CN220143391U - 一种dmc生产用立式反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于化工原料生产设备技术领域，尤其是一种DMC生产用立式反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体顶部固定安装有防护箱，防护箱底部内壁固定安装有正反转电机，正反转电机输出轴与防护箱顶部内壁转动连接，反应釜本体两侧内壁滑动安装有升降板，防护箱与升降板之间设置有升降机构。本实用新型设计合理，通过设置有搅拌机构和第一清理机构、第二清理机构，能够实现在对反应物搅拌的同时能够对反应釜本体内壁上的反应物残留进行清理的目的，通过设置有升降机构，能够实现通过第一清理刷对反应釜本体内壁进行上下充分清理，能够实现避免导致后期使用时影响反应物生产质量的目的。

Description

一种DMC生产用立式反应釜

技术领域

本实用新型涉及化工原料生产设备技术领域，尤其涉及一种DMC生产用立式反应釜。

背景技术

碳酸二甲酯是一种低毒、环保性能优异、用途广泛的化工原料，英文简称DMC，由于其分子结构中含有羰基、甲基、甲氧基和羰基甲氧基，因而可广泛用于羰基化、甲基化、甲氧基花和羰基甲氧基花等有机合成反应，是重要的有机化工中间体，DMC在回收、生产过程中，常需要用到反应釜。

目前，公告号为CN217068886U的中国专利公告的一种DMC生产用立式反应釜，其包括：机架；安装在机架上且顶部开设有安装孔的罐体；安装在罐体顶部的安装板；竖直安装在安装板上且从安装孔竖直插入罐体内的延伸筒；滑动穿插在延伸筒内的活动杆；设置在延伸筒外端部上对活动杆进行固定的固定件；设置在活动杆处于罐体内部一端上的搅拌组件；以及安装在安装板上用于驱动延伸筒进行旋转的驱动组件。本申请在使用时，能对罐体内的液体进行搅动，使得罐体内的液体可以较为充分的反应，从而有效的节省了时间，提高了产品质量。

在实际使用中发现，现有反应釜在化学反应后反应产物会残留在反应釜的内壁上，如果不及时清理，则会影响到下次制备的碳酸二甲酯的质量，存在不能对反应釜内壁的反应物残留进行及时清理，从而导致影响后期生产反应质量的问题，因此我们提出了一种DMC生产用立式反应釜用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在：不能对反应釜内壁的反应物残留进行及时清理，从而导致影响后期生产反应质量的缺点，而提出的一种DMC生产用立式反应釜。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种DMC生产用立式反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体顶部固定安装有防护箱，防护箱底部内壁固定安装有正反转电机，正反转电机输出轴与防护箱顶部内壁转动连接，反应釜本体两侧内壁滑动安装有升降板，防护箱与升降板之间设置有升降机构；升降板与反应釜本体之间设置有滑动机构，升降板底部固定安装有电机箱，电机箱顶部内壁固定安装有搅拌电机，搅拌电机输出轴延伸至电机箱下方，搅拌电机输出轴上设置有搅拌机构和第二清理机构。

优选的，所述升降机构包括两个升降丝杆和杆筒，所述防护箱顶部内壁转动安装有两个升降丝杆，两个升降丝杆分别位于正反转电机两侧，两个升降丝杆设置有旋向相反的外螺纹，升降板顶部固定安装有杆筒，升降丝杆与杆筒螺纹连接，反应釜本体顶部与防护箱底部开设有同一个杆孔，杆筒与杆孔滑动连接，正反转电机与两个升降丝杆之间设置有齿动机构。

优选的，所述滑动机构包括滑块和滑槽，所述升降板两侧均设置有滑块，反应釜本体两侧内壁开设有滑槽，滑块与滑槽滑动连接。

优选的，所述搅拌机构包括搅拌杆和搅拌叶，所述搅拌电机输出轴上固定安装有搅拌杆，搅拌杆上设置有搅拌叶，搅拌杆上设置有第一清理机构。

优选的，所述第一清理机构包括第一清理座和第一清理刷，所述搅拌杆靠近反应釜本体内壁一侧固定安装有第一清理座，第一清理座靠近反应釜本体内壁一侧设置有第一清理刷，第一清理刷与反应釜本体两侧内壁相适配。

优选的，所述第二清理机构包括第二清理座和第二清理刷，所述搅拌电机输出轴底端固定安装有第二清理座，第二清理座底部设置有第二清理刷，第二清理刷与反应釜本体底部内壁相适配。

优选的，所述反应釜本体左侧设置有进料口，所述进料口位于升降板下方，反应釜本体右侧底部设置有出料口，出料口上设置有开启阀。

优选的，所述齿动机构包括第一齿轮和两个第二齿轮，所述正反转电机输出轴上固定安装有第一齿轮，两个升降丝杆上固定安装有第二齿轮，第一齿轮与两个第二齿轮相啮合。

本实用新型的有益效果：

1、通过搅拌电机、搅拌杆和搅拌叶的配合，能够实现搅拌叶对反应物进行不断搅拌，能够实现加快反应物进行反应的目的，通过第一清理座、第一清理刷、第二清理座和第二清理刷的配合，能够实现在对反应物搅拌的同时能够对反应釜本体内壁上的反应物残留进行清理的目的；

2、通过正反转电机、第一齿轮和第二齿轮的配合，能够实现带动两个升降丝杆进行升降，通过升降丝杆、升降筒、升降板、电机箱和搅拌电机的配合，能够实现通过搅拌电机带动搅拌杆和搅拌叶进行升降，能够带动第一清理座和第一清理刷进行升降，能够实现对反应物进行充分搅拌，能够实现缩短反应物反应时间，能够实现提高生产效率的目的，能够实现通过第一清理刷对反应釜本体内壁进行上下充分清理，能够实现避免导致后期使用时影响反应物生产质量的目的。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种DMC生产用立式反应釜的立体结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种DMC生产用立式反应釜的主视剖面结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种DMC生产用立式反应釜的A部分结构示意图。

图中：1、反应釜本体；2、防护箱；3、正反转电机；4、升降板；5、升降丝杆；6、杆筒；7、第一齿轮；8、第二齿轮；9、电机箱；10、搅拌电机；11、搅拌杆；12、搅拌叶；13、第一清理座；14、第一清理刷；15、第二清理座；16、第二清理刷；17、滑块；18、滑槽；19、进料口；20、出料口。

具体实施方式

下面将结合具体实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参照图1-3，一种DMC生产用立式反应釜，包括反应釜本体1，反应釜本体1顶部固定安装有防护箱2，防护箱2底部内壁固定安装有正反转电机3，正反转电机3输出轴与防护箱2顶部内壁转动连接，反应釜本体1两侧内壁滑动安装有升降板4，防护箱2与升降板4之间设置有升降机构；升降板4与反应釜本体1之间设置有滑动机构，升降板4底部固定安装有电机箱9，电机箱9顶部内壁固定安装有搅拌电机10，搅拌电机10输出轴延伸至电机箱9下方，搅拌电机10输出轴上设置有搅拌机构和第二清理机构。

本实施例中，升降机构包括两个升降丝杆5和杆筒6，防护箱2顶部内壁转动安装有两个升降丝杆5，两个升降丝杆5分别位于正反转电机3两侧，两个升降丝杆5设置有旋向相反的外螺纹，升降板4顶部固定安装有杆筒6，升降丝杆5与杆筒6螺纹连接，反应釜本体1顶部与防护箱2底部开设有同一个杆孔，杆筒6与杆孔滑动连接，正反转电机3与两个升降丝杆5之间设置有齿动机构，通过设置有升降机构，使得两个升降丝杆5能够通过杆筒6带动升降板4进行升降，能够实现带动电机箱9进行升降的目的。

本实施例中，滑动机构包括滑块17和滑槽18，升降板4两侧均设置有滑块17，反应釜本体1两侧内壁开设有滑槽18，滑块17与滑槽18滑动连接，通过设置有滑动机构，使得升降板4在升降时更加稳定。

本实施例中，搅拌机构包括搅拌杆11和搅拌叶12，搅拌电机10输出轴上固定安装有搅拌杆11，搅拌杆11上设置有搅拌叶12，搅拌杆11上设置有第一清理机构。

本实施例中，第一清理机构包括第一清理座13和第一清理刷14，搅拌杆11靠近反应釜本体1内壁一侧固定安装有第一清理座13，第一清理座13靠近反应釜本体1内壁一侧设置有第一清理刷14，第一清理刷14与反应釜本体1两侧内壁相适配，通过设置有第一清理机构，使得第一清理座13能够带动第一清理刷14对反应釜本体1两侧内壁反应物残留进行清理。

本实施例中，第二清理机构包括第二清理座15和第二清理刷16，搅拌电机10输出轴底端固定安装有第二清理座15，第二清理座15底部设置有第二清理刷16，第二清理刷16与反应釜本体1底部内壁相适配，通过设置有第二清理机构，使得第二清理座15能够带动第二清理刷16对反应釜本体1底部内壁上的反应物残留进行清理。

本实施例中，反应釜本体1左侧设置有进料口19，进料口19位于升降板4下方，反应釜本体1右侧底部设置有出料口20，出料口20上设置有开启阀，通过设置有进料口19和出料口20，使得反应物能够通过进料口19投入到反应釜本体1内进行反应生产，能够实现反应完成的反应物通过出料口20进行排出的目的。

本实施例中，齿动机构包括第一齿轮7和两个第二齿轮8，正反转电机3输出轴上固定安装有第一齿轮7，两个升降丝杆5上固定安装有第二齿轮8，第一齿轮7与两个第二齿轮8相啮合，通过设置有齿动机构，使得正反转电机3能够通过第一齿轮7带动两个第二齿轮8进行转动，能够实现带动两个升降丝杆5进行转动的目的。

本实用新型中，使用时，首先通过将反应物通过进料口19投入反应釜本体1内，通过启动搅拌电机10能够带动搅拌杆11进行转动，能够带动搅拌叶12进行转动，能够实现搅拌叶12对反应物进行不断搅拌，能够实现加快反应物进行反应的目的，搅拌杆11能够通过第一清理座13带动第一清理刷14进行转动，搅拌电机10输出轴能够通过第二清理座15带动第二清理刷16进行转动，能够实现在对反应物搅拌的同时能够对反应釜本体1内壁上的反应物残留进行清理，通过启动正反转电机3能够通过第一齿轮7和两个第二齿轮8带动两个升降丝杆5进行转动，能够带动两个杆筒6进行同时升降，能够通过升降板4带动电机箱9进行升降，能够通过搅拌电机10带动搅拌杆11和搅拌叶12进行升降，能够带动第一清理座13和第一清理刷14进行升降，能够实现对反应物进行充分搅拌，能够实现缩短反应物反应时间，能够实现提高生产效率的目的，能够实现通过第一清理刷14对反应釜本体1内壁进行上下充分清理，能够实现避免导致后期使用时影响反应物生产质量的目的。

以上对本实用新型所提供的一种DMC生产用立式反应釜进行了详细介绍。本文中应用了具体实施例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (8)

1.一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)顶部固定安装有防护箱(2)，所述防护箱(2)底部内壁固定安装有正反转电机(3)，所述正反转电机(3)输出轴与防护箱(2)顶部内壁转动连接，所述反应釜本体(1)两侧内壁滑动安装有升降板(4)，所述防护箱(2)与升降板(4)之间设置有升降机构；

所述升降板(4)与反应釜本体(1)之间设置有滑动机构，所述升降板(4)底部固定安装有电机箱(9)，所述电机箱(9)顶部内壁固定安装有搅拌电机(10)，所述搅拌电机(10)输出轴延伸至电机箱(9)下方，所述搅拌电机(10)输出轴上设置有搅拌机构和第二清理机构。

2.根据权利要求1所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述升降机构包括两个升降丝杆(5)和杆筒(6)，所述防护箱(2)顶部内壁转动安装有两个升降丝杆(5)，两个所述升降丝杆(5)分别位于正反转电机(3)两侧，两个所述升降丝杆(5)设置有旋向相反的外螺纹，所述升降板(4)顶部固定安装有杆筒(6)，所述升降丝杆(5)与杆筒(6)螺纹连接，所述反应釜本体(1)顶部与防护箱(2)底部开设有同一个杆孔，所述杆筒(6)与杆孔滑动连接，所述正反转电机(3)与两个升降丝杆(5)之间设置有齿动机构。

3.根据权利要求1所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述滑动机构包括滑块(17)和滑槽(18)，所述升降板(4)两侧均设置有滑块(17)，所述反应釜本体(1)两侧内壁开设有滑槽(18)，所述滑块(17)与滑槽(18)滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌杆(11)和搅拌叶(12)，所述搅拌电机(10)输出轴上固定安装有搅拌杆(11)，所述搅拌杆(11)上设置有搅拌叶(12)，所述搅拌杆(11)上设置有第一清理机构。

5.根据权利要求4所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述第一清理机构包括第一清理座(13)和第一清理刷(14)，所述搅拌杆(11)靠近反应釜本体(1)内壁一侧固定安装有第一清理座(13)，所述第一清理座(13)靠近反应釜本体(1)内壁一侧设置有第一清理刷(14)，所述第一清理刷(14)与反应釜本体(1)两侧内壁相适配。

6.根据权利要求1所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述第二清理机构包括第二清理座(15)和第二清理刷(16)，所述搅拌电机(10)输出轴底端固定安装有第二清理座(15)，所述第二清理座(15)底部设置有第二清理刷(16)，所述第二清理刷(16)与反应釜本体(1)底部内壁相适配。

7.根据权利要求1所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述反应釜本体(1)左侧设置有进料口(19)，所述进料口(19)位于升降板(4)下方，所述反应釜本体(1)右侧底部设置有出料口(20)，所述出料口(20)上设置有开启阀。

8.根据权利要求2所述的一种DMC生产用立式反应釜，其特征在于，所述齿动机构包括第一齿轮(7)和两个第二齿轮(8)，所述正反转电机(3)输出轴上固定安装有第一齿轮(7)，所述两个升降丝杆(5)上固定安装有第二齿轮(8)，所述第一齿轮(7)与两个第二齿轮(8)相啮合。