CN220021059U - 一种砷化镓晶片表面清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于砷化镓晶片清洗技术领域，尤其是涉及一种砷化镓晶片表面清洗装置，包括接水盒，所述接水盒的上端焊接固定有支架，支架的顶部焊接有承载框，承载框的左右两端内侧均设有放置杆，两个所述放置杆相互靠近的一侧均设有分隔块。本实用新型将软管与外界供水源相连接，利用三通管以及两个输水管能够同时为两个分水管进行供水，并利用两个分水管相互靠近一侧设置的若干个加压喷头，能够将水朝向限位板中部通槽喷出，若干个加压喷头同时喷水，方便对砷化镓晶片进行批量清洗，同时清洗的数量更多，缩短了清洗所需时间。
Description
技术领域
本实用新型属于砷化镓晶片清洗技术领域，尤其是涉及一种砷化镓晶片表面清洗装置。
背景技术
砷化镓是一种无机化合物，为黑灰色固体，熔点为1238℃。它在600℃以下的温度环境中可在空气中稳定存在，并且不被非氧化性的酸侵蚀。砷化镓是一种重要的半导体材料，在砷化镓晶片的加工生产过程中，需要使用清洗装置对砷化镓晶片进行清洗工作。
如公开号为CN216369197U的中国实用新型专利所公开的一种砷化镓晶片表面清洗装置，主要解决了不能翻转，使得只能清洗一面，使得整体清洗效果较差的缺陷，然而，通过对上述引用专利的深入研究并结合实际生产清洗经验，发现上述引用专利中依然存在一些不足之处：利用夹持的方式对砷化镓晶片进行固定清洗，在双面清洗的过程中始终无法对所夹持遮挡的部位进行清洗，从而还需要进行拆卸、转动、再夹持固定继续冲洗，增加了工作量，而且清洗耗时长，效率较低。因此，急需对现有的砷化镓晶片表面清洗装置进行改进，提供一种砷化镓晶片表面清洗装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术中存在的不足，提供一种设计合理，结构简单，清洗充分，无需重复操作，清洗速度快、效率高的砷化镓晶片表面清洗装置，用于解决现有技术中存在的在双面清洗的过程中始终无法对所夹持遮挡的部位进行清洗，从而还需要进行拆卸、转动、再夹持固定继续，增加了工作量，而且清洗耗时长，效率较低等问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种砷化镓晶片表面清洗装置，其包括：
接水盒，所述接水盒的上端焊接固定有支架，支架的顶部焊接有承载框，承载框的左右两端内侧均设有放置杆，两个所述放置杆相互靠近的一侧均设有分隔块；
清洗箱，所述清洗箱设于承载框的上方，清洗箱的底部左右两端内壁均焊接有对接板，清洗箱的顶部左右两端内侧均固定有分水管，两个所述分水管相互靠近的一侧均呈等间距设置有加压喷头，分水管的另一端焊接有支撑块，支撑块的底部焊接有限位板，所述加压喷头的前端连接有输水组件，所述接水盒的后上方固定安装有电机，电机的输出端固定连接有凸轮杆。
作为一种优选的实施方式，所述承载框与两个所述放置杆均为焊接，两个所述放置杆相互靠近的一端均呈弧形面，放置杆与分隔块焊接固定，相邻两个所述分隔块之间的顶部间距大于底部间距。
作为一种优选的实施方式，所述对接板与承载框的连接方式为卡合连接，承载框与清洗箱构成拆卸结构，清洗箱与限位板焊接固定。
作为一种优选的实施方式，两组所述支撑块分别焊接固定于清洗箱的顶部左右两端内壁上，两组所述支撑块分别沿着两个所述分水管的长度方向呈等距设置有三个。
作为一种优选的实施方式，所述输水组件包括输水管、三通管和软管，两个所述输水管分别设于三通管的左右两侧，三通管的正前方连接有软管。
作为一种优选的实施方式，两个所述输水管远离三通管的一端分别与两个所述分水管的前端相连接。
作为一种优选的实施方式，所述凸轮杆位于两个所述放置杆之间下方。与现有技术相比，本实用新型的有益效果：
在本实用新型的方案中：
将软管与外界供水源相连接，利用三通管以及两个输水管能够同时为两个分水管进行供水，并利用两个分水管相互靠近一侧设置的若干个加压喷头，能够将水朝向限位板中部通槽喷出，若干个加压喷头同时喷水，方便对砷化镓晶片进行批量清洗，同时清洗的数量更多，缩短了清洗所需时间；
凸轮杆转动时可将位于两个分隔块之间的砷化镓晶片向上顶起，当砷化镓晶片升高至两个分隔块顶部之间后，砷化镓晶片与两个分隔块之间均存在缝隙，此时分隔块失去对砷化镓晶片的夹持力，而转动的凸轮杆即可推动砷化镓晶片出现小角度的转动，随后砷化镓晶片可在重力作用下再次卡合两个分隔块底部之间得到定位，即可实现清洗过程中推动砷化镓晶片间歇式的小幅转动，可对受水清洗面进行不断调节，实现充分清洗、无死角的目的，清洗效率更高。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，现针对附图进行如下说明：
图1为本实用新型立体俯视结构示意图；
图2为本实用新型承载框与放置杆连接俯视结构示意图；
图3为本实用新型输水组件整体正视结构示意图；
图4为本实用新型电机与凸轮杆连接后视结构示意图；
图5为本实用新型放置杆与分隔块连接侧视结构示意图；
图6为本实用新型凸轮杆转动状态正视结构示意图。
图中：
1、接水盒；2、支架；3、承载框；4、放置杆；5、分隔块；6、清洗箱；7、对接板；8、分水管；9、加压喷头；10、支撑块；11、限位板；12、输水组件；1201、输水管；1202、三通管；1203、软管；13、电机；14、凸轮杆。
具体实施方式
以下所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，并不代表与本实用新型相一致的所有实施例。现结合附图，对示例性实施例进行如下说明：
如图1-6所示，本实用新型砷化镓晶片表面清洗装置，其包括：
接水盒1，接水盒1的上端焊接固定有支架2，支架2的顶部焊接有承载框3，承载框3的左右两端内侧均设有放置杆4，两个放置杆4相互靠近的一侧均设有分隔块5；
清洗箱6，清洗箱6设于承载框3的上方，清洗箱6的底部左右两端内壁均焊接有对接板7，清洗箱6的顶部左右两端内侧均固定有分水管8，两个分水管8相互靠近的一侧均呈等间距设置有加压喷头9，分水管8的另一端焊接有支撑块10，支撑块10的底部焊接有限位板11，加压喷头9的前端连接有输水组件12，接水盒1的后上方固定安装有电机13，电机13的输出端固定连接有凸轮杆14。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，承载框3与两个放置杆4均为焊接，两个放置杆4相互靠近的一端均呈弧形面，放置杆4与分隔块5焊接固定，相邻两个分隔块5之间的顶部间距大于底部间距；
通过若干个分隔块5的设置，便于对多个砷化镓晶片进行有序稳定放置，通过增加同时清洗的砷化镓晶片数量，缩短整体的清洗工作时间。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，对接板7与承载框3的连接方式为卡合连接，承载框3与清洗箱6构成拆卸结构，清洗箱6与限位板11焊接固定；
通过两个对接板7的设置，便于清洗箱6稳定的安装于承载框3的上方，也便于在清洗完成后对清洗箱6的快捷拆卸，方便取放料。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，两组支撑块10分别焊接固定于清洗箱6的顶部左右两端内壁上，两组支撑块10分别沿着两个分水管8的长度方向呈等距设置有三个；
通过两组支撑块10的设置，便于对两个分水管8起到稳定、高效支撑的效果。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，输水组件12包括输水管1201、三通管1202和软管1203，两个输水管1201分别设于三通管1202的左右两侧，三通管1202的正前方连接有软管1203；
通过三通管1202以及两个输水管1201的设置，能够便于为两个分水管8进行同时供水，便于对砷化镓晶片进行冲洗。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，两个输水管1201远离三通管1202的一端分别与两个分水管8的前端相连接；
方便为两个分水管8同步供水，对砷化镓晶片从左右两个方向进行冲洗，冲洗力度更强，冲洗也更充分。
作为优选的实施方式，在上述结构的基础上，进一步的，凸轮杆14位于两个放置杆4之间下方；
利用凸轮杆14的旋转，方便在砷化镓晶片冲洗时，推动砷化镓晶片进行间歇式的小幅度转动，能够实现在不操作的情况，实现对砷化镓晶片的充分、全面冲洗，清洗效率更高。
本实用新型的工作原理如下：
使用时，首先将待清洗的若干砷化镓晶片依次有序的放置于两个放置杆4之间，并利用相邻两个分隔块5对砷化镓晶片起到夹持定位的效果，随后通过对接板7插入承载框3与放置杆4之间的间隙，将清洗箱6安装于承载框3上方，并将软管1203与外界水泵相连，随后即可通过软管1203、三通管1202以及两个输水管1201开始为两个分水管8进行供水，并利用两个分水管8相互靠近一侧设置的若干个加压喷头9，能够将水朝向限位板11中部通槽喷出，两组加压喷头9同时从左右两侧进行喷水，方便对砷化镓晶片进行批量清洗，同时清洗的数量更多，缩短了清洗所需时间；
在清洗时可启动电机13，控制凸轮杆14转动，如图6中所示，凸轮杆14可先将砷化镓晶片向上顶起，当砷化镓晶片升高至两个分隔块5顶部之间后，由于相邻分隔块5顶部间距大于底部，此时分隔块5失去对砷化镓晶片的夹持力，而转动的凸轮杆14即可推动砷化镓晶片出现小角度的转动，随后砷化镓晶片可在重力作用下再次卡合两个分隔块5底部之间得到定位，即可实现清洗过程中利用持续缓慢旋转的凸轮杆14，去推动砷化镓晶片进行间歇式的小幅转动，可对砷化镓晶片的受水清洗面进行不断调节，实现充分清洗、无死角的目的，清洗效率更高。
以上仅为本实用新型的较佳具体实施例，并不用以限制本实用新型保护范围；凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验所做的均等变化、修改、替换和变型，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
Claims (7)
1.一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于，包括：
接水盒(1)，所述接水盒(1)的上端焊接固定有支架(2)，支架(2)的顶部焊接有承载框(3)，承载框(3)的左右两端内侧均设有放置杆(4)，两个所述放置杆(4)相互靠近的一侧均设有分隔块(5)；
清洗箱(6)，所述清洗箱(6)设于承载框(3)的上方，清洗箱(6)的底部左右两端内壁均焊接有对接板(7)，清洗箱(6)的顶部左右两端内侧均固定有分水管(8)，两个所述分水管(8)相互靠近的一侧均呈等间距设置有加压喷头(9)，分水管(8)的另一端焊接有支撑块(10)，支撑块(10)的底部焊接有限位板(11)，所述加压喷头(9)的前端连接有输水组件(12)，所述接水盒(1)的后上方固定安装有电机(13)，电机(13)的输出端固定连接有凸轮杆(14)。
2.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：所述承载框(3)与两个所述放置杆(4)均为焊接，两个所述放置杆(4)相互靠近的一端均呈弧形面，放置杆(4)与分隔块(5)焊接固定，相邻两个所述分隔块(5)之间的顶部间距大于底部间距。
3.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：所述对接板(7)与承载框(3)的连接方式为卡合连接，承载框(3)与清洗箱(6)构成拆卸结构，清洗箱(6)与限位板(11)焊接固定。
4.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：两组所述支撑块(10)分别焊接固定于清洗箱(6)的顶部左右两端内壁上，两组所述支撑块(10)分别沿着两个所述分水管(8)的长度方向呈等距设置有三个。
5.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：所述输水组件(12)包括输水管(1201)、三通管(1202)和软管(1203)，两个所述输水管(1201)分别设于三通管(1202)的左右两侧，三通管(1202)的正前方连接有软管(1203)。
6.根据权利要求5所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：两个所述输水管(1201)远离三通管(1202)的一端分别与两个所述分水管(8)的前端相连接。
7.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于：所述凸轮杆(14)位于两个所述放置杆(4)之间下方。
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