CN220387004U - 一种流量调节机构、供料装置及涂布机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及涂布技术领域,提供了一种流量调节机构、供料装置及涂布机,其中流量调节机构适于安装在供料装置上,该供料装置具有料槽,流量调节机构包括:至少一进料件,具有进料通道,进料通道与料槽连通;至少一回料件,具有回料通道,回料通道与料槽连通;调节组件,包括进料调节件和回料调节件,在进料通道上设置至少一进料调节件,在回料通道上设置至少一回料调节件,通过对进入到料槽内的液料的进料流量和回料流量进行调节,且利用进料调节件和回料调节件将进料流量设置大于回料流量,从而料槽内的液料在料槽内是均匀且持续的流动,避免了液料的沉积。
Description
技术领域
本实用新型涉及涂布技术领域,具体涉及一种流量调节机构、供料装置及涂布机。
背景技术
锂电池极片生产过程中,需要在极片基材上涂布浆料,涂布方式包括狭缝涂布和微凹涂布,其中,微凹涂布作为一种接触式涂布技术,其工作原理为,在涂布料槽的一侧设置微凹辊,利用微凹辊将液料由涂布料槽转移导到基材上。
现有技术中采用人工控制向料槽内输入液料的速度以及液料回料的速度,有时进料量会大于回料量,工作人员会停止向料槽内进料,由于液体流速的问题,位于料槽内的液料会发生沉积,导致液料不均匀,将导致涂布效果不佳的情况发生,有时候会出现回料量大于进料量,导致料槽内的液料无法充满,进而发生向微凹涂布辊供料不足的情况,影响基材的整体涂布效果。
实用新型内容
因此,本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中,采用人工控制向料槽内输入液料的速度以及液料回料的速度,有时进料量会大于回料量,工作人员会停止向料槽内进料,由于液体流速的问题,位于料槽内的液料会发生沉积,导致液料不均匀,将导致涂布效果不佳的情况发生,有时候会出现回料量大于进料量,导致料槽内的液料无法充满,进而发生向微凹涂布辊供料不足的情况,影响基材的整体涂布效果的缺陷,从而提供一种流量调节机构、供料装置及涂布机。
一种流量调节机构,适于安装在供料装置上,所述供料装置具有料槽,所述流量调节机构包括:至少一进料件,具有进料通道,所述进料通道与所述料槽连通;至少一回料件,具有回料通道,所述回料通道与所述料槽连通;调节组件,包括进料调节件和回料调节件,在所述进料通道上设置至少一所述进料调节件,在所述回料通道上设置至少一所述回料调节件;任一所述进料调节件适于对从所述进料通道进入所述料槽内的进料流量进行调节,任一所述回料调节件适于对从所述料槽进入所述回料通道内的回料流量进行调节;其中,所述进料流量大于所述回料流量。
可选地,上述流量调节机构中,所述料槽具有若干液料入口;所述进料通道具有与所述液料入口一一对应的进料出口,任一所述进料出口与所述液料入口连接,以使所述进料通道与所述料槽连通。
可选地,上述流量调节机构中,所述料槽具有若干液料出口;所述回料通道具有与所述液料出口一一对应的回料入口,所述回料入口与所述液料出口连接,以使所述回料通道与所述料槽连通。
可选地,上述流量调节机构中,任一所述进料通道包括若干进料子通道,所述进料子通道的通道出口作为所述进料出口,在任一所述进料子通道上设置至少一所述进料调节件。
可选地,上述流量调节机构中,任一所述回料通道包括若干回料子通道,所述回料子通道的通道入口作为所述回料入口,在任一所述回料子通道上设置至少一所述回料调节件。
可选地,上述流量调节机构中,所述回料通道包括至少一第一回料子通道以及至少一第二回料子通道,其中,所述第一回料子通道位于所述料槽的中部区域内,任一所述第二回料子通道位于所述中部区域外;所述第一回料子通道的第一回料流量小于所述第二回料子通道的第二回料流量。
可选地,上述流量调节机构中,所述进料调节件和/或所述回料调节件采用液体比例阀。
可选地,上述流量调节机构中,所述流量调节机构的调节组件还包括流量检测件,在所述进料通道和所述回料通道上均设置一流量检测件,所述流量检测件适于对应检测进料流量和回料流量。
可选地,上述流量调节机构中,所述流量检测件采用夹钳式流量传感器。
一种供料装置,包括:流量调节机构,所述流量调节机构如上所述的流量调节机构。
可选地,上述供料装置中,还包括:料槽本体和微凹涂布辊,二者抵接设置以形成封闭料槽,在所述料槽本体上开设液料入口和液料出口,自所述料槽本体的第一端朝向第二端,所述液料入口与所述液料出口一一相对设置;所述液料入口和所述液料出口供液料自下而上通过所述料槽。
一种涂布机,包括供料装置,所述供料装置为如上所述的涂布料槽。
本实用新型技术方案,具有如下优点:
1.本实用新型提供的一种流量调节机构,适于安装在供料装置上,所述供料装置具有料槽,所述流量调节机构包括:至少一进料件,具有进料通道,所述进料通道与所述料槽连通;至少一回料件,具有回料通道,所述回料通道与所述料槽连通;调节组件,包括进料调节件和回料调节件,在所述进料通道上设置至少一所述进料调节件,在所述回料通道上设置至少一所述回料调节件;任一所述进料调节件适于对从所述进料通道进入所述料槽内的进料流量进行调节,任一所述回料调节件适于对从所述料槽进入所述回料通道内的回料流量进行调节;其中,所述进料流量大于所述回料流量。
此结构的流量调节机构中,通过设置进料件和回料件,且二者分别具有的进料通道与回料通道分别与涂布模头的料槽连通设置,然后在进料通道和回料通道上均分别设置进料调节件和回料调节件,能够对进入到料槽内的液料的进料流量和回料流量进行调节,且利用进料调节件和回料调节件将进料流量设置大于回料流量,从而料槽内的液料在料槽内是均匀且持续的流动,避免了液料的沉积,同时料槽内的液料也是充盈的状态,实现对微凹涂布辊持续且均匀供料的效果,有效保证了后续基材的涂布效果,克服了现有技术中,采用人工控制向料槽内输入液料的速度以及液料回料的速度,有时进料量会大于回料量,工作人员会停止向料槽内进料,由于液体流速的问题,位于料槽内的液料会发生沉积,导致液料不均匀,将导致涂布效果不佳的情况发生,有时候会出现回料量大于进料量,导致料槽内的液料无法充满,进而发生向微凹涂布辊供料不足的情况,影响基材的整体涂布效果的缺陷。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的第一种实施方式中提供的供料装置与流量调节机构的安装结构示意图;
图2为进料调节件、回料调节件和流量检测件设置在进料件和回料件上的位置结构示意图;
图3为图1所示的剖面结构示意图;
图4为第一回料子通道和第二回料子通道的位置结构示意图;
图5为本实用新型第三种实施方式中提供的驱动气缸与料槽本体流量调节机构的连接结构示意图;
图6为膜厚检测件与微凹涂布辊的位置结构示意图;
附图标记说明:
100、料槽本体;200、流量调节机构;300、微凹涂布辊;400、刮刀;
1、料槽;101、液料入口;102、液料出口;
2、进料件;201、进料通道;2011、进料子通道;202、进料出口;
3、回料件;301、回料通道;3011、回料子通道;302、回料入口;303、第一回料子通道;304、第二回料子通道;
4、调节组件;401、进料调节件;402、回料调节件;403、流量检测件;404、膜厚检测件;
500、驱动气缸。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
此外,下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1
本实施例记载了一种流量调节机构200,参见图1-图5,该流量调节机构200适于安装在供料装置上,且该供料装置具有料槽1,该流量调节机构200包括进料件2和回料件3以及调节组件4,其中,该进料件2具有进料通道201,该进料通道201与料槽1连通,该回料件3具有回料通道301,该回料通道301与料槽1连通,该调节组件4包括进料调节件401和回料调节件402,在进料通道201上设置至少一个进料调节件401,任一个回料调节件402设置在回料通道301上,任一个进料调节件401适于对从进料通道201进入到料槽1内的进料流量进行调节,任一个回料调节件402适于对从料槽1沿进入到回料通道301内的回料流量进行调节,其中,将进料流量设置大于回料流量。
通过设置进料件2和回料件3,且二者分别具有的进料通道201与回料通道301分别与涂布模头的料槽1连通设置,然后在进料通道201和回料通道301上均分别设置进料调节件401和回料调节件402,能够对进入到料槽1内的液料的进料流量和回料流量进行调节,且利用进料调节件401和回料调节件402将进料流量设置大于回料流量,从而料槽1内的液料在料槽1内是均匀且持续的流动,避免了液料的沉积,同时料槽1内的液料也是充盈的状态,实现对微凹涂布辊持续且均匀供料的效果,有效保证了后续基材的涂布效果。
在具体使用时,设置在涂布模头上的进料件2和回料件3可以设置为一个,也可以设置为多个,具体的数量根据实际的使用进行设置。
本实施例中的料槽1具有若干液料入口101,上述进料通道201具有与液料入口101一一对应的进料出口202,任一个进料出口202与液料入口101连接,以使进料通道201与料槽1连通,料源与进料通道201的进料入口连通,料源内的液料沿着进料入口进入到进料通道201内,然后从进料出口202输送到料槽1内。
本实施例中的料槽1同时具有若干液料出口102,上述回料通道301具有与液料出口102一一对应的回料入口302,该回料入口302与液料出口102连接,以使回料通道301与料槽1连通,料槽1内的液料沿着液料出口102进入到回料通道301内。
该液料入口101和液料出口102供液料自下而上通过料槽1,采用液料自下而上的供料方式,能够使得位于料槽1底部的液料处于持续流动的状态。
本实施例中,为了实现料源向料槽1的各个位置输送液料的同时对各个位置的流量进行调节,上述任一个进料通道201包括若干进料子通道2011,将该进料子通道2011的通道出口作为一个进料出口202,进料出口202与液料入口101对应设置,以使得任一个进料子通道2011与料槽1连通设置,同时,在任一个进料子通道2011上设置一个或多个进料调节件401,实现料源向料槽1的各个位置输送液料的同时对各个位置的流量进行调节的效果。
本实施例中,为了实现料槽1的各个位置在回料的过程中对回料流量的调节,上述回料通道301包括若干回料子通道3011,将该回料子通道3011的通道入口作为回料入口302,在任一个回料子通道3011上设置一个或者多个回料调节件402,实现料槽1的各个位置在回料的过程中对回料流量的调节的效果。
本实施例中的所有的进料子通道2011与料源之间共用一个进料入口,所有的回料子通道3011共用一个回料出口。
本实施例中,沿料槽的长度方向将料槽均分为三段,位于中间的一段进料区域定义为中部区域,为了满足实际料槽1的中部区域的液料的供给,上述回料通道301包括至少一个第一回料子通道303和至少一个第二回料子通道304,其中该第一回料子通道303与中部区域的料槽1连通,第二回料子通道304与中部区域以外的料槽连通,将该第一回料子通道303的第一回料流量设置小于第二回料子通道304的第二回料流量,从而实现料槽1的中部区域相对其以外的区域能够少回一些液料,进而满足中部区域的料槽的较大液料量的使用需求。
参见图4,本实施例中设置有四个回料子通道3011,相对设置在供料装置上,其中,中间两个回料子通道3011作为两个第一回料子通道303,设置在中部区域内,两侧的回料子通道3011作为两个第二回料子通道304,任一个第一回料子通道303的回料流量小于任一个第二回料子通道304的回料流量。
在实际使用时,上述进料调节件401与述回料调节件402可以采用液体比例阀。
为了检测进料通道201和回料通道301的实际流量,上述调节组件4还包括流量检测件403,在进料通道201和回料通道301上均设置一流量检测件403,该流量检测件403适于对应检测进料流量和回料流量,参见图2,可以在任一个进料子通道2011和回料子通道3011上均设置一个流量检测件403,该流量检测件403采用夹钳式流量传感器,夹持在对应的通道上。
本实施例中的进料件2和回料件3均采用管件设置。
实施例2:
本实施例记载了一种供料装置,参见图1,包括流量调节机构200,该流量调节机构200为实施例1中记载的流量调节机构200。
由于本实施例中的供料装置采用了实施例1中记载的流量调节机构200,因此具有实施例1中记载的流量调节机构200的所有的有益效果,且该供料装置在实际使用时,液料不会沉积在料槽1内。
本实施例中的供料装置还包括料槽本体100、微凹涂布辊300和刮刀400,刮刀400的一端连接在料槽本体100上,另一端与微凹涂布辊300抵接,从而形成封闭料槽1,在料槽本体100上开设液料入口101和液料出口102,自料槽本体100的第一端朝向第二端,该液料入口101与液料出口102一一相对设置,该液料入口101和液料出口102供液料自下而上通过料槽1,采用液料自下而上的供料方式,能够使得位于料槽1底部的液料处于持续流动的状态,保证该供料装置在向基材供液料的过程中,基材上形成的镀膜液料分布的均匀性。
本实施例中的料槽本体100与涂布辊之间的抵接程度可以进行调节,具体可是设置为,在料槽本体100的两端均设置驱动气缸500,利用驱动气缸500驱动料槽本体100相对于微凹涂布辊300之间的距离,进而调整二者之间的抵接程度,保证料槽1的密封。
本实施例中,所述调节组件4还包括膜厚检测件404,参见图6,该膜厚检测件404设置在微凹涂布辊300上相对料槽本体100的一侧,在基材经过微凹涂布辊300的涂布液料后,该膜厚检测件404能够对基材的镀膜厚度进行测量,在实际使用时,该膜厚检测件404可以采用S I-T1000系列型号的多架膜厚测量仪。
实施例3:
本实施例记载了一种涂布机,包括供料装置,该供料装置为如实施例2中所述的供料装置。
由于本实施例中的涂布机采用了实施例2中记载的供料装置,因此具有实施例1中记载的供料装置的所有的有益效果,且该涂布机在实际使用时,涂布效果好。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。
Claims (13)
1.一种流量调节机构,其特征在于,适于安装在供料装置上,所述供料装置具有料槽(1),所述流量调节机构包括:
至少一进料件(2),具有进料通道(201),所述进料通道(201)与所述料槽(1)连通;
至少一回料件(3),具有回料通道(301),所述回料通道(301)与所述料槽(1)连通;
调节组件(4),包括进料调节件(401)和回料调节件(402),在所述进料通道(201)上设置至少一所述进料调节件(401),在所述回料通道(301)上设置至少一所述回料调节件(402);
任一所述进料调节件(401)适于对从所述进料通道(201)进入所述料槽(1)内的进料流量进行调节,任一所述回料调节件(402)适于对从所述料槽(1)进入所述回料通道(301)内的回料流量进行调节;
其中,所述进料流量大于所述回料流量。
2.根据权利要求1所述的流量调节机构,其特征在于,所述料槽(1)具有若干液料入口(101);
所述进料通道(201)具有与所述液料入口(101)一一对应的进料出口(202),任一所述进料出口(202)与所述液料入口(101)连接,以使所述进料通道(201)与所述料槽(1)连通。
3.根据权利要求2所述的流量调节机构,其特征在于,所述料槽(1)具有若干液料出口(102);
所述回料通道(301)具有与所述液料出口(102)一一对应的回料入口(302),所述回料入口(302)与所述液料出口(102)连接,以使所述回料通道(301)与所述料槽(1)连通。
4.根据权利要求3所述的流量调节机构,其特征在于,任一所述进料通道(201)包括若干进料子通道(2011),所述进料子通道(2011)的通道出口作为所述进料出口(202),在任一所述进料子通道(2011)上设置至少一所述进料调节件(401)。
5.根据权利要求4所述的流量调节机构,其特征在于,任一所述回料通道(301)包括若干回料子通道(3011),所述回料子通道(3011)的通道入口作为所述回料入口(302),在任一所述回料子通道(3011)上设置至少一所述回料调节件(402)。
6.根据权利要求5所述的流量调节机构,其特征在于,所述回料通道(301)包括至少一第一回料子通道(303)以及至少一第二回料子通道(304),其中,所述第一回料子通道(303)位于所述料槽的中部区域内,任一所述第二回料子通道(304)位于所述中部区域外;
所述第一回料子通道(303)的第一回料流量小于所述第二回料子通道(304)的第二回料流量。
7.根据权利要求1-6任一项所述的流量调节机构,其特征在于,所述进料调节件(401)和/或所述回料调节件(402)采用液体比例阀。
8.根据权利要求7所述的流量调节机构,其特征在于,所述调节组件(4)还包括流量检测件(403),在所述进料通道(201)和所述回料通道(301)上均设置一流量检测件(403),所述流量检测件(403)适于对应检测进料流量和回料流量。
9.根据权利要求8所述的流量调节机构,其特征在于,所述流量检测件(403)采用夹钳式流量传感器。
10.一种供料装置,其特征在于,包括:
流量调节机构(200),所述流量调节机构为权利要求1-9任一项所述的流量调节机构。
11.根据权利要求10所述的供料装置,其特征在于,还包括:
料槽本体(100)、微凹涂布辊(300)和刮刀(400),适于形成料槽(1),在所述料槽本体(100)上开设液料入口(101)和液料出口(102),自所述料槽本体(100)的第一端朝向第二端,所述液料入口(101)与所述液料出口(102)一一相对设置;
所述液料入口(101)和所述液料出口(102)供液料自下而上通过所述料槽(1)。
12.根据权利要求11所述的供料装置,其特征在于,所述流量调节机构(200)的调节组件(4)还包括至少一膜厚检测件(404),其中至少一所述膜厚检测件(404)设置在所述微凹涂布辊(300)的一侧,适于对基材的镀膜厚度进行测量。
13.一种涂布机,其特征在于,包括供料装置,所述供料装置为权利要求10-12任一项所述的供料装置。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |