CN220121122U - 光学单元及智能手机 - Google Patents
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Abstract
能抑制磁铁及磁性体中的至少一方的位置因公差而偏移的光学单元及智能手机,具有:支架,搭载有将向第一方向的一侧行进的光向与第一方向交叉的第二方向的一侧反射的光学元件;支承体,支承支架;固定体,支承支承体;第一摆动机构,使支承体相对于固定体以第一摆动轴线为中心摆动;第一磁铁,配置在支架、支承体及固定体中的三个部件中的任一个上;第一磁性体,配置在支架、支承体及固定体中的三个部件中的剩余两个中的任一个上。从第一方向、第二方向及分别与第一方向和第二方向交叉的第三方向中的任一方向观察,第一磁铁和第一磁性体的至少一部分重叠。第一磁铁和第一磁性体中的至少一方位于设置在支承体和固定体中的至少一方上的贯通孔中。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学单元和智能手机。
背景技术
在利用照相机拍摄静态图像或动态图像时,有时会因手抖动而产生图像模糊。并且,用于抑制图像模糊而能够进行清晰的摄影的手抖动校正装置已实用化。
例如,在专利文献1中记载了具有反射部件、支架和第一壳体的反射模块。在支架上安装反射部件。第一壳体收容支架。支架在第一壳体中相对于第一轴线和第二轴线自由地旋转。另外,在支架和第一壳体的对置面上分别配置有相互磁吸引的第一磁轭和磁铁。第一磁轭被提供为磁性材料。磁铁安装在支架的表面上。第一磁轭安装在第一壳体的表面上。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1:美国专利申请公开第2018/0109660号说明书
但是,在专利文献1那样的反射模块中,通常,磁铁安装在支架的凹陷部中,磁轭安装在壳体的凹陷部中。
但是,在将磁铁及磁轭安装于支架及壳体的凹陷部的情况下,磁铁及磁轭有时会在支架及壳体的凹陷部内偏离规定的位置。特别是,在通过树脂成型形成支架以及壳体的微小的凹陷部的情况下,由于凹陷部产生公差,因此安装在凹陷部内的磁铁以及磁轭的位置有时会因公差而偏移。
实用新型内容
本实用新型是鉴于上述课题而完成的,其目的在于提供一种能够抑制磁铁以及磁性体中的至少一方的位置因公差而偏移的光学单元以及智能手机。
本实用新型的例示的光学单元具有:支架,其搭载有将向第一方向的一侧行进的光向与所述第一方向交叉的第二方向的一侧反射的光学元件;支承体,其支承所述支架;固定体,其支承所述支承体;第一摆动机构,其使所述支承体相对于所述固定体以第一摆动轴线为中心摆动;第一磁铁,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的任意一个部件上;以及第一磁性体,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的剩余两个部件中的任意一个部件上。从所述第一方向、所述第二方向、以及分别与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向中的任一方向观察,所述第一磁铁和所述第一磁性体的至少一部分重叠。所述第一磁铁和所述第一磁性体中的至少一方位于设置在所述支承体和所述固定体中的至少一方上的贯通孔中。
优选地,从所述固定体支承所述支承体的支承方向观察,所述第一磁铁及所述第一磁性体的至少一部分重叠。
优选地,所述第一磁铁配置于所述支承体及所述固定体中的一方上,所述第一磁性体配置于所述支承体及所述固定体中的另一方上。
优选地,所述第一磁铁及所述第一磁性体中的至少一方与所述第一摆动机构配置于不同的面。
优选地,所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,所述贯通孔具有:位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,所述贯通孔中的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述一端的开口部之间的距离小于所述贯通孔中的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间的距离。
优选地,在所述贯通孔内,在所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间设置有空隙。
优选地,还具有位于所述贯通孔的粘接剂。
优选地,所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,所述贯通孔具有:位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,所述光学单元还包括粘接层,该粘接层在所述贯通孔内位于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间。
优选地,所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,所述贯通孔具有:位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,所述光学单元还包括安装板,该安装板在所述贯通孔内相对于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方位于所述另一端的开口部一侧,且安装有所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方。
优选地,所述光学单元还包括粘接层,该粘接层在所述贯通孔内位于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述安装板之间。
优选地,所述贯通孔位于所述固定体上。
优选地,所述第一磁铁位于所述固定体上。
优选地,所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,所述贯通孔具有:位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,在所述贯通孔中,所述一端的开口部的内径比沿着与所述贯通孔延伸的长度方向正交的孔径方向的所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方的长度小,在所述贯通孔中,所述另一端的开口部的内径大于沿着所述孔径方向的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方的长度。
优选地,还具有磁轭,该磁轭相对于所述第一磁铁在与所述第一磁性体所在一侧相反的一侧与所述第一磁铁接触。
优选地,所述磁轭沿着与所述贯通孔延伸的长度方向正交的孔径方向的长度比所述第一磁铁沿着所述孔径方向的长度长,所述贯通孔的内径比所述第一磁铁沿所述孔径方向的长度大,比所述磁轭沿所述孔径方向的长度小。
优选地,在所述支承体以及所述固定体中的一方设置有所述第一磁铁所位于的所述贯通孔以及与所述贯通孔相连的凹陷部,所述凹陷部的内径大于所述磁轭沿所述孔径方向的长度。
优选地,还具有:第二磁铁,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的任意一个部件上;以及第二磁性体,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的剩余两个部件中的任意一个部件上,从所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向中的任一方向观察,所述第二磁铁以及所述第二磁性体的至少一部分重叠,所述第二磁铁及所述第二磁性体中的至少一方位于设置于所述支承体及所述固定体中的至少一方上的贯通孔中。
优选地,配置有所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方的贯通孔具有:位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,配置有所述第二磁铁和所述第二磁性体中的一方的贯通孔具有:位于所述第二磁铁和所述第二磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第二磁铁和所述第二磁性体中的另一方的位置,所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述贯通孔的所述一端的开口部之间的距离,与所述第二磁铁及所述第二磁性体中的一方与所述贯通孔的所述一端的开口部之间的距离相等。
优选地,从所述第一方向观察,所述第一磁铁和所述第二磁铁位于相对于与所述第一摆动轴线正交的方向对称的位置,从所述第一方向观察,所述第一磁性体及所述第二磁性体位于相对于与所述第一摆动轴线正交的方向对称的位置。
优选地,还具有第二摆动机构,该第二摆动机构使所述支架相对于所述支承体以与所述第一摆动轴线交叉的第二摆动轴线为中心摆动。
本实用新型的另一示例性智能手机包括如上所述的光学单元。
根据例示的本实用新型,能够提供能够抑制磁铁以及磁性体中的至少一方的位置因公差而偏移的光学单元以及智能手机。
附图说明
图1是示意性地表示具备本实用新型的实施方式的光学单元的智能手机的立体图。
图2是表示本实施方式所涉及的光学单元的立体图。
图3是将本实施方式的光学单元分解为可动体和支承体的分解立体图。
图4是本实施方式所涉及的光学单元的可动体的分解立体图。
图5A是沿着图2的VA-VA线的剖视图。
图5B是沿着图2的VB-VB线的剖视图。
图5C是沿着图2的VC-VC线的剖视图。
图5D是沿着图2的VD-VD线的剖视图。
图6是本实施方式的光学单元的光学元件和支架的分解立体图。
图7是表示本实施方式的光学单元的光学元件、支架以及预压部的分解立体图。
图8是表示本实施方式所涉及的光学单元的光学元件、支架、预压部、第一支承体以及第二磁铁的分解立体图。
图9是表示本实施方式的光学单元的可动体的立体图。
图10是从第一方向X的一侧X1表示本实施方式的光学单元的第一支承体的图。
图11是本实施方式的光学单元的支承体的分解立体图。
图12是表示本实施方式的光学单元的第二支承体周边的立体图。
图13是从第一方向X的另一侧X2表示本实施方式的光学单元的第二支承体的图。
图14是表示本实施方式的光学单元的固定体的组装的图。
图15是表示本实施方式的光学单元的固定体的组装的图。
图16是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
图17是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
图18是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
图19A是使用夹具组装本实施方式所涉及的光学单元的固定体时的分解立体图。
图19B是使用夹具来组装本实施方式所涉及的光学单元的固定体时的分解立体图。
图20是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
图21是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
图22是表示本实施方式的光学单元的剖面的图。
(符号说明)
1:光学单元;2:可动体;3:支承体;10:光学元件;31:支承主体(第一部件);31a:上表面(相反面);61:支承主体(第一部件);120:摆动机构;121:第二磁铁(摆动磁铁);125:第二线圈(摆动线圈);151:磁铁;152:磁性体;301:覆盖部;303a:收容部;612:收容部;615:覆盖部;616:下表面(相反面);A2:第二摆动轴线(摆动轴线);L:光;X:第一方向;X1:一侧;Y:第二方向;Y1:一侧;Z:第三方向。
具体实施方式
以下,参照附图对本实用新型的例示的实施方式进行说明。另外,在图中,对相同或相当的部分标注相同的参照符号,不重复说明。
在本说明书中,为了容易理解,适当地记载了相互交叉的第一方向X、第二方向Y以及第三方向Z。另外,在本说明书中,第一方向X、第二方向Y以及第三方向Z相互正交,但也可以不正交。另外,将第一方向的一侧记载为第一方向X的一侧X1,将第一方向的另一侧记载为第一方向X的另一侧X2。另外,将第二方向的一侧记为第二方向Y的一侧Y1,将第二方向的另一侧记为第二方向Y的另一侧Y2。另外,将第三方向的一侧记载为第三方向Z的一侧Z1,将第三方向的另一侧记载为第三方向Z的另一侧Z2。另外,为了方便,有时将第一方向X作为上下方向进行说明。第一方向X的一侧X1表示向下方向,而第一方向X的另一侧X2表示向上方向。但是,上下方向、向上方向以及向下方向是为了便于说明而确定的,不需要与铅垂方向一致。另外,只是为了便于说明而定义了上下方向,并不限定本实用新型的光学单元的使用时及组装时的朝向。
另外,在本说明书中,在方位、线以及面中的任意一个与其他任意一个的位置关系中,“平行”不仅包括两者无论延长到何种程度都完全不相交的状态,还包括实质上平行的状态。另外,“垂直”以及“正交”分别不仅包括两者相互以90度相交的状态,还包括实质上垂直的状态以及实质上正交的状态。即,“平行”、“垂直”以及“正交”当然可以分别包括两者的位置关系存在起到本实用新型的效果的程度的角度偏移的状态。
首先,参照图1说明光学单元1的用途的一个例子。图1是示意性地表示具备本实用新型的实施方式的光学单元1的智能手机200的立体图。智能手机200具有光学单元1。光学单元1将入射的光反射到特定的方向。如图1所示,光学单元1适合用作例如智能手机200的光学部件。另外,光学单元1的用途并不限定于智能手机200,能够用于数码相机以及摄像机等各种装置。
智能手机200具有供光入射的透镜202。在智能手机200中,光学单元1配置在透镜202的内侧。当光L通过透镜202入射到智能手机200的内部时,光L的行进方向被光学单元1改变。然后,光L经由透镜单元(未图示)被摄像元件(未图示)拍摄。
接着,参照图2至图13对光学单元1进行说明。图2是表示本实施方式的光学单元1的立体图。图3是将本实施方式的光学单元1分解为可动体2和固定体3的分解立体图。
如图2和图3所示,光学单元1至少具有可动体2、固定体3和摆动机构120。可动体2相对于固定体3可摆动地被支承。在本实施方式中,光学单元1具有磁铁151和磁性体152(图4)。另外,在本实施方式中,光学单元1还具有摆动机构110。另外,在本实施方式中,光学单元1还具有预压部40。另外,摆动机构120是本实用新型的“摆动机构”的一例。在本说明书中,有时将摆动机构120记载为第一摆动机构,将摆动机构110记载为第二摆动机构。以下进行详细说明。
图4是本实施方式的光学单元1的可动体2的分解立体图。如图2至图4所示,光学单元1具有可动体2和固定体3。固定体3以能够以摆动轴线A2为中心摆动的方式支承可动体2。另外,摆动轴线A2是本实用新型的“第一摆动轴线”的一例。
可动体2具有光学元件10。另外,可动体2具有支架20和第一支承体30。第一支承体30是“支承体”的一例。另外,可动体2具有预压部40。光学元件10改变光的行进方向。支架20保持光学元件10。第一支承体30以能够以与摆动轴线A2交叉的摆动轴线A1为中心摆动的方式支承支架20及光学元件10。另外,摆动轴线A1是本实用新型的“第二摆动轴线”的一例。另外,第一支承体30以能够以摆动轴线A2为中心摆动的方式支承于固定体3。更具体地说,第一支承体30以能够以摆动轴线A2为中心摆动的方式支承于固定体3的第二支承体60。
即,支架20能够相对于第一支承体30摆动,第一支承体30能够相对于第二支承体60摆动。因此,由于能够分别以摆动轴线A1及摆动轴线A2为中心使光学元件10摆动,所以能够分别以摆动轴线A1及摆动轴线A2为中心校正光学元件10的姿势。因此,可以在两个方向上抑制图像模糊。其结果,与仅以一个摆动轴线为中心使光学元件10摆动的情况相比,能够提高校正精度。另外,摆动轴线A1也被称为俯仰轴。摆动轴线A2也称为滚动轴。
在本实施方式中,如上所述,第一支承体30支承支架20和光学元件10。另外,第一支承体30由第二支承体60支承。即,支架20及光学元件10经由第一支承体30间接地支承于固定体3的第二支承体60。另外,支架20及光学元件10也可以不经由第一支承体30而直接支承于固定体3的第二支承体60。即,可动体2也可以不具有第一支承体30。
摆动轴线A1是沿着与第一方向X和第二方向Y交叉的第三方向Z延伸的轴线。另外,摆动轴线A2是沿着第一方向X延伸的轴线。因此,能够以与第一方向X及第二方向Y交叉的摆动轴线A1为中心摆动光学元件10。另外,能够以沿着第一方向X延伸的摆动轴线A2为中心摆动光学元件10。由此,能够适当地校正光学元件10的姿势。另外,第一方向X和第二方向Y是沿着光L(图5A)的行进方向的方向。即,能够以与作为光的行进方向的第一方向X以及第二方向Y交叉的摆动轴线A1为中心摆动光学元件10。因此,能够更适当地校正光学元件10的姿势。
另外,第一支承体30在第三方向Z上支承支架20。因此,能够容易地使第一支承体30以沿着第三方向Z延伸的摆动轴线A1为中心摆动。具体而言,在本实施方式中,第一支承体30经由预压部40沿第三方向Z支承支架20。
图5A是沿着图2的VA-VA线的剖视图。图5B是沿着图2的VB-VB线的剖视图。图5C是沿着图2的VC-VC线的剖视图。图5D是沿着图2的VD-VD线的剖视图。图6是本实施方式的光学单元1的光学元件10和支架20的分解立体图。如图5A至图5D以及图6所示,光学元件10由棱镜构成。棱镜由折射率比空气高的透明材料形成。另外,光学元件10例如也可以是板状的镜。在本实施方式中,光学元件10具有大致三角柱形状。具体而言,光学元件10具有光入射面11、光出射面12、反射面13以及一对侧面14。光L入射到光入射面11。光出射面12与光入射面11连接。光出射面12与光入射面11垂直地配置。反射面13与光入射面11和光出射面12连接。反射面13相对于光入射面11和光出射面12分别倾斜约45度。反射面13将向第一方向X的一侧X1行进的光L向与第一方向X交叉的第二方向Y的一侧Y1反射。即,光学元件10将向第一方向X的一侧X1行进的光L向与第一方向X交叉的第二方向Y的一侧Y1反射。一对侧面14与光入射面11、光出射面12以及反射面13连接。
另外,光学元件10的光轴L10与摆动轴线A2重叠配置。另外,在本说明书中,光学元件10的光轴L10是指与下述轴线中的至少任一个一致的轴线:与光学元件10的光入射面11垂直且通过反射面13的中心的轴线;通过供光入射的透镜202的光轴、或位于反射目的地的透镜单元的光轴与反射面13的交点且在与透镜单元的光轴垂直的方向上延伸的轴线;通过摄像元件的中心的直线与反射面13的交点且在与通过摄像元件的中心的直线垂直的方向上延伸的轴线。典型地,垂直于光学元件10的光入射面11且通过反射面13的中心的轴线、通过供光入射的透镜202的光轴、位于反射目的地的透镜单元的光轴与反射面13的交点且在垂直于透镜单元的光轴的方向上延伸的轴线、以及通过摄像元件的中心的直线与反射面13的交点且在垂直于通过摄像元件的中心的直线的方向上延伸的轴线全部一致。
支架20和第一支承体30中的至少一方具有向预压部40的相反侧凹陷的凹部或向预压部40突出的凸部。在本实施方式中,支架20具有向与预压部40相反的一侧凹陷的轴上凹部22b。
具体而言,支架20例如由树脂构成。支架20具有支架主体21和一对侧面部22。另外,支架20具有一对对置侧面22a和轴上凹部22b。
支架主体21沿第三方向Z延伸。支架主体21具有支承面21a和多个凹部21d。在本实施方式中,支架主体21具有三个凹部21d。支承面21a支承光学元件10。支承面21a是面向光学元件10的反射面13且与一对侧面部22连接的面。支承面21a是相对于光L的入射方向倾斜约45度的倾斜面,在倾斜面的大致整个区域与光学元件10的反射面13接触。光L的入射方向是朝向第一方向X的一侧X1的方向。凹部21d配置在支承面21a上。凹部21d向与光学元件10相反的一侧凹陷。另外,支架主体21也可以不具有凹部21d。
另外,支架主体21具有背面21b和下表面21c。背面21b与支承面21a中的与光L的射出方向相反侧的端部连接。另外,“光L的射出方向”是第二方向Y的一侧Y1。另外,“与光L的射出方向相反侧的端部”是第二方向Y的另一侧Y2的端部。下表面21c与支承面21a及背面21b连接。
一对侧面部22从支架主体21向与第三方向Z交叉的交叉方向延伸。交叉方向例如包括第一方向X和第二方向Y。一对侧面部22配置在支架主体21的第三方向Z的两端。一对侧面部22具有在第三方向Z上相互对称的形状。一对对置侧面22a分别配置在一对侧面部22上。一对对置侧面22a分别与一对预压部40对置。关于预压部40的详细结构将在后面叙述。轴上凹部22b配置在对置侧面22a上。轴上凹部22b在摆动轴线A1上向支架20的内侧凹陷。轴上凹部22b收容预压部40的轴上凸部45的至少一部分。轴上凹部22b具有凹状的球面的至少一部分。
另外,支架20和第一支承体30中的一个具有限制凹部22c。限制凹部22c限制预压部40的突出部46向与摆动轴线A1交叉的方向移动。
在本实施方式中,支架20具有限制凹部22c。具体而言,限制凹部22c配置于对置侧面22a。限制凹部22c限制预压部40沿侧面部22移动规定距离以上。更具体而言,限制凹部22c在第三方向Z上向支架20的内侧凹陷。限制凹部22c具有内表面22d。例如,限制凹部22c也可以是第一方向X的两侧以及第二方向Y的两侧封闭的凹部。另外,例如,限制凹部22c也可以是第一方向X的一侧开放的凹部,也可以是第二方向Y的一侧开放的凹部。
在限制凹部22c的内部配置有预压部40的突出部46。预压部40的突出部46在轴上凸部45嵌入到轴上凹部22b中的状态下,从限制凹部22c的内表面22d离开规定距离。另一方面,在对光学单元1施加冲击等而支架20例如要向第一方向X及第二方向Y移动规定距离以上的情况下,预压部40的突出部46与限制凹部22c的内表面22d接触。因此,能够抑制支架20从预压部40脱落。在本实施方式中,限制凹部22c例如设置有四个。限制凹部22c的数量可以是一个,但优选为多个。
光学单元1具有预压部40。预压部40连接支架20和第一支承体30。预压部40能够弹性变形。另外,预压部40配置在支架20和第一支承体30中的至少一方。预压部40沿摆动轴线A1的轴线方向对支架20和第一支承体30中的至少另一方施加预压。因此,能够抑制支架20相对于第一支承体30在摆动轴线A1的轴线方向上发生位置偏移。另外,即使在各部件的尺寸产生制造误差的情况下,也能够抑制在摆动轴线A1的轴线方向上产生晃动等。换言之,例如能够抑制支架20的位置在摆动轴线A1的轴线方向上位移。摆动轴线A1的轴线方向是沿着第三方向Z的方向。另外,在本说明书中,“施加预压”是指预先施加载荷。
接着,参照图7及图8说明预压部40的详细结构。图7是表示本实施方式的光学单元1的光学元件10、支架20以及预压部40的分解立体图。
图8是表示本实施方式所涉及的光学单元1的光学元件10、支架20、预压部40、第一支承体30以及第二磁铁121的分解立体图。如图7及图8所示,预压部40配置在支架20与第一支承体30之间。预压部40沿摆动轴线A1的轴线方向对支架20施加预压。
具体而言,在本实施方式中,各预压部40是单一的部件。预压部40通过将一张板部件折弯而形成。预压部40在本实施方式中是板簧。预压部40配置在第一支承体30上。
预压部40具有位于支架20侧的第一面部41、位于第一支承体30侧的第二面部42、连接第一面部41和第二面部42的弯曲部43。因此,能够容易地使预压部40向摆动轴线A1的轴线方向变形。其结果是,由于弯曲部43的挠曲而产生弹性力,因此能够以简单的结构容易地沿轴线方向对支架20施加预压。
具体而言,第一面部41在摆动轴线A1的轴线方向上与支架20相对。第一面部41与支架20的侧面部22相对。第一面部41沿着第一方向X和第二方向Y延伸。第一面部41沿着侧面部22配置。第二面部42在摆动轴线A1的轴线方向上与第一支承体30相对。第二面部42与第一支承体30的侧面部32相对。第二面部42沿第一方向X和第二方向Y延伸。第二面部42沿着侧面部32配置。
弯曲部43能够弹性变形。因此,第一面部41和第二面部42能够向相互接近或远离的方向移动。在本实施方式中,在预压部40配置在支架20与第一支承体30之间的状态下,预压部40以第一面部41及第二面部42相互接近的方式沿摆动轴线A1的轴线方向压缩变形。因此,预压部40通过与变形量对应的反作用力对支架20施加预压。
预压部40具有朝向支架20和第一支承体30中的至少一方突出的凸部、或者朝向与支架20和第一支承体30中的至少一方相反的一侧凹陷的凹部。预压部40的凸部或凹部与支架20和第一支承体30中的至少一方的凹部或凸部接触。在本实施方式中,预压部40具有轴上凸部45。轴上凸部45朝向支架20突出。预压部40的轴上凸部45与支架20的轴上凹部22b接触。
另外,在本实施方式中,轴上凸部45配置于第一面部41。轴上凸部45在摆动轴线A1上向支架20突出。轴上凸部45具有球面的至少一部分。轴上凸部45的一部分收容在轴上凹部22b中。因此,由于轴上凸部45与轴上凹部22b点接触,所以能够利用预压部40稳定地支承支架20。
另外,在本实施方式中,设置有一对预压部40。即,光学单元1具有一对预压部40。一对预压部40相对于支架20配置在摆动轴线A1的轴线方向的两侧。因此,与仅在支架20的一侧配置预压部40的情况相比,能够更稳定地支承支架20。
具体而言,一对预压部40的轴上凸部45分别与支架20的一对轴上凹部22b接触。支架20在与轴上凸部45接触的两个接点处被预压部40从摆动轴线A1的轴线方向的两侧支承。因此,支架20能够以穿过两个接点的摆动轴线A1为中心摆动。
另外,预压部40还具有突出部46。突出部46配置于第一面部41和第二面部42中的一方,并且朝向支架20和第一支承体30中的一方突出。在本实施方式中,突出部46与轴上凸部45同样地配置在第一面部41上。突出部46在沿着摆动轴线A1的方向上朝向支架20突出。突出部46与限制凹部22c对应地设置。突出部46在各预压部40上例如设置4个。突出部46的一部分收容在限制凹部22c中。突出部46以包围轴上凸部45的方式配置。换言之,轴上凸部45配置在包含4个突出部46的区域的内部。另外,突出部46的数量例如也可以是1个~3个或5个以上。另外,突出部46通过将第一面部41的端部弯折而形成。
预压部40具有安装部47。安装部47例如配置在第二面部42上。安装部47配置在第二面部42的上端。安装部47安装于第一支承体30的侧面部32的上端。安装部47例如通过在第一方向X上夹持侧面部32的上端而安装于侧面部32。另外,预压部40也可以不具有安装部47,例如也可以使用粘接剂等固定于第一支承体30。
图9是表示本实施方式的光学单元1的可动体2的立体图。图10是从第一方向X的一侧X1表示本实施方式的光学单元1的第一支承体30的图。
图11是本实施方式的光学单元1的固定体3的分解立体图。图12是表示本实施方式的光学单元1的第二支承体60周边的立体图。
如图9至图12所示,可动体2及固定体3中的一方具有朝向可动体2及固定体3中的另一方突出的第一凸部71。具体而言,第一支承体30和第二支承体60中的一方具有朝向第一支承体30和第二支承体60中的另一方突出的第一凸部71。可动体2和固定体3中的另一方与第一凸部71接触。第一凸部71配置在摆动轴线A2上。因此,可动体2以第一凸部71为中心摆动。由此,能够减小从可动体2与固定体3的接触位置到摆动中心的长度。使可动体2摆动时所需的力是从接触位置到摆动中心的长度与摩擦力的乘积,因此通过将第一凸部71配置在摆动轴线A2上,能够降低使可动体2摆动时所需的力。即,能够降低光学单元1的驱动所需的力。另外,第一凸部71的材质没有特别限定,但第一凸部71例如由陶瓷、树脂或金属形成。
另外,通过将第一凸部71配置在摆动轴线A2上,可动体2与固定体3的接触位置相对于第一凸部71不移动。因此,例如,与可动体2摆动时可动体2及固定体3的另一方相对于第一凸部71滑动的情况相比,能够减小可动体2及固定体3的另一方与第一凸部71之间的摩擦力。另外,由于光轴L10与摆动轴线A2重叠配置,因此能够抑制在使可动体2摆动时光轴L10从摆动轴线A2偏离。
另外,在本实施方式中,固定体3具有第一凸部71。因此,能够抑制可动体2摆动时第一凸部71旋转。由此,能够利用第一凸部71稳定地支承可动体2。其结果是,可动体2的摆动稳定。
另外,可动体2和固定体3中的一方具有朝向可动体2和固定体3中的另一方突出的多个第二凸部72。具体而言,第一支承体30和第二支承体60中的一方具有朝向第一支承体30和第二支承体60中的另一方突出的多个第二凸部72。多个第二凸部72配置在从摆动轴线A2离开的位置。可动体2和固定体3中的另一方与多个第二凸部72接触。第一凸部71和多个第二凸部72配置在与摆动轴线A2交叉的同一平面上。因此,能够利用配置在同一平面上的第一凸部71和多个第二凸部72来支承可动体2。其结果是,能够稳定地支承可动体2。另外,作为配置有第一凸部71和多个第二凸部72的同一平面,例如可以举出包含对置面61a的平面或包含下表面31e的平面。另外,第二凸部72的材质没有特别限定,但第二凸部72例如由陶瓷、树脂或金属形成。
另外,第二凸部72的位置是固定的。换言之,第二凸部72相对于可动体2和固定体3中的一个不移动。在本实施方式中,第二凸部72相对于固定体3不移动。换言之,在本实施方式中,即使在可动体2摆动的情况下,第二凸部72相对于固定体3的位置也是恒定的。因此,能够更稳定地支承可动体2。
另外,在本实施方式中,第二凸部72的数量为两个。因此,由于利用三个凸部(第一凸部71及第二凸部72)支承可动体2,因此与利用四个以上的凸部支承可动体2的情况相比,能够更稳定地支承可动体2。另外,在本实施方式中,由于以三点与可动体2点接触,因此能够更稳定地支承可动体2。
可动体2和固定体3中的另一方具有向与第一凸部71相反的方向凹陷的第一凹部31f。第一凹部31f与第一凸部71接触。因此,通过由凹状的第一凹部31f支承第一凸部71,能够抑制第一凸部71的中心从第一凹部31f的中心轴偏离。其结果,能够抑制因旋转中心偏离而引起的图像模糊。另外,能够抑制因旋转中心偏移而导致可动体2的摆动变得不稳定。其结果是,例如能够抑制摆动所需的电流值发生变动。
另外,在本实施方式中,可动体2具有第一凹部31f,固定体3具有第一凸部71。因此,在第一凸部71为球体的情况下,能够在将球体配置于第二支承体60的状态下将可动体2组装于固定体3,因此能够容易地进行组装作业。
接着,参照图8和图9详细说明第一支承体30周边的结构。如图8及图9所示,第一支承体30具有支承主体31和一对侧面部32。一对侧面部32在摆动轴线A1的轴线方向上配置在支架20的两侧。支承主体31连接一对侧面部32。
支承主体31具有上表面31a。上表面31a在第一方向X上与支架20相对。另外,上表面31a相对于支架20的底面分离。
一对侧面部32配置在支承主体31的第三方向Z的两端。一对侧面部32具有在第三方向Z上相互对称的形状。侧面部32具有内侧面32a。内侧面32a在第三方向Z上与支架20相对。
第一支承体30和支架20中的一方具有槽32b。槽32b在摆动轴线A1上向与第一支承体30和支架20中的另一方相反的一侧凹陷。因此,通过使预压部40沿着槽32b移动,能够容易地将支架20及预压部40安装于第一支承体30。在本实施方式中,第一支承体30具有槽32b。槽32b在摆动轴线A1上向与支架20相反的一侧凹陷。槽32b收容预压部40的至少一部分,并且沿与摆动轴线A1交叉的方向延伸。
在本实施方式中,槽32b配置在内侧面32a上。槽32b收容预压部40的一部分。槽32b沿第一方向X延伸。
各侧面部32具有一对支柱部32c和连接部32d。一对支柱部32c在第二方向Y上相互分离。支柱部32c沿第一方向X延伸。连接部32d将支柱部32c的上部彼此连接。连接部32d的第三方向Z上的长度比支柱部32c的第三方向Z上的长度短。而且,由一对支柱部32c和连接部32d构成槽32b。
另外,预压部40能够沿着槽32b移动。在本实施方式中,预压部40能够沿着槽32b在第一方向X上移动。通过使预压部40沿着槽32b移动,预压部40的安装部47在第三方向Z上夹持连接部32d。由此,预压部40被固定在第一支承体30上。
另外,侧面部32具有外侧面32e和收容凹部32f。外侧面32e朝向第三方向Z的外侧。收容凹部32f配置在外侧面32e上。收容凹部32f收容摆动机构120的第二磁铁121的至少一部分。另外,侧面部32具有一对切口部32g。切口部32g配置在收容凹部32f的第二方向Y的端部。在切口部32g配置磁铁支承板122的突起122a。磁铁支承板122支承第二磁铁121。切口部32g支承磁铁支承板122。磁铁支承板122的材质没有特别限定,例如也可以使用磁性体。在这种情况下,磁铁支承板122也被称为后轭。通过使用由磁性体构成的磁铁支承板122,能够抑制磁泄漏。
另外,可动体2和固定体3中的另一方具有第二凹部31g。在本实施方式中,可动体2具有第二凹部31g。具体地,支承主体31包括下表面31e、第一凹部31f和第二凹部31g。下表面31e在第一方向X上与固定体3相对。
第一凹部31f和第二凹部31g配置在下表面31e上。
第一凹部31f配置在摆动轴线A2上。第一凹部31f具有凹状的球面的一部分。因此,由于第一凸部71由凹状的球面支承,所以例如第一凸部71不易在第一凹部31f内横向偏移。其结果是,能够稳定地支承可动体2。另一方面,例如在将第一凹部31f形成为剖面呈矩形形状的情况下,第一凸部71容易相对于第一凹部31f横向偏移。另外,在本实施方式中,例如与将第一凸部71和第一凹部31f形成为剖面呈矩形形状的情况不同,能够容易地使第一凸部71与第一凹部31f点接触。
第二凹部31g向与第二凸部72相反的方向凹陷。第二凹部31g与第一凹部31f分离。即,第二凹部31g从摆动轴线A2离开。第二凹部31g设置有多个。在本实施方式中,第二凹部31g设置有两个。两个第二凹部31g配置在距摆动轴线A2的距离相等的位置。第二凹部31g具有滑动面31h和内侧面31i。
另外,第二凹部31g与第二凸部72接触。具体而言,第二凹部31g的滑动面31h与第二凸部72接触。滑动面31h与下表面31e大致平行地配置。即,第二凹部31g的深度大致恒定。
另外,如图10所示,从光轴方向观察,第二凹部31g的轮廓配置在第二凸部72的外侧。因此,能够抑制第二凸部72与第二凹部31g的内侧面31i接触。其结果是,能够抑制第二凸部72与第二凹部31g之间的摩擦。具体而言,内侧面31i包围滑动面31h。内侧面31i与第二凸部72分离。即,从光轴方向观察,第二凹部31g的轮廓相对于第二凸部72分离。另外,内侧面31i配置在第一支承体30通过摆动机构120以摆动轴线A2为中心摆动时第二凸部72不接触的位置。
另外,如图3及图5A所示,第二凸部72配置在比第一凹部31f靠第二方向Y的另一侧Y2的位置。因此,能够抑制第二凸部72与光学元件10的反射面13接触。其结果,能够容易地确保配置光学元件10的空间。也可以安装更大的光学元件10。具体而言,反射面13的一部分相对于下表面31e向第一方向X的一侧X1及第二方向Y的一侧Y1突出。因此,能够抑制光学元件10与第一支承体30中配置有第二凸部72的部分接触。其结果,能够确保配置光学元件10的空间。
如图11和图12所示,固定体3具有第二支承体60、第一凸部71和第二凸部72。固定体3优选具有对置面61a。
具体而言,第二支承体60以能够以与摆动轴线A1交叉的摆动轴线A2为中心摆动的方式支承第一支承体30。另外,第二支承体60在第一方向X上支承第一支承体30。即,第二支承体60在第一方向X上支承可动体2。因此,由于能够抑制光学元件10的第一方向X的位置变化,所以能够抑制反射光(从光学元件10射出的光L)的第一方向X的位置变化。
图13是从第一方向X的另一侧X2示出本实施方式的光学单元1的第二支承体60的图。如图11至图13所示,第二支承体60具有支承主体61、一对侧面部62和背面部63。支承主体61具有对置面61a、第一收容凹部61b和至少两个第二收容凹部61c。在本实施方式中,支承主体61具有一个第一收容凹部61b和两个第二收容凹部61c。另外,在本实施方式中,对第二支承体60具有第一收容凹部61b和第二收容凹部61c的例子进行了说明,但也可以使可动体2和固定体3中的一方具有向与可动体2和固定体3中的另一方相反的方向凹陷的第一收容凹部和第二收容凹部。此外,例如,可动体2和固定体3中的一方可以具有第一收容凹部,而可动体2和固定体3中的另一方可以具有第二收容凹部。
对置面61a在第一方向X上与第一支承体30的下表面31e对置。第一收容凹部61b和第二收容凹部61c配置在对置面61a上。第一收容凹部61b及第二收容凹部61c在第一方向X上向与可动体2相反的方向凹陷。即,第一收容凹部61b及第二收容凹部61c向第一方向X的一侧X1凹陷。第一收容凹部61b在第一方向X上与第一支承体30的第一凹部31f相对。第一收容凹部61b配置在以摆动轴线A2为中心的同一圆周C(参照图13)上。第一收容凹部61b收容第一凸部71的一部分。因此,第一凸部71配置在摆动轴线A2上。
另外,第二收容凹部61c与第一收容凹部61b分离。因此,第二收容凹部61c从摆动轴线A2离开。另外,在本实施方式中,第二收容凹部61c与第一收容凹部61b隔开距离而分离。另外,第二收容凹部61c收容第二凸部72的一部分。因此,多个第二凸部72配置在以摆动轴线A2为中心的同一圆周C上。因此,能够在距第一凸部71的距离相等的位置支承可动体2。其结果是,能够更稳定地支承可动体2。另外,摆动轴线A2的轴线方向是沿着第一方向X的方向。
另外,两个第二收容凹部61c在沿第三方向Z排列的状态下配置在比第一收容凹部61b更远离光学元件10的位置。
第一收容凹部61b保持第一凸部71的一部分。在本实施方式中,第一凸部71的下半部分配置在第一收容凹部61b内。第一凸部71具有球面的至少一部分。因此,由于第一凸部71与可动体2和固定体3中的另一方点接触,所以能够进一步减小第一凸部71与可动体2和固定体3中的另一方之间的摩擦力。在本实施方式中,由于第一凸部71与可动体2点接触,因此能够进一步减小第一凸部71与可动体2之间的摩擦力。
另外,在本实施方式中,第一凸部71为球体。因此,第一凸部71与第一凹部31f之间的摩擦成为滚动摩擦。其结果是,能够抑制第一凸部71与第一凹部31f之间的摩擦力变大。具体而言,第一凸部71能够在第一收容凹部61b内旋转。因此,第一凸部71与第一凹部31f之间的摩擦成为滚动摩擦。另外,第一凸部71也可以使用例如粘接剂相对于第一凹部31f固定。
第二收容凹部61c保持第二凸部72的一部分。在本实施方式中,第二凸部72的下半部分配置在第二收容凹部61c内。第二凸部72具有球面的至少一部分。因此,由于第二凸部72与可动体2和固定体3中的另一方点接触,所以能够减小第二凸部72与可动体2和固定体3中的另一方之间的摩擦力。在本实施方式中,由于第二凸部72与可动体2点接触,因此能够减小第二凸部72与可动体2之间的摩擦力。
另外,在本实施方式中,第二凸部72为球体。因此,第二凸部72与可动体2及固定体3中的另一方之间的摩擦成为滚动摩擦,因此能够抑制摩擦力。在本实施方式中,第二凸部72与可动体2之间的摩擦为滚动摩擦。具体而言,第二凸部72能够在第二收容凹部61c内旋转。因此,第二凸部72与第一支承体30的第二凹部31g之间的摩擦成为滚动摩擦。另外,第二凸部72也可以相对于第二凹部31g使用例如粘接剂固定。
另外,如图5C和图13所示,第一收容凹部61b也可以具有中心凹部611。中心凹部611与第一收容凹部61b配置在同一圆周上。第一凸部71与中心凹部611的边缘接触。中心凹部611的直径小于第一凸部71的直径。因此,例如,即使在第一凸部71的外周面与第一收容凹部61b的内周面之间产生间隙的情况下,也能够利用中心凹部611对第一凸部71进行定位。即,能够将第一凸部71的中心配置在中心凹部611的中心轴上。其结果,能够容易地将第一凸部71的中心配置在第一收容凹部61b的中心轴上。
另外,如图5D和图13所示,第二收容凹部61c也可以具有中心凹部611。中心凹部611与第二收容凹部61c配置在同一圆周上。第二凸部72与中心凹部611的边缘接触。中心凹部611的直径比第二凸部72的直径小。因此,例如即使在第二凸部72的外周面与第二收容凹部61c的内周面之间产生间隙的情况下,也能够利用中心凹部611对第二凸部72进行定位。即,能够将第二凸部72的中心配置在中心凹部611的中心轴上。其结果是,能够容易地将第二凸部72的中心配置在第二收容凹部61c的中心轴上。
另外,第一凸部71和第二凸部72的材质为陶瓷。因此,能够抑制第一凸部71及第二凸部72磨损。另外,第一凸部71和第二凸部72的材质也可以是金属。在该情况下,也能够抑制第一凸部71和第二凸部72磨损。另外,第一凸部71和第二凸部72的整体可以由金属形成,也可以例如通过电镀处理而仅第一凸部71和第二凸部72的表面由金属形成。另外,第一凸部71和第二凸部72也可以由树脂形成。
另外,第一凸部71相对于光学元件10的反射面13(参照图5A)配置于第一方向X的一方侧X1。因此,能够不遮断光路地配置第一凸部71。
如图5C、图8及图11所示,光学单元1具有配置在可动体2及固定体3中的一方的磁铁151和配置在可动体2及固定体3中的另一方的磁性体152。磁性体152是由磁性体构成的板状部件。磁铁151安装在安装板153上。而且,磁铁151与磁性体152重叠。具体而言,从固定体3支承可动体2的方向(第一方向X)观察,磁铁151与磁性体152重叠。因此,在固定体3支承可动体2的方向上,能够在磁铁151与磁性体152之间产生相互吸引的力(以下也记载为引力)。
在此,磁铁151包括第一磁铁151p和第二磁铁151q。第一磁铁151p和第二磁铁151q沿着第三方向Z排列。第一磁铁151p位于第三方向的另一侧Z2,第二磁铁151q位于第三方向的一侧Z1。在本说明书中,有时将第一磁铁151p和第二磁铁151q统称为磁铁151。这里,第一磁铁151p和第二磁铁151q安装在安装板153上。
这里,磁性体152包括第一磁性体152p和第二磁性体152b。第一磁性体152p和第二磁性体152b沿着第三方向Z排列。第一磁性体152p位于第三方向的另一方侧Z2,第二磁性体152b位于第三方向的一方侧Z1。在本说明书中,有时将第一磁性体152p和第二磁性体152b统称为磁性体152。
在固定体3上设有贯通孔61d以及与贯通孔61d相连的凹陷部61e(图5C)。贯通孔61d在X方向上贯通固定体3的底部。凹陷部61e从固定体3的第一方向的一侧X1凹陷。
从固定体3支承可动体2的方向(第一方向X)观察,第一磁铁151p与第一磁性体152p重叠。另外,从固定体3支承可动体2的方向(第一方向X)观察,第二磁铁151q与第二磁性体152b重叠。
这样,由于磁铁151与磁性体152重叠,所以在可动体2与固定体3之间作用有朝向相互接近的方向的力。换言之,引力作用于可动体2及固定体3。因此,在不驱动摆动机构110及摆动机构120的情况下,通过磁铁151与磁性体152之间的引力,可动体2被保持在基准位置。如图5B所示,基准位置是第一支承体30的侧面部32与第二支承体60的侧面部62平行的位置。另外,通过在磁铁151与磁性体152之间产生引力,能够抑制可动体2向第一方向X的另一侧X2移动。
另外,如图5C、图8以及图11所示,可动体2以及固定体3中的至少一方也可以具有配置在磁铁151与磁性体152之间的覆盖部301。覆盖部301覆盖磁铁151和磁性体152中的一方的轮廓的至少一部分。因此,能够通过覆盖部301抑制磁铁151及磁性体152中的一方剥离或位置偏移。覆盖部301例如也可以覆盖磁铁151和磁性体152中的一方的轮廓的全部。
覆盖部301的材质没有特别限定,例如可以使用树脂或金属。在本实施方式中,覆盖部301例如由作为非磁性体的树脂形成。
另外,磁铁151和磁性体152中的一方的至少一部分配置在可动体2和固定体3中的至少一方的内部。在本实施方式中,磁铁151和磁性体152中的一方整体配置在可动体2和固定体3中的至少一方的内部。因此,与例如将磁铁151和磁性体152中的一方配置在可动体2和固定体3中的至少一方的外部的情况不同,能够抑制可动体2和固定体3中的至少一方大型化。
在本实施方式中,磁铁151配置在固定体3上。磁性体152配置在可动体2上。另外,在本实施方式中,可动体2具有配置在磁铁151与磁性体152之间的覆盖部301。覆盖部301覆盖磁性体152中的磁铁151侧的表面(以下有时记载为下表面152a)的整个区域。在本实施方式中,磁性体152整体配置在可动体2的内部。
另外,可动体2和固定体3中的至少一方具有第一部件和覆盖部301,该第一部件具有配置磁铁151和磁性体152中的一方的收容部303a。第一部件和覆盖部301是单个部件。因此,例如与由不同部件形成第一部件和覆盖部301的情况相比,能够削减部件数量。另外,如后所述,第一部件和覆盖部301也可以是相互不同的部件。在本实施方式中,可动体2具有支承主体31,该支承主体31具有收容磁铁151和磁性体152中的一方的收容部303a。另外,支承主体31是本实用新型的“第一部件”的一例。另外,在本实施方式中,可动体2具有具备配置磁性体152的收容部303a的支承主体31和覆盖部301。
另外,第一部件具有朝向与可动体2和固定体3中的至少另一方相反的一侧的相反面。收容部303a从相反面向可动体2及固定体3中的至少另一方凹陷。因此,能够容易地由单一部件形成第一部件和覆盖部301。在本实施方式中,支承主体31具有朝向固定体3的相反侧的上表面31a。即,在本实施方式中,支承主体31在第一方向X上与下表面31e相反的位置具有朝向第一方向X的另一侧X2的上表面31a。下表面31e在第一方向X的另一侧X2上与固定体3的对置面61a相对。收容部303a从上表面31a朝向固定体3凹陷。另外,上表面31a是本实用新型的“相反面”的一例。
磁性体152嵌入到收容部303a中。因此,磁性体152被固定于收容部303a。例如,磁性体152通过粘接剂或压入而固定于收容部303a。
磁铁151和磁性体152也可以分别设置多个。换言之,光学单元1也可以具有多个磁铁151以及多个磁性体152。在本实施方式中,光学单元1具有两个磁铁151和两个磁性体152。
在本实施方式中,磁铁151及磁性体152分别在与第一方向X及第二方向Y交叉的第三方向Z上以摆动轴线A2为中心对称地配置。因此,由于引力以摆动轴线A2为中心对称地作用,所以可动体2的摆动稳定。
磁铁151和磁性体152中的另一方配置在可动体2和固定体3中的另一方的内部。在本实施方式中,磁铁151配置在固定体3的内部。具体而言,固定体3具有贯通孔61d。固定体3具有多个贯通孔61d。在本实施方式中,固定体3具有两个贯通孔61d。
这里,贯通孔61d包括贯通孔61dp和贯通孔61dq。例如,在贯通孔61dp配置有第一磁铁151p,在贯通孔61dq配置有第二磁铁151q。贯通孔61dp和贯通孔61dq沿着第三方向Z排列。贯通孔61dp位于第三方向的另一侧Z2,贯通孔61dq位于第三方向的一侧Z1。在本说明书中,有时将贯通孔61dp和贯通孔61dq统称为贯通孔61d。在此,凹陷部61e分别与贯通孔61dp及贯通孔61dq相连。
贯通孔61d配置于支承主体61的对置面61a。贯通孔61d在第一方向X上向与可动体2相反的方向凹陷。即,贯通孔61d向第一方向X的一侧X1凹陷。贯通孔61d在第一方向X上与磁性体152相对。即,从第一方向X观察,贯通孔61d与磁性体152重叠。
磁铁151嵌入贯通孔61d中。因此,磁铁151被固定于贯通孔61d。例如,磁铁151通过粘接剂或压入而固定于贯通孔61d。
在本实施方式中,磁铁151通过粘接剂固定于贯通孔61d。在将磁铁151固定于贯通孔61d的情况下,在贯通孔61d内配置粘接剂(未图示)之后,将磁铁151配置于贯通孔61d的内部。由此,利用粘接剂(未图示)将磁铁151固定于贯通孔61d。
另外,在本实施方式中,磁铁151和摆动机构120的后述的第二磁铁121是不同的部件。因此,与磁铁151构成摆动机构120的情况不同,能够使磁铁151成为在与磁性体152之间产生引力的专用磁铁,因此能够将磁铁151配置在接近磁性体152的位置。因此,即使在减小磁铁151以及磁性体152的情况下,也能够在磁铁151与磁性体152之间充分地产生引力。
如图12和图13所示,在第二支承体60中,一对侧面部62配置在支承主体61的第三方向Z的两端。一对侧面部62具有在第三方向Z上相互对称的形状。侧面部62具有配置摆动机构120的第二线圈125的收容孔62a。收容孔62a沿厚度方向贯通侧面部62。即,收容孔62a在第三方向Z上贯通侧面部62。
背面部63配置在支承主体61的第二方向Y的另一侧Y2的端部。背面部63具有配置摆动机构110的第一线圈115的收容孔63a。收容孔63a沿厚度方向贯通背面部63。即,收容孔63a沿第二方向Y贯通背面部63。
FPC(Flexible Printed Circuit)80以覆盖一对侧面部62的外侧及背面部63的外侧的方式配置。FPC80例如具有半导体元件、连接端子以及布线。FPC80在预定时刻向摆动机构110的第一线圈115和摆动机构120的第二线圈125供应电力。
具体而言,如图11所示,FPC80具有基板81、连接端子82、加强板83以及磁性体84。基板81例如由聚酰亚胺基板构成。基板81具有挠性。基板81具有多个销插入孔81a。销插入孔81a与第一线圈115相对。在各销插入孔81a中配置有第一线圈115的线圈销(未图示)。
连接端子82配置在基板81上。连接端子82与摆动机构110和摆动机构120相对。连接端子82与未图示的霍尔元件的端子电连接。另外,对于1个霍尔元件例如配置4个连接端子82。在基板81上配置有3个加强板83。加强板83与摆动机构110和摆动机构120相对。加强板83抑制基板81弯曲。
在基板81上配置有3个磁性体84。两个磁性体84与摆动机构120的第二磁铁121相对。在不向第二线圈125通电的状态下,在第二磁铁121和磁性体84之间产生引力。由此,可动体2在以摆动轴线A2为中心的旋转方向上配置在基准位置。另外,剩余的一个磁性体84与摆动机构110的第一磁铁111相对。在第一线圈115未通电的状态下,在第一磁铁111和磁性体84之间产生引力。由此,可动体2在以摆动轴线A1为中心的旋转方向上配置在基准位置。另外,通过在第一磁铁111及磁性体84之间产生引力,能够抑制支架20向第二方向Y的一侧Y1脱出。
如图5A及图5B所示,光学单元1还具有摆动机构110。摆动机构110以摆动轴线A1为中心使支架20相对于第一支承体30摆动。因此,能够容易地使光学元件10分别以两个摆动轴线(摆动轴线A1和摆动轴线A2)为中心摆动。摆动机构110具有第一磁铁111和第一线圈115。第一线圈115在第二方向Y上与第一磁铁111相对。
第一磁铁111配置在支架20和第二支承体60中的一方上。另一方面,第一线圈115配置在支架20和第二支承体60中的另一方上。因此,由于在第一线圈115中流过电流时产生的磁场,力作用于第一磁铁111。并且,支架20相对于第一支承体30摆动。由此,能够以使用了第一磁铁111以及第一线圈115的简单的结构使支架20摆动。在本实施方式中,第一磁铁111配置在支架20上。第一线圈115配置在第二支承体60上。通过将第一线圈115配置在第二支承体60上,第一线圈115不会相对于第二支承体60摆动。因此,与将第一线圈115配置在例如第一支承体30上的情况相比,能够容易地对第一线圈115进行布线。
具体而言,第一磁铁111配置于支架20的背面21b。即,第一磁铁111配置于支架20中的第二方向Y的另一侧Y2的端部20a。第一磁铁111具有由n极构成的n极部111a和由s极构成的s极部111b。第一磁铁111在第一方向X上极化。
第一线圈115配置在第二支承体60的背面部63的收容孔63a中。即,第一线圈115配置于第二支承体60中的第二方向Y的另一侧Y2的端部60a。因此,能够抑制第一线圈115以及第一磁铁111配置在光路上。由此,能够抑制光路被第一线圈115以及第一磁铁111遮断。
通过对第一线圈115通电,在第一线圈115的周边产生磁场。并且,由磁场引起的力作用于第一磁铁111。其结果是,支架20及光学元件10以摆动轴线A1为中心相对于第一支承体30及第二支承体60摆动。
摆动机构120使可动体2以摆动轴线A2为中心摆动。具体而言,摆动机构120以摆动轴线A2为中心使第一支承体30相对于第二支承体60摆动。摆动机构120具有第二磁铁121和与第二磁铁121相对的第二线圈125。另外,第二磁铁121是本实用新型的“摆动磁铁”的一例。另外,第二线圈125是本实用新型的“摆动线圈”的一例。第二磁铁121配置在可动体2或固定体3上。第二线圈125配置在固定体3或可动体2上。在本实施方式中,第二磁铁121配置在第一支承体30和第二支承体60中的一方。另一方面,第二线圈125配置在第一支承体30和第二支承体60中的另一方。因此,通过使电流流过第二线圈125时产生的磁场,第一支承体30相对于第二支承体60摆动。由此,能够以使用了第二磁铁121以及第二线圈125的简单的结构使第一支承体30摆动。在本实施方式中,第二磁铁121配置在第一支承体30上。第二线圈125配置在第二支承体60上。通过将第二线圈125配置在第二支承体60上,第二线圈125不会相对于第二支承体60摆动。因此,与将第二线圈125配置在例如第一支承体30上的情况相比,能够容易地对第二线圈125进行布线。
具体而言,第二磁铁121配置于第一支承体30的侧面部32的收容凹部32f(参照图8)。即,第二磁铁121配置于第一支承体30中与第一方向X交叉的方向的端部30a。在本实施方式中,第二磁铁121配置于第三方向Z的端部30a。第二磁铁121具有由n极构成的n极部121a和由s极构成的s极部121b。第二磁铁121在与第一方向X交叉的第二方向Y上被极化。因此,能够以沿着光的入射方向的摆动轴线A2为中心摆动可动体2。
第二线圈125在第三方向Z上与第二磁铁121相对。第二线圈125配置于第二支承体60的侧面部62的收容孔62a(参照图12)。即,第二线圈125配置于第二支承体60中的第三方向Z的端部60b。
通过对第二线圈125通电,在第二线圈125的周边产生磁场。并且,由磁场引起的力作用于第二磁铁121。其结果是,第一支承体30、支架20及光学元件10以摆动轴线A2为中心相对于第二支承体60摆动。
光学单元1的固定体3通过安装配置有第一磁铁151p和第二磁铁151q的安装板153来制作。
图14是表示本实施方式的光学单元1的固定体3的组装的图。如图14所示,在安装板153上安装有第一磁铁151p和第二磁铁151q。安装板153从第一方向的一侧X1朝向第一方向的另一侧X2安装于固定体3。由此,第一磁铁151p插入到第二支承体60的贯通孔61dp,第二磁铁151q插入到第二支承体60的贯通孔61dq。
本实施方式的光学单元1具有:支架20,其搭载有将向第一方向的一侧X1行进的光向与第一方向X交叉的第二方向的一侧Y1反射的光学元件10;第一支承体30,其支承支架20;固定体3,其支承第一支承体30;摆动机构120,其使第一支承体30相对于固定体3以摆动轴线A2为中心摆动;第一磁铁151p,其配置在固定体3上;以及第一磁性体152p,其配置在第一支承体30上。从第一方向X观察,第一磁铁151p及第一磁性体152p的至少一部分重叠。第一磁铁151p位于设置于第一支承体30的贯通孔61dp。
另外,在此,第一磁铁151p配置在固定体3上,第一磁性体152p配置在第一支承体30上,但第一磁铁151p也可以配置在支架20、第一支承体30及固定体3这三个部件中的任意一个上,第一磁性体152p也可以配置在支架20、第一支承体30及固定体3这三个部件中的剩余两个部件中的任意一个上。
另外,在此,从第一方向X观察,第一磁铁151p以及第一磁性体152p的至少一部分重叠,但也可从第一方向X、第二方向Y以及第三方向Z中的任一方向观察,第一磁铁151p以及第一磁性体152p的至少一部分重叠。
另外,在此,第一磁铁151p位于设置于固定体3的贯通孔61d,但也可以第一磁铁151p及第一磁性体152p中的至少一方位于贯通孔。在这种情况下,第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方可以位于设置在第一支承体30和固定体3中的至少一方上的贯通孔中。
如上所述,本实施方式的光学单元1具有:支架20,其搭载有将向第一方向的一侧X1行进的光向与第一方向X交叉的第二方向的一侧Y1反射的光学元件10;第一支承体30,其支承支架20;固定体3,其支承第一支承体30;摆动机构120,其使第一支承体30相对于固定体3以摆动轴线A2为中心摆动;第一磁铁151p,其配置在支架20、第一支承体30以及固定体3这三个部件中的任意一个上;以及第一磁性体152p,其配置在支架20、第一支承体30以及固定体3这三个部件中的剩余两个部件中的任意一个上。从第一方向X、第二方向Y、以及分别与第一方向X和第二方向Y交叉的第三方向Z中的任一方向观察,第一磁铁151p和第一磁性体152p的至少一部分重叠。第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方位于设置在第一支承体30和固定体3中的至少一方上的贯通孔中。
在从光向光学元件10行进的第一方向X、光学元件10反射光的第二方向Y、以及分别与第一方向X和第二方向Y交叉的第三方向中的任一方向观察至少一部分重叠的第一磁铁151p和第一磁性体152p中,能够抑制第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方的位置因公差而偏移。
从固定体3支承第一支承体30的支承方向观察,第一磁铁151p及第一磁性体152p的至少一部分重叠。由此,在从固定体3支承第一支承体30的支承方向观察至少一部分重叠的第一磁铁151p及第一磁性体152p中,能够抑制第一磁铁151p及第一磁性体152p中的至少一方的位置因公差而偏移。
在本实施方式中,第一磁铁151p配置在第一支承体30上,第一磁性体152p配置在固定体3上。在从第一方向~第三方向中的任一方向观察至少一部分重叠的第一磁铁151p和第一磁性体152p中,能够抑制设置于第一支承体30和固定体3的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方的位置因公差而偏移。
另外,在此,第一磁铁151p配置在固定体3上,第一磁性体152p配置在第一支承体30上,但第一磁铁151p也可以配置在第一支承体30及固定体3中的一方上,第一磁性体152p也可以配置在第一支承体30及固定体3中的另一方上。
这样,第一磁铁151p配置在第一支承体30和固定体3中的一方。第一磁性体152p配置在第一支承体30和固定体3中的另一方。在从第一方向~第三方向中的任一方向观察至少一部分重叠的第一磁铁151p和第一磁性体152p中,能够抑制设置于第一支承体30和固定体3的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方的位置因公差而偏移。
第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方与摆动机构120配置在不同的面上。能够抑制第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方与摆动机构120磁干涉。
第一磁铁151p配置在贯通孔61d中。贯通孔61d具有位于第一磁性体152p侧的一端的开口部61da和位于比一端的开口部61da更远离第一磁性体152p的位置的另一端的开口部61db。贯通孔61d中的第一磁铁151p与一端的开口部61da之间的距离小于贯通孔61d中的第一磁铁151p的一方与另一端的开口部61db之间的距离。通过将第一磁铁151p在贯通孔61d内配置在第一磁性体152p的另一方的附近,能够增大第一磁铁151p与第一磁性体152p之间的吸引力。
另外,在此,第一磁铁151p配置于贯通孔61d,但也可以第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d。
第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d。贯通孔61d具有位于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方侧的一端的开口部61da、和相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方位于比一端的开口部61da远的位置的另一端的开口部61db。贯通孔61d中的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与一端的开口部61da之间的距离也可以比贯通孔61d中的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与另一端的开口部61db之间的距离小。通过将第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方在贯通孔61d内配置在第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方的附近,能够增大第一磁铁151p和第一磁性体152p之间的吸引力。
在上述实施方式中,第一磁铁151p配置于贯通孔61d。贯通孔61d具有位于第一磁性体152p侧的一端的开口部61da和位于比一端的开口部61da更远离第一磁性体152p的位置的另一端的开口部61db。光学单元1还具有安装板153,该安装板153在贯通孔61d内相对于第一磁铁151p位于另一端的开口部61db侧,并安装有第一磁铁151p。通过安装有第一磁铁151p的安装板153,能够容易地插入第一磁铁151p。
这里,第一磁铁151p配置在贯通孔61d中。贯通孔61d具有位于第一磁性体152p侧的一端的开口部61da和位于比一端的开口部61da更远离第一磁性体152p的位置的另一端的开口部61db。光学单元1还具有安装板153,该安装板153在贯通孔61d内相对于第一磁铁151p位于另一端的开口部61db侧,并安装有第一磁铁151p。通过安装有第一磁铁151p的安装板153,能够容易地插入第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方。
固定体3还具有位于贯通孔61d中的粘接剂。通过粘接剂,能够抑制第一磁铁151p在贯通孔61d内偏移。进而,能够利用粘接剂抑制第一磁铁151p生锈。
第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方也可以位于贯通孔61d。光学单元1还具有位于贯通孔61d中的粘接剂。通过粘接剂,能够抑制第一磁铁151p和第一磁性体152p中的至少一方在贯通孔61d内偏移。进而,能够抑制第一磁铁151p以及第一磁性体152p因粘接剂而生锈。
这样,第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d。贯通孔61d具有位于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方侧的一端的开口部61da、和相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方位于比一端的开口部61da远的位置的另一端的开口部61db。光学单元1还具备安装板153,该安装板153在贯通孔61d内相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方位于另一端的开口部61db侧,安装有第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方。通过安装有第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方的安装板153,能够容易地插入第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方。
贯通孔61d位于固定体3上。通过在位于第一支承体30的外侧的固定体3上设置贯通孔61d,能够容易地将第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方插入贯通孔61d。
第一磁铁151p位于固定体3上。即使在支架20相对于第一支承体30摆动时使用磁铁的情况下,也能够抑制对第一磁铁151p的影响。
光学单元1还具有:第二磁铁151q,其配置在支架20、第一支承体30以及固定体3这三个部件中的任意一个上;以及第二磁性体152q,其配置在支架20、第一支承体30以及固定体3这三个部件中的剩余两个部件中的任意一个上。从第一方向X、第二方向Y以及第三方向Z中的任一方向观察,第二磁铁151q以及第二磁性体152q的至少一部分重叠。第二磁铁151q和第二磁性体152q中的至少一方位于设置在第一支承体30和固定体3中的至少一方上的贯通孔中。通过多个磁性弹簧能够相对于固定体稳定地支承第一支承体30。
配置有第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方的贯通孔61d具有位于第一磁铁151p和第一磁性体152p的另一方侧的一端的开口部、和相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方位于比一端的开口部61da远的位置的另一端的开口部。配置有第二磁铁151q和第二磁性体152q中的一方的贯通孔具有位于第二磁铁151q和第二磁性体152q中的另一方侧的一端的开口部、以及相对于第二磁铁151q和第二磁性体152q中的另一方位于比一端的开口部61da远的位置的另一端的开口部。
第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与贯通孔61dp的一端的开口部61da之间的距离与第二磁铁151q和第二磁性体152q中的一方与贯通孔61dq的一端的开口部61da之间的距离相等。通过使贯通孔61dp内的磁铁151及磁性体152与贯通孔的一端的开口部61da之间的距离相等,能够在两个以上的部位均匀地施加磁力。
光学单元1还具有使支架20相对于第一支承体30以与摆动轴线A2交叉的摆动轴线A1为中心摆动的摆动机构110。通过摆动机构120,能够使支架20以与摆动轴线A2交叉的摆动轴线A1为中心摆动。
从第一方向X观察时,第一磁铁151p和第二磁铁151q位于相对于与摆动轴线A2正交的方向(摆动轴线A1)对称的位置。从第一方向X观察,第一磁性体152p及第二磁性体152q位于相对于与摆动轴线A2正交的方向(摆动轴线A1)对称的位置。由此,能够将第一支承体30相对于固定体3对称地配置在摆动轴线A1上。
另外,在如图1所示那样将光学单元1用于智能手机200的情况下,智能手机200具备上述记载的光学单元1。由此,能够将光学单元1利用于智能手机200。
智能手机200内的霍尔元件(未图示)检测智能手机200的姿势。然后,根据智能手机200的姿势来控制摆动机构110和摆动机构120。另外,光学单元1优选能够检测支架20相对于第二支承体60的姿势。在该情况下,能够高精度地控制支架20相对于第二支承体60的姿势。另外,作为检测智能手机200的姿势的传感器,例如也可以使用陀螺仪传感器。
以下,参照图15至图22,对本实施方式的变形例进行说明。以下,主要说明与图1至图14所示的本实施方式的不同点。
(变形例)
首先,参照图15对本实用新型的实施方式的变形例进行说明。图15是表示本实施方式的变形例的光学单元1的固定体3的制作的剖视图。
如图15所示,可以使用夹具Jg来制造固定体3。夹具Jg具有平坦部J1和突起部J2。平坦部J1是在XY平面上扩展的平板部件。突起部J2从平坦部J1朝向第一方向X的另一侧X2突起。突起部J2包括突起部J2p和突起部J2q。突起部J2p和突起部J2q分别为长方体形状。突起部J2p及突起部J2q从第一方向X观察,对称地位于摆动轴线A1上。
在突起部J2p的第一方向X的另一侧X2配置有第一磁铁151p。在突起部J2q的第一方向X的另一侧X2配置有第二磁铁151q。
例如,突起部J2p和第一磁铁151p的第一方向X上的长度与贯通孔61dp的第一方向X上的长度大致相等。但是,突起部J2p和第一磁铁151p的第一方向X上的长度也可以比贯通孔61dp的第一方向X上的长度短。
同样地,突起部J2q和第二磁铁151q的第一方向X的长度与贯通孔61dq的第一方向X的长度大致相等。但是,突起部J2q和第一磁铁151p的第一方向X上的长度也可以比贯通孔61dq的第一方向X上的长度短。
在突起部J2p配置有第一磁铁151p,且在突起部J2q配置有第二磁铁151q的状态下,夹具Jg插入第二支承体60。由此,第一磁铁151p插入贯通孔61dp,第二磁铁151q插入贯通孔61dq。
第一磁铁151p和第二磁铁151q在插入贯通孔61dp和贯通孔61dq的状态下固定于贯通孔61dp和贯通孔61dq。例如,通过在将第一磁铁151p和第二磁铁151q插入贯通孔61dp和贯通孔61dq的状态下注入粘接剂,将第一磁铁151p和第二磁铁151q固定于贯通孔61dp和贯通孔61dq。
之后,将夹具Jg从第二支承体60拔出。由此,能够制作第一磁铁151p及第二磁铁151q插入到贯通孔61dp及贯通孔61dq的固定体3。
图16是表示本实施方式的变形例的光学单元1的结构的剖视图。如图16所示,在贯通孔61d内,在第一磁铁151p与另一端的开口部61db之间设有空隙V。在第一磁铁151p所处的贯通孔61d内,在相对于第一磁铁151p较宽的空间中设置空隙V。这样的空隙V在使用夹具Jg将第一磁铁151p配置于贯通孔61d的情况下适当地形成。
另外,也可以在贯通孔61d中配置第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方。在贯通孔61d内,在第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方与另一端的开口部61db之间设置有空隙V。在第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方所处的贯通孔61d内,在相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方宽的空间中设置空隙V。在使用夹具Jg将第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d的情况下,优选形成这样的空隙V。
同样,在贯通孔61d内,在第二磁铁151q及第二磁性体152q中的一方与另一端的开口部61db之间设置有空隙V。在第二磁铁151q和第二磁性体152q中的一方所位于的贯通孔61d内,在相对于第二磁铁151q和第二磁性体152q中的一方较宽的空间中设置空隙V。在使用夹具Jg将第二磁铁151q和第二磁性体152q中的一方配置于贯通孔61d的情况下,优选形成这样的空隙V。
另外,在图16所示的光学单元1中,第一磁铁151p位于与第二支承体60的底面大致相同的面,第二磁铁151q位于与第二支承体60的底面大致相同的面,但本实施方式并不限定于此。第一磁铁151p也可以位于从贯通孔61dp的一端的开口部61da离开的位置,第二磁铁151q也可以位于从贯通孔61dp的一端的开口部61da离开的位置。在该情况下,也优选贯通孔61d中的第一磁铁151p与一端的开口部61da之间的距离小于贯通孔61d中的第一磁铁151p与另一端的开口部61db之间的距离。通过将第一磁铁151p在贯通孔61d内配置在第一磁性体152p的附近,能够增大第一磁铁151p与第一磁性体152p之间的吸引力。
这样,贯通孔61d中的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与一端的开口部61da之间的距离优选比贯通孔61d中的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与另一端的开口部61db之间的距离小。通过将第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方在贯通孔61d内配置在第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方的附近,能够增大第一磁铁151p和第一磁性体152p之间的吸引力。
另外,在图16所示的固定体3中,在贯通孔61d内,在第二磁铁151q与另一端的开口部61db之间设置有空隙V,但空隙V也可以被填充。例如,也可以在空隙V配置由粘接剂构成的粘接层。
图17是表示本实施方式的变形例所涉及的光学单元1的结构的剖视图。如图17所示,第一磁铁151p配置在贯通孔61d中。贯通孔61d具有位于第一磁性体152p侧的一端的开口部61da和位于比一端的开口部61da更远离第一磁性体152p的位置的另一端的开口部61db。固定体3在贯通孔61d内还具备位于第一磁铁151p与另一端的开口部61db之间的粘接层154。粘接层154由粘接剂构成。
另外,第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方也可以配置在贯通孔61d中。第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d。贯通孔61d具有位于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方侧的一端的开口部61da、和相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方位于比一端的开口部61da远的位置的另一端的开口部61db。在贯通孔61d内,还具备位于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与另一端的开口部61db之间的粘接层154。
在第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方所位于的贯通孔61dp内,在相对于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方宽的空间中设置粘接层154。这样的粘接层154在使用夹具将第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61dp之后,通过用粘接剂填埋空隙而适当地形成。
另外,在图17中,在第一磁铁151p与贯通孔61d的另一端的开口部61db之间设置有粘接层154,但粘接层也可以设置在其他位置。
图18是表示本实施方式的光学单元1的剖面的图。如图18所示,光学单元1在贯通孔61d内还具有位于第一磁铁151p与安装板153之间的粘接层155。通过粘接层155,能够将第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方与安装板153粘接。
光学单元1还具有粘接层155,其位于贯通孔61d内的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方与安装板153之间。通过粘接层155,能够将第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方与安装板153粘接。
接着,参照图19A和图19B说明本实用新型的实施方式的变形例。图19A和图19B是表示本实施方式的变形例的光学单元1的固定体3的制作的剖视图。
如图19A和图19B所示,固定体3可以使用夹具Jg来制造。夹具Jg具有平坦部J1和突起部J3。平坦部J1是在XY平面上扩展的平板部件。突起部J3从平坦部J1朝向第一方向X的一侧X1突起。突起部J3包括突起部J3p和突起部J3q。突起部J3p和突起部J3q分别是一端开口的中空箱形状。突起部J3p和突起部J3q从第一方向X观察时对称地位于摆动轴线A1上。
在安装板153上安装有第一磁铁151p和第二磁铁151q。安装板153从第一方向的一侧X1朝向第一方向的另一侧X2安装于固定体3。磁铁151包括第一磁铁151p和第二磁铁151q。第一磁铁151p和第二磁铁151q沿着第三方向Z排列。由此,第一磁铁151p插入到第二支承体60的贯通孔61dp,第二磁铁151q插入到第二支承体60的贯通孔61dq。
突起部J3p的外径与第二支承体60的贯通孔61dp的内径大致相等。突起部J3p的内径与第一磁铁151p的外径大致相等。同样,突起部J3q的外径与第二支承体60的贯通孔61dq的内径大致相等。突起部J3q的内径与第二磁铁151q的外径大致相等。
因此,在将夹具Jg的突起部J3p及突起部J3q插入第二支承体60的贯通孔61dp及贯通孔61dq的状态下,将安装于安装板153的第一磁铁151p及第二磁铁151q插入突起部J3p及突起部J3q,从而能够高精度地对第一磁铁151p及第二磁铁151q进行定位。
在这种情况下,优选在插入第一磁铁151p和第二磁铁151q之前,在第一磁铁151p和第二磁铁151q的周围施加粘接剂。由此,能够将第一磁铁151p及第二磁铁151q高精度地定位于第二支承体60的贯通孔61dp及贯通孔61dq。
另外,磁铁151优选与磁轭一起使用。由此,能够增大磁铁151的磁力。
图20是表示本实施方式的变形例的光学单元1中的固定体3的结构的剖视图。
如图20所示,光学单元1还具有在相对于第一磁铁151p与第一磁性体152p所处的一侧相反的一侧与第一磁铁151p接触的磁轭156。通过磁轭156,能够增大第一磁铁151p的磁力。磁轭156配置在凹陷部61e中。
同样地,相对于第二磁铁151q,在与第二磁性体152q所处一侧相反的一侧还具有与第二磁铁151q接触的磁轭156。通过磁轭156,能够增大第二磁铁151q的磁力。磁轭156配置在凹陷部61e中。
磁轭156的沿着与贯通孔61d延伸的长度方向(第一方向X)正交的孔径方向(例如第三方向Z)的长度比第一磁铁151p的沿着孔径方向的长度长。贯通孔61d的内径比第一磁铁151p的孔径方向的长度大,且比磁轭156的孔径方向的长度小。从贯通孔61d的一侧插入第一磁铁及磁轭,另一方面,能够抑制第一磁铁151p及磁轭156从贯通孔61d的另一侧露出。
另外,在固定体3上设置有第一磁铁151p所处的贯通孔61d以及与贯通孔61d相连的凹陷部61e。凹陷部61e的内径大于磁轭156沿孔径方向的长度。第一磁铁151pp配置在贯通孔61d中,将磁轭156配置在凹陷部61e中。
另外,第一磁铁151p也可以配置在第一支承体30和固定体3中的一方。在第一支承体30及固定体3中的一方设置有第一磁铁151p所处的贯通孔61d及与贯通孔61d相连的凹陷部61e。凹陷部61e的内径大于磁轭156沿孔径方向的长度。能够将第一磁铁151p配置在贯通孔61d中,将磁轭156配置在凹陷部中。
另外,在图20所示的光学单元1中,具有将四棱柱形状的第一磁铁151p及比第一磁铁151p宽的磁轭156一体化的凸缘结构,但本实施方式不限于此。第一磁铁151p自身也可以具有凸缘结构。
另外,贯通孔61d也可以构成为磁铁151或磁性体152无法通过。
图21是表示本实施方式的光学单元1的剖面的图。
如图21所示,第一磁铁151p的一方配置在贯通孔61d中。贯通孔61d具有位于第一磁性体152p侧的一端的开口部61da和位于比一端的开口部61da更远离第一磁性体152p的位置的另一端的开口部61db。在贯通孔61d中,一端的开口部61da的内径比沿着与贯通孔61d延伸的长度方向(第一方向X)正交的孔径方向(第二方向Y或第三方向Z)的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方的长度小。在贯通孔61d中另一端的开口部61db的内径比沿着孔径方向(第二方向Y或第三方向Z)的第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方的长度大。
第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方配置于贯通孔61d。贯通孔61d具有位于第一磁铁151p和第一磁性体152p中的另一方侧的一端的开口部、以及位于比一端的开口部61da远离第一磁铁151p和第一磁性体152p的另一方的另一端的开口部。在贯通孔61d中,一端的开口部61da的内径比沿着与贯通孔61d延伸的长度方向(第一方向X)正交的孔径方向(第二方向Y或第三方向Z)的第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方的长度小。在贯通孔61d中另一端的开口部61db的内径比沿着孔径方向(第二方向Y或第三方向Z)的第一磁铁151p及第一磁性体152p中的一方的长度大。能够抑制第一磁铁151p和第一磁性体152p中的一方从贯通孔61d向内侧飞出。
另外,在图1~图21所示的光学单元1中,贯通孔61d配置在固定体3上,但本实施方式并不限定于此。
图22是表示本实施方式的光学单元1的剖面的图。如图22所示,第一支承体30具有贯通孔31d。第一支承体30具有多个贯通孔31d。在本实施方式中,固定体3具有两个贯通孔31d。也可以在贯通孔31d中配置磁性体152。
以上,参照附图对本实用新型的实施方式(包括变形例)进行了说明。但是,本实用新型不限于上述的实施方式,在不脱离其主旨的范围内能够以各种方式实施。另外,通过适当组合上述实施方式中公开的多个构成要素,能够形成各种发明。例如,也可以从实施方式所示的全部构成要素中删除几个构成要素。例如,也可以适当组合不同实施方式中的构成要素。附图为了容易理解,以各个构成要素为主体示意地表示,图示的各构成要素的厚度、长度、个数、间隔等根据附图制作的情况有时与实际不同。另外,上述的实施方式所示的各构成要素的材质、形状、尺寸等是一个例子,没有特别限定,在实质上不脱离本实用新型的效果的范围内能够进行各种变更。
例如,在上述实施方式中,示出了将磁性体152配置在可动体2上、将磁铁151配置在固定体3上的例子,但本实用新型不限于此。例如,也可以将磁性体152配置于固定体3,将磁铁151配置于可动体2。
另外,在上述实施方式中,示出了将磁性体152整体配置在收容部303a的内部的例子,但本实用新型不限于此。磁性体152的一部分也可以配置在收容部303a的内部。
另外,在上述实施方式中,示出了将磁铁151和磁性体152配置成从固定体3支承可动体2的方向观察时重叠的例子,但本实用新型不限于此。也可以将磁铁151和磁性体152配置成从与固定体3支承可动体2的方向交叉的方向观察时重叠。
另外,在上述实施方式中,示出了固定体3在沿着光L入射到光学元件10的方向(第一方向X)上支承可动体2的例子,但本实用新型不限于此。例如,固定体3也可以在沿着光L从光学元件10射出的方向(第二方向Y)上支承可动体2。另外,固定体3也可以在与光L入射到光学元件10的方向以及从光学元件10出射的方向交叉的方向(第三方向Z)上支承可动体2。
另外,例如在上述实施方式中,示出了覆盖部301覆盖磁性体152的轮廓的整个区域的例子,但本实用新型不限于此。例如,覆盖部301也可以覆盖磁性体152的轮廓的一部分。在该情况下,例如,也可以配置等间隔地覆盖磁性体152的轮廓的多个覆盖部301。
另外,在上述实施方式中,示出了磁性体152由所谓的强磁性体构成的例子,但本实用新型不限于此。例如,磁性体152也可以是磁铁。即,磁性体152也可以是永久磁铁。
本实用新型例如能够利用于光学单元以及光学单元的制造方法。
Claims (21)
1.一种光学单元,其特征在于,具有:
支架,其搭载有将向第一方向的一侧行进的光向与所述第一方向交叉的第二方向的一侧反射的光学元件;
支承所述支架的支承体;
支承所述支承体的固定体;
第一摆动机构,其使所述支承体相对于所述固定体以第一摆动轴线为中心摆动;
第一磁铁,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的任意一个部件上;以及
第一磁性体,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的剩余两个部件中的任意一个部件上,
从所述第一方向、所述第二方向、以及分别与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向中的任一方向观察,所述第一磁铁和所述第一磁性体的至少一部分重叠,
所述第一磁铁和所述第一磁性体中的至少一方位于设置在所述支承体和所述固定体中的至少一方上的贯通孔中。
2.根据权利要求1所述的光学单元,其特征在于,
从所述固定体支承所述支承体的支承方向观察,所述第一磁铁及所述第一磁性体的至少一部分重叠。
3.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁配置于所述支承体及所述固定体中的一方上,
所述第一磁性体配置于所述支承体及所述固定体中的另一方上。
4.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁及所述第一磁性体中的至少一方与所述第一摆动机构配置于不同的面。
5.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,
所述贯通孔具有:
位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,
所述贯通孔中的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述一端的开口部之间的距离小于所述贯通孔中的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间的距离。
6.根据权利要求5所述的光学单元,其特征在于,
在所述贯通孔内,在所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间设置有空隙。
7.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
还具有位于所述贯通孔的粘接剂。
8.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,
所述贯通孔具有:
位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,
所述光学单元还包括粘接层,该粘接层在所述贯通孔内位于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述另一端的开口部之间。
9.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,
所述贯通孔具有:
位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,
所述光学单元还包括安装板,该安装板在所述贯通孔内相对于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方位于所述另一端的开口部一侧,且安装有所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方。
10.根据权利要求9所述的光学单元,其特征在于,
所述光学单元还包括粘接层,该粘接层在所述贯通孔内位于所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述安装板之间。
11.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述贯通孔位于所述固定体上。
12.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁位于所述固定体上。
13.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方配置于所述贯通孔,
所述贯通孔具有:
位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,
在所述贯通孔中,所述一端的开口部的内径比沿着与所述贯通孔延伸的长度方向正交的孔径方向的所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方的长度小,
在所述贯通孔中,所述另一端的开口部的内径大于沿着所述孔径方向的所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方的长度。
14.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
还具有磁轭,该磁轭相对于所述第一磁铁在与所述第一磁性体所在一侧相反的一侧与所述第一磁铁接触。
15.根据权利要求14所述的光学单元,其特征在于,
所述磁轭沿着与所述贯通孔延伸的长度方向正交的孔径方向的长度比所述第一磁铁沿着所述孔径方向的长度长,
所述贯通孔的内径比所述第一磁铁沿所述孔径方向的长度大,比所述磁轭沿所述孔径方向的长度小。
16.根据权利要求15所述的光学单元,其特征在于,
在所述支承体以及所述固定体中的一方设置有所述第一磁铁所位于的所述贯通孔以及与所述贯通孔相连的凹陷部,
所述凹陷部的内径大于所述磁轭沿所述孔径方向的长度。
17.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,还具有:
第二磁铁,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的任意一个部件上;以及
第二磁性体,其配置在所述支架、所述支承体以及所述固定体中的三个部件中的剩余两个部件中的任意一个部件上,
从所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向中的任一方向观察,所述第二磁铁以及所述第二磁性体的至少一部分重叠,
所述第二磁铁及所述第二磁性体中的至少一方位于设置于所述支承体及所述固定体中的至少一方上的贯通孔中。
18.根据权利要求17所述的光学单元,其特征在于,
配置有所述第一磁铁和所述第一磁性体中的一方的贯通孔具有:
位于所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第一磁铁和所述第一磁性体中的另一方的位置,
配置有所述第二磁铁和所述第二磁性体中的一方的贯通孔具有:
位于所述第二磁铁和所述第二磁性体中的另一方侧的一端的开口部;以及
另一端的开口部,其位于比所述一端的开口部远离所述第二磁铁和所述第二磁性体中的另一方的位置,
所述第一磁铁及所述第一磁性体中的一方与所述贯通孔的所述一端的开口部之间的距离,与所述第二磁铁及所述第二磁性体中的一方与所述贯通孔的所述一端的开口部之间的距离相等。
19.根据权利要求17所述的光学单元,其特征在于,
从所述第一方向观察,所述第一磁铁和所述第二磁铁位于相对于与所述第一摆动轴线正交的方向对称的位置,
从所述第一方向观察,所述第一磁性体及所述第二磁性体位于相对于与所述第一摆动轴线正交的方向对称的位置。
20.根据权利要求1或2所述的光学单元,其特征在于,
还具有第二摆动机构,该第二摆动机构使所述支架相对于所述支承体以与所述第一摆动轴线交叉的第二摆动轴线为中心摆动。
21.一种智能手机,其特征在于,包括权利要求1至20中任一项所述的光学单元。
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