CN219997471U - 光刻平台及光刻设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种光刻平台及光刻设备，包括底座与平台组件，所述底座表面沿第一方向布设有多个导轨，多个所述第一导轨设置在所述底座的不同高度的位置处，所述平台组件对接安装于所述第一导轨，并能够沿着所述第一导轨的布设方向滑动；通过将导轨设置在底座的不同高度的位置处，从而提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，避免平台组件在移动过程中使得台面产生较大的摆幅。

Description

光刻平台及光刻设备

技术领域

本实用新型涉及激光直写式曝光技术领域，特别是涉及一种光刻平台及光刻设备。

背景技术

随着科技的不断发展，越来越多的电子设备被使用，而电子设备中最主要之一就是电路板，因此，电路板的生产也是电子设备生产中极为重要的一环，相比于传统的掩膜版和菲林底片的曝光方式，激光直写式曝光技术是通过对曝光激光进行调制以在基板上形成具有特征的构图，激光直写技术产能高，步骤简单，对位精度高，在半导体以及PCB生产领域有非常重要的作用。

但现有的激光直写光刻设备的光刻平台为了提高曝光效率，减少曝光等待时长，常装备双台面的平台设备，两个平台交替做曝光操作，但是交替曝光的平台结构为上下交错的悬臂梁结构，两个平台不仅能够相对光学引擎设备做升降运动，还能够沿着平台的Y轴方向移动，因此在运动的过程中，由于平台在沿Y轴移动的导轨跨距较小，若在移动的过程中发生略微摆动，则会使的台面发生较大的摆幅，因此会对待加工的基板的加工精度造成较大的影响。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种光刻平台及光刻设备，该光刻平台通过在平台的底部设置跨距较大的导轨，减少因底座的震动而造成平台较大的摆幅，从而提高了基板的加工精度。

本实用新型提供一种光刻平台，包括底座与平台组件，所述底座表面沿第一方向布设有多个导轨，多个所述第一导轨设置在所述底座的不同高度的位置处，所述平台组件对接安装于所述第一导轨，并能够沿着所述第一导轨的布设方向滑动。

可以理解的是，通过将导轨设置在底座的不同高度的位置处，从而提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，避免平台组件在移动过程中使得台面产生较大的摆幅。

在本实用新型的一个实施例中，所所述底座的两侧凸设有加强部，多个所述第一导轨分别设置在所述加强部的内壁以及所述底座的表面，所述平台组件的底部对接所述底座表面的所述第一导轨，所述平台组件的侧壁抵接所述加强部内部的所述第一导轨，所述平台组件能够沿所述第一导轨相对所述底座滑动。

可以理解的是，通过将第一导轨分别设置在底座的表面和加强部的内壁，即能够提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，也能够通过稳定平台组件。

进一步地，所述平台组件对应两个所述第一导轨，其中一个设置在所述底座的表面，另一个设置在所述加强部内壁，所述平台组件分别抵接两个所述第一导轨，并能够相对所述底座滑动。

在本实用新型的一个实施例中，所述底座表面凸设有不同高度的抵接部，且所述平台组件的底部对应所述抵接部凹陷形成对接部，多个所述第一导轨设置于不同高度的所述抵接部，所述平台组件对接所述第一导轨并能够沿着所述第一导轨滑动。

可以理解的是，通过在底座上设置不同的高度的抵接部，并在抵接部上设置第一导轨，使得第一导轨之间的直线跨距增大，减少阿贝误差。

进一步地，每组所述平台组件对应的所述第一导轨的数量设置为两个，两个所述第一导轨分别设置于不同高度的所述抵接部，所述平台组件通过两个所述第一导轨安装至所述底座，并能够相对所述底座滑动。

在本实用新型的一个实施例中，所述平台组件包括支撑平台以及吸附台面，所述吸附台面安装于所述支撑平台，所述支撑平台对接所述第一导轨，所述吸附台面随所述支撑平台沿所述第一导轨滑动。

可以理解的是，通过设置支撑平台与吸附平台，从而能够对待加工的基板气道支撑作用，且通过吸附平台对基板起到吸附固定的作用。

在本实用新型的一个实施例中，所述支撑平台包括第一支撑件与第二支撑件，所述吸附平台固定安装于所述第一支撑件，所述第二支撑件抵接所述第一导轨，所述第二支撑件设有垂直于所述底座的第二导轨，所述第一支撑件安装于所述第二导轨，并能够沿着所述第二导轨相对靠近或远离所述底座；或，所述第一支撑件与所述第二支撑件固定连接。

可以理解的是，通过设置第一支撑件及第二支撑件，当需要吸附平台上下运动时，可使得第一支撑件通过第二导轨相对靠近或远离所述底座；当需要固定连接时，所述第一支撑件与第二支撑件固定连接。

本实用新型的一个实施例中，所述平台组件的数量设置为两个，且两个所述平台组件关于所述底座的中心轴线对称设置。

如此设置，通过设置对称设置的平台组件，从而能够提高光刻设备的效率。

实用新型的一个实施例中，对称设置的所述平台组件中的所述吸附台面上下交错设置。

可以理解的是，通过将吸附台面上下交错设置，在保证加工稳定性的同时，减少设备的空间占用率。

本实用新型还提供一种光刻设备，包括光学引擎以及如上述任意一项所述的光刻平台，所述光刻平台对应所述光学引擎设置。

可以理解的是，通过设置该光刻平台的光刻设配，减少了阿贝误差，提高了基板的加工精准度。

本实用新型提供一种光刻平台及光刻设备，该光刻平台通过在平台的底部设置跨距较大的导轨，减少因底座的震动而造成平台较大的摆幅，降低了阿贝误差，从而提高了基板的加工精度。

附图说明

图1为本实用新型提供的一实施例中光刻平台的结构示意图；

图2为本实用新型提供的另一实施例中光刻平台的结构示意图。

100、光刻平台；10、底座；11、加强部；12、抵接部；20、平台组件；21、支撑平台；211、第一支撑件；212、第二支撑件；22、吸附台面；30、第一导轨。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，当组件被称为“装设于”另一个组件，它可以直接装设在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“固定于”另一个组件，它可以是直接固定在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“或/及”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

随着科技的不断发展，越来越多的电子设备被使用，而电子设备中最主要之一就是电路板，因此，电路板的生产也是电子设备生产中极为重要的一环，相比于传统的掩膜版和菲林底片的曝光方式，激光直写式曝光技术是通过对曝光激光进行调制以在基板上形成具有特征的构图，激光直写技术产能高，步骤简单，对位精度高，在半导体以及PCB生产领域有非常重要的作用。

但现有的激光直写光刻设备的光刻平台为了提高曝光效率，减少曝光等待时长，常装备双台面的平台设备，两个平台交替做曝光操作，但是交替曝光的平台结构为上下交错的悬臂梁结构，两个平台不仅能够相对光学引擎设备做升降运动，还能够沿着平台的Y轴方向移动，因此在运动的过程中，由于平台在沿Y轴移动的导轨跨距较小，若在移动的过程中发生略微摆动，则会使的台面发生较大的摆幅，因此会对待加工的基板的加工精度造成较大的影响。

本实用新型的提供一种光刻平台100，该光刻平台100包括底座10和平台组件20，平台组件20安装于底座10，底座10用于支撑和安装平台组件20，平台组件20用于容置待加工的基板，并能够带动基板运动。

具体地，在本实施例中，底座10为大理石材质制成的一体式的支撑结构，底座10大致呈长方体型，定义沿着底座10的长度方向为第一方向，沿着底座10的宽度方向为第二方向，垂直于底座10的方向为第三方向；其中，在底座10的表面沿着第一方向设有多个第一导轨30，且多个第一导轨30分别安装至底座10不同高度的位置处，且平台组件20能够稳定地对接第一导轨30，并沿着第一导轨30的布设方向滑动。

如此设置，通过在底座10不同高度的位置处设置导轨，从而提高平台组件20对接的导轨跨距增大，减少阿贝误差，从而减少因底座10的震动而造成平台组件20较大的摆幅，从而提高了基板的加工精度。

在其中一个实施方式中，底座10的两侧凸设有加强部11，在本实施例中，加强部11设置为底座10上表面两侧的抵接侧壁，平台组件20对应多个第一导轨30，其中部分第一导轨30设置于底座10表面，另一部分的第一导轨30设置于抵接侧壁的内表面，平台组件20的底部抵接设置于底座10表面的第一导轨30，平台组件20的侧面抵接设置于抵接侧壁的第一导轨30，从而使得平台组件20能够沿着第一导轨30的布设方向滑动。

具体地，第一导轨30的数量设置为两个，其中一个设置在底座10的表面，另一个设置于抵接侧壁的内表面，相对于仅设置在平台组件20底部的两导轨，这种设置方式提高了导轨之间跨距，平台组件20的底部能够抵接底座10表面的导轨，平台组件20的侧边能够抵接底座10的抵接侧壁的导轨，使得平台组件20能够沿着导轨的布设方向往复移动。

可以理解的是，通过将第一导轨30分别设置在底座10的表面和抵接侧壁的内侧，从而提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差。

需要说明的是，在本实施例中，设置在底座10表面的导轨与平台组件20的重心处于同一竖直直线上，即平台组件20的重力全部压在底座10表面的导轨，而抵接侧壁的导轨是用于辅助稳定平台组件20，使得平台组件20始终保持稳定状态；而在其他的实施方式中，设置在底座10表面的导轨可以位于平台组件20重心线的左侧或右侧，只要使得第一导轨30之间跨距大于平台组件20的底部长度即可，提高了第一导轨30之间的跨距，减少了阿贝误差，保证了平台的稳定性。

在另一个实施方式中，底座10表面凸设有多个抵接部12，平台组件20的底部对应抵接部12凹设有多个对接部，抵接部12与对接部相互对应，平台组件20通过多个第一导轨30滑动，其中部分第一导轨30设置于底座10表面，另一部分第一导轨30设置于抵接部12，平台组件20的底部抵接底座10表面的第一导轨30，平台组件20的对接部抵接设置于设置在抵接部12的第一导轨30，从而使得平台组件20能够沿着第一导轨30的布设方向滑动，

如此设置，相较于现有的第一导轨30之间的跨距，通过设置抵接部12与对接部，并在抵接部12设置第一导轨30，提高了第一导轨30之间的跨距，减少了阿贝误差，保证了平台的稳定性。

需要说明的是，本实用新型并不仅限于在底座10表面设置凸出的抵接部12，在抵接部12设置第一导轨30，以提高第一导轨30之间的跨距，在其他的实施方式汇总，还可以在底座10表面设置凹陷的抵接部12，只要能够提高第一导轨30之间的跨距即可。

此外，在其他的实施方式中，还可以在抵接侧壁上设置凸出的抵接平台，在抵接平台的上表面设置第一导轨30，如此设置，能够最大程度的提高第一导轨30之间的跨距，提高平台组件20的稳定性。

在本实用新型的一个实施例中，平台组件20包括支撑平台21以及吸附台面22，吸附台面22安装于支撑平台21，吸附台面22用于吸附待加工的基板，使得基板保持稳定状态，支撑平台21用于支撑吸附台面22和基板。

具体地，支撑平台21包括第一支撑件211与第二支撑件212，吸附平台固定安装于第一支撑件211，第一支撑件211安装于第二支撑件212，第二支撑件212抵接第一导轨30，其中，第一支撑件211大致呈平板状，第一支撑件211相对靠近第二支撑件212的一端设有垂直于第一支撑件211本体的安装部，第一支撑件211通过安装部安装于第二支撑件212，第二支撑件212大致呈件“L”型的板状结构，第二支撑件212的一侧边的内壁设有沿第三方向设置的第二导轨，第一支撑件211通过安装部安装于第二导轨，使得第一支撑件211能够沿第二导轨的布设方向相对第二支撑件212做往复移动，第二支撑件212的外侧壁安装于第一导轨30，使得第二支撑件212能够沿着第一导轨30的布设方向往复移动。

如此设置，通过设置第一支撑件211与第二支撑件212，并在第二支撑件212上设置第二导轨，使得第一支撑件211能够带动吸附平台沿着第二导轨滑动，从而能够带动吸附平台即沿第一方向移动以能够沿第三方向移动。

可以理解的是，在其他的实施方式中，平台组件20配合可沿第三方向移动的光学引擎，吸附平台需要沿第三方向固定设置，则第一支撑件211与第二支撑件212固定连接。

此外，为了能够提高光刻平台100的工作效率，平台组件20的数量设置为两个，且两个平台组件20关于底座10的中心轴线对称设置，通过设置对称设置的平台组件20，能够使得平台组件20能够交替工作，从而提高光刻平台100的光刻效率。

进一步地，对称设置的平台组件20中的吸附台面22上下交错设置，使得对称设置的平台组件20中的吸附台面22能够充分利用空间位置，减少了光刻平台100的宽度，从而能够在单位面积内摆放更多的光刻设备，提高产能。

本实用新型还提供一种光刻设备，该光刻设置包括光学引擎以及如上任意一实施例中的光刻平台100，光学引擎安装于光刻平台100之上，并能够对安装在光刻平台100上的基板进行曝光，从而提高光刻设备的光刻精度。

可以理解的是，该光刻平台100通过在平台的底部设置跨距较大的导轨，减少因底座10的震动而造成吸附台面22较大的摆幅，从而提高了使用该光刻平台100的光刻设备的加工精度。

以上所述实施方式的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施方式中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

本技术领域的普通技术人员应当认识到，以上的实施方式仅是用来说明本实用新型，而并非用作为对本实用新型的限定，只要在本实用新型的实质精神范围内，对以上实施方式所作的适当改变和变化都落在本实用新型要求保护的范围内。

Claims (10)

1.一种光刻平台，其特征在于，包括底座（10）与平台组件（20），所述底座（10）表面沿第一方向布设有多个第一导轨（30），多个所述第一导轨（30）设置在所述底座（10）的不同高度的位置处，所述平台组件（20）对接安装于所述第一导轨（30），并能够沿着所述第一导轨（30）的布设方向滑动。

2.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述底座（10）的两侧凸设有加强部（11），多个所述第一导轨（30）分别设置在所述加强部（11）的内壁以及所述底座（10）的表面，所述平台组件（20）的底部对接所述底座（10）表面的所述第一导轨（30），所述平台组件（20）的侧壁抵接所述加强部（11）内部的所述第一导轨（30），所述平台组件（20）能够沿所述第一导轨（30）相对所述底座（10）滑动。

3.如权利要求2所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）对应两个所述第一导轨（30），其中一个设置在所述底座（10）的表面，另一个设置在所述加强部（11）内壁，所述平台组件（20）分别抵接两个所述第一导轨 （30），并能够相对所述底座（10）滑动。

4.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述底座（10）表面凸设有不同高度的抵接部（12），且所述平台组件（20）的底部对应所述抵接部（12）凹陷形成对接部，多个所述第一导轨（30）设置于不同高度的所述抵接部（12）， 所述平台组件（20）对接所述第一导轨（30）并能够沿着所述第一导轨（30）滑动。

5.如权利要求4所述的光刻平台，其特征在于，每组所述平台组件（20）对应的所述第一导轨（30）的数量设置为两个，两个所述第一导轨（30）分别设置于不同高度的所述抵接部（12），所述平台组件（20）通过两个所述第一导轨（30）安装至所述底座（10），并能够相对所述底座（10）滑动。

6.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）包括支撑平台（21）以及吸附台面（22），所述吸附台面（22）安装于所述支撑平台（21），所述支撑平台（21）对接所述第一导轨（30），所述吸附台面（22）随所述支撑平台（21）沿所述第一导轨（30）滑动。

7.如权利要求6所述的光刻平台，其特征在于，所述支撑平台（21）包括第一支撑件（212）与第二支撑件（211），所述吸附台面（22）固定安装于所述第一支撑件（212），所述第二支撑件（211）抵接所述第一导轨（30），所述第二支撑件（211）设有垂直于所述底座（10）的第二导轨，所述第一支撑件（212）安装于所述第二导轨，并能够沿着所述第二导轨相对靠近或远离所述底座（10）；或所述第一支撑件（212）与所述第二支撑件（211）固定连接。

8.如权利要求6所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）的数量设置为两个，且两个所述平台组件（20）关于所述底座（10）的中心轴线对称设置。

9.如权利要求8所述的光刻平台，其特征在于，对称设置的所述平台组件（20）中的所述吸附台面（22）上下交错设置。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括光学引擎以及如上述权利要求 1 至 9 任意一项所述的光刻平台，所述光刻平台对应所述光学引擎设置。