CN220300921U - 碳化硅沉积炉 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种碳化硅沉积炉，涉及气相沉积炉领域，包括炉体和设于炉体中的支承件，所述支承件包括两块对称设置的支承块和连接两块支承块的连接杆，两块所述支承块的相对面各设有两根对称设置的三角形截面的支承杆；所述炉体的顶部设有炉盖，所述炉体的底部设有进气孔。本实用新型的碳化硅沉积炉，支撑基底时对基底的外表面遮挡较少，对产品质量影响较小，适用于多种形状的基体。
Description
技术领域
本实用新型涉及气相沉积炉领域，特别是涉及一种碳化硅沉积炉。
背景技术
沉积炉是一种常用于半导体制造工艺中的设备，用于在基底上沉积优异性能的薄膜材料，使得基底获得更好的表面质量效果。现有的沉积炉在沉积碳化硅时，支撑基底的支撑平台往往会遮挡基底外表面较大的一部分，对产品的质量影响较大，现有技术中虽存在针对管状基体的支撑结构来减少对质量的影响，但其结构较复杂，且针对性较强，对其他形状的基体不太适用。
实用新型内容
针对上述问题，本实用新型提供了一种碳化硅沉积炉，支撑基底时对基底的外表面遮挡较少，对产品质量影响较小，适用于多种形状的基体。
本实用新型的技术方案如下：
一种碳化硅沉积炉，包括炉体和设于炉体中的支承件，所述支承件包括两块对称设置的支承块和连接两块支承块的连接杆，两块所述支承块的相对面各设有两根对称设置的三角形截面的支承杆；所述炉体的顶部设有炉盖，所述炉体的底部设有进气孔。
在进一步的技术方案中，每个所述支承块上分别设有连接其中一根支承杆的活动件，所述活动件的活动方向水平。
在进一步的技术方案中，所述活动件包括活动块和螺纹杆，所述支承块中部设有供活动块滑动的通槽，所述支承块的一侧设有连通通槽的螺纹孔，所述螺纹杆穿过螺纹孔与活动块可旋转的连接，所述活动块与其中一根支承杆的端部连接。
在进一步的技术方案中，所述炉体的内侧底部设有用于支撑支承件的支脚。
在进一步的技术方案中，所述支脚包括至少四个，分别设于支承块的底部周围。
在进一步的技术方案中，所述支承块的底部设有与支脚数量相同且可配合连接支脚的连接孔。
本实用新型的有益效果是：
1、在炉体内设置带三角形截面支承杆的支承件，结构简单，放置基底时，支承杆可以线接触的方式接触支撑基底的底部四周，若为管状的基底，可支撑基底的内侧，减少对基底外表面的接触，对产品质量影响较小；
2、支承块上的其中一根支承杆可相对另一根活动，可根据基底的尺寸调节两根支承杆之间的距离；
3、支承块的底部设有支脚，为进气孔引入的沉积源提供足够的沉积空间，同时支承块的底部设置连接孔连接支脚，保证支承块平稳放置。
附图说明
图1是本实用新型实施例所述碳化硅沉积炉的剖面示意图；
图2是本实用新型实施例所述支承块的结构示意图；
图3是本实用新型实施例所述支承件的仰视示意图。
附图标记说明：
10、炉体；11、炉盖；12、支脚；20、支承块；21、通槽；22、螺纹杆；23、活动块；24、连接孔；30、连接杆；40、支承杆。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的实施例作进一步说明。
实施例：
如图1-图3所示，一种碳化硅沉积炉，包括炉体10和设于炉体10中的支承件，支承件用于支撑不同形状的基底，包括两块对称设置的支承块20和连接两块支承块20的连接杆30，两块支承块20的相对面各设有两根对称设置的支承杆40，支承杆40可选用直角三角形截面的杆，该支承杆40截面的直角边所对应的面分别处于竖直和水平，且水平面处于底部，两根支承杆40截面斜边所对应的一面处于两支承杆40相对的一侧；炉体10的顶部设有炉盖11，炉体10的底部设有便于引入沉积源管道的进气孔；此外，炉体10的内侧底部设有用于支撑支承件的支脚12，为进气孔引入的沉积源提供足够的沉积空间。
上述技术方案的工作原理如下：
该碳化硅沉积炉在使用前，先将待沉积的基底放置在支承杆40上，若为块状基底，四根支承杆40的末端可分别支撑基底的底部四周，由于支承杆40为直角三角形截面的杆，顶侧为支承杆40截面的一角对应的一侧，支撑基底时以线接触的方式支撑，此外方形的块状基底，还可依靠支承杆40斜面以线接触的方式支撑基底底部四周的侧边，若为管状的基底，则可将支承杆40插入管状基底的内侧，同样以线接触的方式支撑基底；采用上述几种方式放置好基底后，则可将支承件整体置入炉体10的支脚12上，关闭炉盖11，利用现有的方式通过进气孔伸入管道，引入碳化硅的沉积源，利用现有设备调整炉内参数在基底上形成碳化硅薄膜。
在另外一个实施例中，如图2-3所示，每个支承块20上分别设有连接其中一根支承杆40的活动件，活动件包括活动块23和螺纹杆22，支承块20中部设有供活动块23滑动的通槽21，支承块20的一侧设有连通通槽21的螺纹孔，螺纹杆22的末端为无螺纹的圆柱，该部分的中部设有一圈小于圆柱直径的环形凹陷，而活动块23对应螺纹孔的一侧设有圆柱状的凹槽，凹槽中部设有一圈环形凸起，螺纹杆22的末端设置在凹槽中，且环形凸起嵌入环形凹槽，通过此方式实现螺纹杆22穿过螺纹孔与活动块23可旋转的连接，活动块23的其中一根支承杆40的端部连接。需要调节两根支承杆40的间距时，可旋转螺纹杆22，推动活动块23在通槽21中滑动，调节其中一根支承杆40的位置，便于支撑不同尺寸的基底。
在另外一个实施例中，如图1和图3所示，支脚12可设置四个，分别对应支承件的底部四周，支承块20的底部两侧分别设置两个连接孔24，安装支承件时，支脚12插入连接孔24设置，保证支承块20平稳放置。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种碳化硅沉积炉，其特征在于，包括炉体和设于炉体中的支承件，所述支承件包括两块对称设置的支承块和连接两块支承块的连接杆，两块所述支承块的相对面各设有两根对称设置的三角形截面的支承杆；所述炉体的顶部设有炉盖，所述炉体的底部设有进气孔。
2.根据权利要求1所述的碳化硅沉积炉，其特征在于，每个所述支承块上分别设有连接其中一根支承杆的活动件，所述活动件的活动方向水平。
3.根据权利要求2所述的碳化硅沉积炉，其特征在于，所述活动件包括活动块和螺纹杆，所述支承块中部设有供活动块滑动的通槽，所述支承块的一侧设有连通通槽的螺纹孔，所述螺纹杆穿过螺纹孔与活动块可旋转的连接，所述活动块与其中一根支承杆的端部连接。
4.根据权利要求1所述的碳化硅沉积炉，其特征在于，所述炉体的内侧底部设有用于支撑支承件的支脚。
5.根据权利要求4所述的碳化硅沉积炉，其特征在于，所述支脚包括至少四个，分别设于支承块的底部周围。
6.根据权利要求5所述的碳化硅沉积炉，其特征在于，所述支承块的底部设有与支脚数量相同且可配合连接支脚的连接孔。
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