CN220456366U - 用于减少零件污染的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于减少零件污染的装置，包括：载置台，零件能够被载置于载置台上；和底部开口的罩，具有顶壁和侧壁；其中，在载置台上形成有在俯视时形状与罩的底部相同的凹槽，使得能够将罩的侧壁的底部放置于凹槽内，其中，在凹槽所包围的载置区域内开设有供气体进入的第一孔，并且其中，在罩开设有供气体排出的第二孔。

Description

用于减少零件污染的装置

技术领域

本实用新型总体上涉及半导体制造领域，更具体地，涉及一种在半导体生产线上用于减少零件污染的装置。

背景技术

随着半导体集成电路的制造日益进步，元件密度越来越高，相对的半导体制造工艺的线宽亦趋于微小化，对于工艺环境的要求也越来越严格。例如，尘埃微粒、金属粉尘等对芯片的影响会很大，一颗直径几微米的尘埃吸附在芯片上，可能造成芯片短路甚至损坏。因此，半导体制造设备必须放置在洁净室(也可以称为无尘室等)中。

另一方面，洁净室中通常放置有许多半导体制造设备。这些设备需要定期维修和维护，例如安装、更换零件。例如，当更换零件时，通常将零件放置在推车上，然后将零件运送到待维修的设备进行拆卸和安装。在此期间，零件长时间暴露于空气中，这可能造成零件污染。此外，零件在搬送过程中也可能被工作人员无意中触碰。已经知道，零件污染是零件失效的重要原因之一，这可能导致产品良率下降。

因此，期望一种低成本的方式来减少甚至避免零件的污染。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型提供了一种用于减少零件污染的装置。

根据实用新型的一方面，提供一种用于减少零件污染的装置，包括：载置台，所述零件能够被载置于所述载置台上；和底部开口的罩，具有顶壁和侧壁；其中，在所述载置台上形成有在俯视时形状与所述罩的底部相同的凹槽，使得能够将所述罩的侧壁的底部放置于所述凹槽内，其中，在所述凹槽所包围的载置区域内开设有供气体进入的第一孔，并且其中，在所述罩开设有供气体排出的第二孔。

在一些实施例中，在所述凹槽内设置有密封圈。

在一些实施例中，所述第一孔位于所述载置区域内的靠近所述凹槽的部分。

在一些实施例中，在所述第二孔安装有仅允许气体从所述罩的内部流到外部的第一阀。

在一些实施例中，在所述第一孔连接有配管，所述配管能够连接到外部的气体供给源。

在一些实施例中，在所述配管设置有用于对来自所述气体供给源的气体进行减压的第二阀。

在一些实施例中，在所述配管设置有用于打开和关断所述配管的第三阀。

在一些实施例中，在所述载置区域内的靠近所述凹槽的部分设置有用于收纳所述零件的线束的收纳槽。

在一些实施例中，所述第一孔位于所述收纳槽附近。

在一些实施例中，在所述罩形成有一个或多个把手。

根据本实用新型的用于减少零件污染的装置，能够为零件在搬送过程中提供惰性气氛以避免污染，同时能够避免操作人员无意中触碰到零件。该装置易于操作，安全性高，应用广泛，且成本低。

附图说明

以下，结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。附图仅是示例性的，并不对实施例构成限制。在附图中，相同的附图标记指代相同的要素，其中：

图1示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性立体图。

图2示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性分解图。

图3示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的移走罩后的示意性俯视图。

图4示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性侧视图。

图5示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的图1中的虚线框内的局部放大图。

应当理解，为了图示的简化和/或清楚，在附图中示出的要素不一定按照比例绘制。例如，为了清楚起见，一些要素的尺寸可能相对于其它要素被夸大。此外，为了使本实用新型的构思更容易理解，在附图中省略了本领域已知的要素。附图的尺寸不表示本文所描绘的各种要素的精确尺寸和/或尺寸比例。

具体实施方式

在以下描述中，阐述了若干具体的细节。然而，本文所描述的实施例是可以在没有某些具体细节的情况下实现的。在具体的实施例中，为了避免对说明书的理解不清楚，没有详细示出公知的结构和技术。

此外，本文中可能重复地使用了短语“在一实施例中”、“在一个实施例中”和/或“在一些实施例中”。该短语通常不指代同一实施例；然而，它可以指代同一实施例。除非上下文另有说明，否则术语“包括”、“具有”和“包含”是同义词。短语“A或B”和“A/B”表示“(A)、(B)或(A和B)”。

应当理解，在本文中可能使用了序数形容词“第一”、“第二”、“第三”等来提及要素，除非明确指出，否则这仅用于区分不同的要素，而不暗示所提及的要素在时间上，空间上，或其他方面必须是给定的顺序。

此外，还应当理解，在本文中可能使用了词语“大约”或“约”来修饰数值，这表示在本领域的正常容差范围内。例如，“大约”或“约”可以理解为在所修饰的数值的1％范围内。

以下，结合图1～图5对本实用新型的实施例进行说明。

图1示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性立体图。图2示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性分解图。图3示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的移走罩后的示意性俯视图。图4示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的示意性侧视图。图5示出了根据本实用新型的实施例的用于减少零件污染的装置的图1中的虚线框内的局部放大图。

如图所示，本实用新型的用于减少零件污染的装置100可以包括载置台101。载置台101可以用于放置要搬送的零件。在一些实施例中，搬送零件的设备可以是手推车，如图1所示。手推车可以被划分为例如三层，载置台101可以是手推车的一部分(例如，第一层)。在将要搬送的零件放置在载置台101上之后，可以将手推车推送到待维修的设备处，进行零件更换、安装等。手推车的第二层和第三层可以用于放置其他对于环境没有严格要求的物品，例如维修时使用的工具(例如，扳手、钳子等)。应当理解，在上述实施例中，手推车仅仅是用于搬送零件的设备的示例，本实用新型的技术构思不限于应用于手推车，也可以应用于搬送零件的其他设备，并且载置台是该其他设备的用于放置零件的一部分。还应当理解，手推车被示为划分成三层也仅仅是示例，手推车可以具有两层或四层以上，甚至可以仅具有用于放置零件的一层。

用于减少零件污染的装置100还可以包括罩103。罩103形成为中空结构，底部开口，具有顶壁和侧壁。顶壁和侧壁围成罩的内部空间。在所示的实施例中，罩103被示为圆柱体状，但本实用新型不限于此，在其他实施例中，罩103可以呈其他合适的形状(例如，长方体状)。

在一些实施例中，罩103可以由适合于半导体生产线环境要求的材料制成。例如，罩103可以由机械强度良好、耐腐蚀性强和耐燃性强的材料制成。在一些示例中，罩103可以由聚氯乙烯(PVC)材料制成。

此外，在载置台101上形成有凹槽201。凹槽201形成为在俯视时具有与罩103的横截面形状对应的形状。因此，凹槽201在载置台101上形成为封闭图案。在下文中，为了便于描述，将凹槽201在载置台101上包围的区域称为载置区域，要搬送的零件可以放置在载置区域内。更具体地说，当将罩103放置在载置台101上时，可以将罩103的侧壁的底部放置在载置台101上形成的凹槽201内，由此载置台101与罩103形成密闭的空间(以下称为“密闭空间”)，要搬送的零件可以被放置在其内。

应当理解，虽然在所示的实施例中，在载置台101上形成有两个凹槽201，相应地可以放置两个罩103，形成两个密闭空间，但这仅仅是示例，本实用新型不限于此，在其他实施例中，可以在载置台101上形成三个以上的凹槽201，相应地放置三个以上的罩103，形成三个以上的密闭空间，或者在载置台101上仅形成一个凹槽201，相应地放置一个罩103，形成一个密闭空间。

在一些实施例中，在凹槽201内可以设置有密封圈301。当将罩103放置在载置台101上的凹槽201内时，罩103经由侧壁压在密封圈301上，由此防止外部的空气经由罩103的侧壁与凹槽201之间的缝隙进入罩103内，从而实现密封的效果。

在一些实施例中，罩103可以仅依靠自身的重力压紧密封圈301，从而实现密封的效果。在一些其他实施例中，可以在罩103的侧壁和凹槽201分别形成有对应的螺纹，经由螺纹耦合将罩103固定于载置台101上(具体地，凹槽201内)，进一步压紧密封圈，从而实现更好的密封的效果。然而，从安全性的角度来看，仅采用罩自身的重力进行密封是优选的。具体来说，如后面将要叙述地那样，在使用中会向罩103内通入惰性气体(例如，氮气)。如果罩103的密闭空间内的气体压力过大(例如，超过预定值)，则罩103可以被气体稍微“顶”起，在罩103与凹槽201之间形成微小的缝隙，由此气体可以经由该缝隙漏出，从而使罩103内的压力保持在预定值以下。然而，如果采用螺纹耦合或其他方式将罩103固定于载置台101上(具体地，凹槽201内)，则当罩103内的气体压力超过预定值时，气体不会“自动地”排出，此时，若气体压力继续增大，则可能存在罩103突然崩开，对人员、物品等造成伤害的风险。因此，从安全性的角度来看，仅采用罩自身的重力进行密封是优选的。

此外，在载置区域开设有供外部气体进入的供气孔203。供气孔203能够经由配管(在图中示为线条)与外部的气体供给源501连接，由此，可以从外部的气体供给源501向罩内供给惰性气体(例如，氮气(N₂))。在例如要搬送的零件是从设备上卸下的零件的情况下，卸下的零件上有可能存在污染物，在搬送过程中可能因晃动而掉落在载置区域上，如果供气孔203开设在载置区域的中央附近，则存在掉落的污染物堵塞供气孔203的风险。因此，从防止供气孔203污染的观点来看，供气孔203在载置区域内的开设位置优选在载置区域的周缘附近(即，在载置区域的靠近凹槽201的部分)。在这种情况下，能够放置零件的实际区域(以下，有时称为“实放区域”)比凹槽201包围的区域(即，载置区域)小，也就是说，在载置区域的周缘附近不放置零件。

此外，在罩103开设有供罩内的气体排出的排气孔105。例如，当从外部气体供给源501经由供气孔203向罩103内通入氮气时，罩103内的空气被氮气“挤”出，从排气孔105排出到外部。也就是说，当向罩103内通入一段时间的氮气时，罩103内将基本充满氮气而没有空气，于是，放置在罩内的要搬送的零件将处于氮气气氛保护下，由此，能够减少零件的污染。

排气孔105在罩103的开设位置没有特别限制，但从将罩103内的空气良好地排出到外部的观点来看，优选将排气孔105开设在罩103的顶壁的中央。

此外，由于要搬送的零件被罩103覆盖，因此与将零件敞开放置在载置台101上相比，能够避免零件在搬送期间例如被工作人员无意中触碰，由此，能够进一步减少零件的污染。

在一些实施例中，在排气孔105安装有第一阀107。第一阀可以是单向阀，由此能够实现气体的单向流动。换句话说，当从外部气体供给源501向罩103内通入氮气时，罩103内的空气经由排气孔105被排出到罩103的外部，但是由于是单向阀，罩103的外部的空气不会经由排气孔105流入到罩103内，由此，能够保持罩内的氮气气氛。

在一些实施例中，第一阀107可以具有调节功能，用于调节排气速率的大小。

在一些实施例中，在连接供气孔203与气体供给源501的配管上设置有第二阀109。第二阀109可以是减压阀，用于将气体供给源501中储存的高压气体减压到规定的压力，以便经由供气孔203供给到罩103内。同样地，第二阀109可以具有调节功能，用于调节供气速率的大小。

当供气速率大于排气速率时，罩103内的气体压力会逐渐增大。如上述那样，通过设置为仅采用罩自身的重力进行密封的构成，若压力超过预定值，则罩可以被气体稍微“顶”起，在罩与凹槽之间形成微小的缝隙，由此气体可以经由该缝隙漏出，从而使罩内的压力保持在预定值以下。

在一些实施例中，在第二阀109与供气孔203之间还可以设置有第三阀111。第三阀111可以是手阀，用于控制向罩内供给/停止供给氮气。

应当理解，虽然在所示的实施例中，两个供气孔203各自连接有单独的第三阀111(例如，手阀)，继而经由共同的第二阀109(例如，减压阀)连接到气体供给源501，但这仅仅是示例，在其他实施例中可以是其他构成。例如，每个供气孔203经由各自的第二阀109和第三阀111连接到气体供给源501。在这些实施例中的一些其他实施例中，第二阀109和第三阀111的位置可以交换。在这些实施例的又一些其他实施例中，可以仅使用一个阀代替第二阀和第三阀。

在一些实施例中，在载置区域可以形成有收纳槽205。在一些示例中，收纳槽205可以是从载置区域上突起的卡槽。收纳槽可以用于例如收纳带有线束的零件。例如，当将带有线束的零件放置在载置区域内时，可以将零件的线束收纳于在载置区域内形成的收纳槽205中，由此能够避免线束散乱地放置在载置区域内而被损坏。

应当理解，虽然在所示的实施例中仅示出一个收纳槽205，但这仅仅是示例，在其他实施例中，可以根据需要在载置区域形成有两个以上的收纳槽205。另外，从最大化能够放置零件的区域(即，实放区域)的观点来看，收纳槽205的形成位置优选在载置区域的周缘附近(即，载置区域的靠近凹槽201的部分)。也就是说，在载置区域的周缘附近不放置零件。在这种情况下，供气孔203可以开设在收纳槽205附近，以最大化能够放置零件的区域，但本实用新型的范围不限于此。

在一些实施例中，在罩103的侧壁或顶壁可以形成有一个或多个把手113，用于方便抬起、搬送罩103等操作。

以下，简要说明本实用新型的用于减少零件污染的装置的使用。

在使用时，将要搬送的零件放置在载置台上的载置区域内之后，合上罩。接着，将配管连接到外部的气体供给源。然后，打开阀(例如，上面提到的减压阀和手阀)，向罩内通入氮气一段时间。接着，关闭阀，将配管与气体供给源断开。此时，罩内成为氮气气氛。之后，将零件搬送到指定的设备处。

根据本实用新型的用于减少零件污染的装置，能够为零件在搬送过程中提供惰性气氛以避免污染，同时能够避免操作人员无意中触碰到零件。该装置易于操作，安全性高，应用广泛，且成本低。

应当理解，虽然针对特定实施例描述了本实用新型，但是本领域技术人员在阅读说明书后，可以对其中的一个或多个特征进行修改，而不超出本实用新型的精神和范围。因此，本说明书并不意在限制本实用新型。相反，仅根据所附权利要求及其等同物限定本实用新型的范围。

Claims (10)

1.一种用于减少零件污染的装置，其特征在于，包括：

载置台，所述零件能够被载置于所述载置台上；和

底部开口的罩，具有顶壁和侧壁；

其中，在所述载置台上形成有在俯视时形状与所述罩的底部相同的凹槽，使得能够将所述罩的侧壁的底部放置于所述凹槽内，

其中，在所述凹槽所包围的载置区域内开设有供气体进入的第一孔，并且

其中，在所述罩开设有供气体排出的第二孔。

2.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述凹槽内设置有密封圈。

3.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

所述第一孔位于所述载置区域内的靠近所述凹槽的部分。

4.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述第二孔安装有仅允许气体从所述罩的内部流到外部的第一阀。

5.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述第一孔连接有配管，所述配管能够连接到外部的气体供给源。

6.根据权利要求5所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述配管设置有用于对来自所述气体供给源的气体进行减压的第二阀。

7.根据权利要求5所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述配管设置有用于打开和关断所述配管的第三阀。

8.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述载置区域内的靠近所述凹槽的部分设置有用于收纳所述零件的线束的收纳槽。

9.根据权利要求8所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

所述第一孔位于所述收纳槽附近。

10.根据权利要求1所述的用于减少零件污染的装置，其特征在于：

在所述罩形成有一个或多个把手。