冲击力的作用下使得硅钢板产生振动,从而使其表面的细条状的氧化镁溶液会均匀分布在硅钢板表面,以提升硅钢板的加工质量。
本实用新型公开了一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,包括机架,所述硅钢板在机架上水平输送,在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构,所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端,其作用于硅钢板的下表面;
所述撞击机构包括第一立柱和第二立柱,在第一立柱的顶部通过销轴转动连接有摆锤,所述第二立柱位于摆锤中间部位的下方,所述摆锤的中间部位架设在第二立柱的上端,在第二立柱上设置有竖直向上的气缸,所述气缸的伸缩端与摆锤的端部对应,气缸的伸缩端伸长时将摆锤向上推送,在惯性作用下摆锤端部撞击硅钢板。
在摆锤端部的上端面设置有橡胶块,所述橡胶块的上表面呈向上凸起的弧面结构。
所述第二立柱的顶端的水平位置低于第一立柱的顶端的水平位置,在第二立柱的顶端设置有缓冲弹簧,所述缓冲弹簧位于摆锤中间部位的正下方,缓冲弹簧的下端与第二立柱的顶端固定连接。
在摆锤的外侧端部设置有柱状结构的内凹孔,所述内凹孔沿摆锤的长度方向设置,在内凹孔范围内的摆锤上间隔设置有若干个定位孔,在内凹孔内设置调节块,调节块上也设置有定位孔,调节块上的定位孔与摆锤上的其中一个定位孔对应后采用定位销固定。
在气缸的伸缩端的端部设置有耐磨块。
本实用新型所得到的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,在硅钢板涂布氧化镁溶液后,利用气缸推动摆锤快速撞击硅钢板,促使硅钢板产生振动,从而将氧化镁溶液振开,均匀覆盖于硅钢板表面,以提升氧化镁溶液在硅钢板表面的滚涂均匀性,提升硅钢板的加工质量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为实现预定实用新型目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本实用新型的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
实施例1:
如图1所示,本实用新型公开了一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,包括机架1,所述硅钢板2在机架1上水平输送,在硅钢板2下方的机架1上设置有两组撞击机构,所述撞击机构分别位于硅钢板2宽度方向的两端,其作用于硅钢板2的下表面;
所述撞击机构包括第一立柱3和第二立柱4,在第一立柱3的顶部通过销轴7转动连接有摆锤6,所述第二立柱4位于摆锤6中间部位的下方,所述摆锤6的中间部位架设在第二立柱4的上端,在第二立柱4上设置有竖直向上的气缸5,所述气缸5的伸缩端13与摆锤6的端部对应,气缸5的伸缩端13伸长时将摆锤6向上推送,在惯性作用下摆锤6端部撞击硅钢板2。
在加工过程中,硅钢板2辊涂氧化镁溶液后,其表面会形成细条状的氧化镁溶液,分布不均匀。硅钢板2向前输送的时候,采用撞击机构对硅钢板2进行撞击,使硅钢板2产生振动,振动过程中会让表面的氧化镁溶液分布更加均匀。撞击的过程是由两个撞击机构同步作用,使得整个硅钢板2在一定的长度范围内产生振动。撞击机构在硅钢板2上的撞击间隙可以根据硅钢板2的行走速度及撞击机构作用在硅钢板2上所产生的振动范围进行确定,以确保振动可以覆盖整个硅钢板2,这样硅钢板2所有部位的氧化镁溶液覆盖均比较均匀,硅钢板2的质量可以得到有效保证。
撞击过程:气缸5的伸缩端13快速伸长,带动摆锤6绕着销轴7进行转动,在摆锤6快速向上运动,摆锤6靠近硅钢板2但位于硅钢板2接触,并具有一定动能的时候,气缸5的伸缩端13快速收回至第二立柱4的下方。而摆锤6则在惯性的作用下,撞击硅钢板2,使硅钢板2产生振动。摆锤6撞击硅钢板2后,在反弹力及自身重力的作用下快速向下,并最终架置于第二立柱4上。上述过程完成了对硅钢板2的撞击,反应快速,通过控制器控制气缸5,实现自动化作业,撞击的力度可以通过调节气缸5的通入气压,控制伸缩端13上升的速度及位置进行调整。
在摆锤6端部的上端面设置有橡胶块8,所述橡胶块8的上表面呈向上凸起的弧面结构。摆锤6上的橡胶块8在撞击过程中与硅钢板2接触,避免撞击的时候对硅钢板2造成损伤。
所述第二立柱4的顶端的水平位置低于第一立柱3的顶端的水平位置,在第二立柱4的顶端设置有缓冲弹簧9,所述缓冲弹簧9位于摆锤6中间部位的正下方,缓冲弹簧9的下端与第二立柱4的顶端固定连接。在第二立柱4顶部设置缓冲弹簧9,摆锤6在撞击硅钢板2后下落时与第二立柱4上的缓冲弹簧9接触,具有一定的缓冲力,避免对第二立柱4、摆锤6、气缸5等造成损坏,设备运行的安全性更高。
在摆锤6的外侧端部设置有柱状结构的内凹孔10,所述内凹孔10沿摆锤6的长度方向设置,在内凹孔10范围内的摆锤6上间隔设置有若干个定位孔12,在内凹孔10内设置调节块11,调节块11上也设置有定位孔12,调节块11上的定位孔12与摆锤6上的其中一个定位孔12对应后采用定位销固定。在摆锤6的内凹孔10内设置有调节块11,所述调节块11的重量相对较大。采用定位销将调节块11在内凹孔10内的位置进行调节的时候,可以改变摆锤6的重心。由于自然状态下的摆锤6端部与硅钢板2之间的间距较小,空间也相对较小,所以气缸5的伸缩端13与摆锤6接触带动摆锤6加速的时间有限,为了进一步调节摆锤6作用在硅钢板2上的冲击力的时候,可以改变调节块11的位置,以改变摆锤6作用在硅钢板2上的冲击力,以达到所需的振动效果,最终使氧化镁溶液在硅钢板2表面分布更加均匀。
在气缸5的伸缩端13的端部设置有耐磨块14。
由于气缸5的伸缩端13伸长过程中会冲击在摆锤6上,为了避免气缸5的伸缩端13的损坏,在其端部固定耐磨块14,所述耐磨块14可以采用橡胶材质,可以保护气缸5伸缩端13与摆锤6的接触,安全性更高。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限定本实用新型,任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简化修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (5)
1.一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,包括机架,所述硅钢板在机架上水平输送,其特征是:在硅钢板下方的机架上设置有两组撞击机构,所述撞击机构分别位于硅钢板宽度方向的两端,其作用于硅钢板的下表面;
所述撞击机构包括第一立柱和第二立柱,在第一立柱的顶部通过销轴转动连接有摆锤,所述第二立柱位于摆锤中间部位的下方,所述摆锤的中间部位架设在第二立柱的上端,在第二立柱上设置有竖直向上的气缸,所述气缸的伸缩端与摆锤的端部对应,气缸的伸缩端伸长时将摆锤向上推送,在惯性作用下摆锤端部撞击硅钢板。
2.根据权利要求1所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,其特征是:在摆锤端部的上端面设置有橡胶块,所述橡胶块的上表面呈向上凸起的弧面结构。
3.根据权利要求1或2所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,其特征是:所述第二立柱的顶端的水平位置低于第一立柱的顶端的水平位置,在第二立柱的顶端设置有缓冲弹簧,所述缓冲弹簧位于摆锤中间部位的正下方,缓冲弹簧的下端与第二立柱的顶端固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,其特征是:在摆锤的外侧端部设置有柱状结构的内凹孔,所述内凹孔沿摆锤的长度方向设置,在内凹孔范围内的摆锤上间隔设置有若干个定位孔,在内凹孔内设置调节块,调节块上也设置有定位孔,调节块上的定位孔与摆锤上的其中一个定位孔对应后采用定位销固定。
5.根据权利要求1所述的一种撞击型硅钢板表面氧化镁均化装置,其特征是:在气缸的伸缩端的端部设置有耐磨块。
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