CN220254734U - 一种射流旋喷枪喷嘴 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种射流旋喷枪喷嘴，包括喷嘴本体，在喷嘴本体内设置有等离子通道，在喷嘴本体头部设置有等离子喷出孔，等离子喷出孔与等离子通道连通，所述等离子通道以外的喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。由于在喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。工作时，喷嘴本体旋转使等离子体形成一射流面，而两个散热凹槽与喷嘴本体形成的涡轮结构能够在旋转的时候像风扇一样产生风力，从而冷却喷嘴。提高了喷嘴的使用寿命，同时也能够对处理的材质进行高效率的清洁。
Description
技术领域
本实用新型属于等离子表面处理技术领域，具体地说涉及一种低温等离子射流旋喷枪的喷头装置。
背景技术
低温等离子是气体被高压电场击穿后产生的一种物质，低温等离子中含有大量的电子、离子、各种活性基团，因为正负电荷一样，并且温度较低，所以称为低温等离子体。低温等离子体具有微观很高的能量和活性，能够用来处理材料的表面，达到清洁、刻蚀、改性、增加附着力等目的。
目前低温等离子在市场上应用最广泛的是3C产业，比如，各种屏幕生产制造和应用过程中，都需要表面的清洁和增大附着力，用低温等离子处理过后，屏幕表面的灰尘、指纹、氧化物等等都会被清洗掉，而且，经过等离子清洗之后，屏幕表面的附着力增大，有利于后续的粘合、覆膜等工序。还有很多芯片制造过程中需要用到低温等离子的，比如芯片在封装之前，都会对芯片的引脚进行处理，因为这些引脚上可能会有灰尘、氧化物等存在，如果不处理直接封装，可能会与封装的材质之间形成气泡、空洞等不牢靠的现象，在封装之前用等离子处理过后，引脚表面的杂物会被清洗掉，并且引脚表面的附着力提高，有利于和封装的材料更紧密的结合。
低温等离子在3C行业的应用比较广泛，产生低温等离子的方式也有多种，其中射流旋喷放电是最常见的方式之一。市面上主流的射流旋喷方式放电结构是电动马达带着射流选喷枪的外电极旋转，传动方式是皮带轮。另外，市面上主流的射流旋喷枪的喷头主要结构如图1所示，除了等离子通道和喷出孔外，其他地方都是实心的，在高温等离子体经由等离子通道最后由喷出孔喷出时，高温等离子体从喷嘴的安装端到喷出孔端经由整体喷嘴体的实心部分，从而导致整个喷嘴温度较高，而经过喷嘴的等离子体也会随着工作时间的增长温度随之变高，温度过高可能会烧坏被处理的材质。
发明内容
针对上述不足，本实用新型提供一种射流旋喷枪喷嘴，该结构模仿风扇的涡轮形状，在旋转的过程中能够带来气流散热，从而保证喷嘴的温度不至于过高。另外还在喷嘴外表面设置散热槽，进而由外部对喷嘴进行散热，保证温度不会过高。
本实用新型的目的通过以下述技术方案来实现：
一种射流旋喷枪喷嘴，包括喷嘴本体，在喷嘴本体内设置有等离子通道，在喷嘴本体头部设置有等离子喷出孔，等离子喷出孔与等离子通道连通，所述等离子通道以外的喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。
所述的射流旋喷枪喷嘴，所述两个散热凹槽与等离子喷出孔呈对称分布。
所述的射流旋喷枪喷嘴，靠近等离子喷出孔的凹槽为阶梯状凹槽。
所述的射流旋喷枪喷嘴，所述喷嘴本体上表面上设置有散热槽。
所述的射流旋喷枪喷嘴，所述散热槽为螺旋散热槽。
相对于现有技术，本实用新型有以下技术效果：
由于在喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽3，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。在工作时，喷嘴本体旋转使等离子体形成一射流面，而两个散热凹槽与喷嘴本体形成的涡轮结构能够在旋转的时候像风扇一样产生风力，从而冷却喷嘴。提高了喷嘴的使用寿命，同时也能够对处理的材质进行高效率的清洁。另外，在喷嘴体体外表面设置螺旋散热槽，进一步对喷嘴本体进行散热，达到内外双重散热的效果。
附图说明
图1是目前常用的旋喷枪喷嘴结构示意图。
图2是本实用新型喷嘴结构示意图。
图3是本实用新型喷嘴截面图。
具体实施方式
如附图2和附图3所示，一种射流旋喷枪喷嘴，包括喷嘴本体2，在喷嘴本体内设置有等离子通道6，在喷嘴本体头部设置有等离子喷出孔4，等离子喷出孔4与等离子通道6连通，所述等离子通道以外的喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽3，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。在工作时，喷嘴本体旋转使等离子体形成一射流面，而两个散热凹槽与喷嘴本体形成的涡轮结构能够在旋转的时候像风扇一样产生风力，从而冷却喷嘴。
所述的射流旋喷枪喷嘴，所述两个散热凹槽之间由平衡支撑部5及等离子通道部隔开，且两个散热凹槽与等离子喷出孔呈对称分布。由于喷嘴是随着等离子转轴一起旋转的，因此，散热凹槽、等离子喷出孔、平衡支撑部、及等离子通道的设置是相互配合的，以在旋转过程中能够保证喷嘴平衡为准。
所述的射流旋喷枪喷嘴，靠近等离子喷出孔的凹槽为阶梯状凹槽。以方便减轻整个喷嘴的重量，但是需要保证喷嘴的平衡。
所述的射流旋喷枪喷嘴，所述喷嘴本体上表面上设置有散热槽1，散热槽为螺旋散热槽，这个螺旋散热槽的设置主要能够使低温等离子射流喷枪喷嘴的本体外表面散热。当然，另一方面也能起到减重的目的。
本实用新型的工作过程如下：
首先，在工作时，将本实用新型安装到等离子发生器上，启动等离子发生器，则喷嘴开始旋转，喷出的等离子体对处理的材质进行清洁。同时，由于在喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽3，两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。喷嘴本体旋转使等离子体形成一射流面，而两个散热凹槽与喷嘴本体形成的涡轮结构能够在旋转的时候像风扇一样产生风力，从而冷却喷嘴。提高了喷嘴的使用寿命。另一方面，也能够对处理的材质进行高效率的清洁。另外，在喷嘴体体外表面设置螺旋散热槽，进一步对喷嘴本体进行散热，达到内外双重散热的效果。
以上所述的仅是实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型整体构思前提下，还可以作出若干改变和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种射流旋喷枪喷嘴，包括喷嘴本体（2），在喷嘴本体内设置有等离子通道（6），在喷嘴本体头部设置有等离子喷出孔（4），等离子喷出孔（4）与等离子通道（6）连通，其特征在于：所述等离子通道以外的喷嘴本体上挖设有两个散热凹槽（3），两个散热凹槽与喷嘴本体形成涡轮结构。
2.根据权利要求1所述的射流旋喷枪喷嘴，其特征在于：所述两个散热凹槽与等离子喷出孔呈对称分布。
3.根据权利要求2所述的射流旋喷枪喷嘴，其特征在于：靠近等离子喷出孔的凹槽为阶梯状凹槽。
4.根据权利要求1所述的射流旋喷枪喷嘴，其特征在于：所述喷嘴本体上表面上设置有散热槽（1）。
5.根据权利要求4所述的射流旋喷枪喷嘴，其特征在于：所述散热槽（1）为螺旋散热槽。
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