CN112355990A - 一种xy运动台及运动装置 - Google Patents

Abstract

本发明属于集成电路制备技术领域，公开了一种XY运动台及运动装置。XY运动台包括：基座，其具有与XY平面平行的基准面；两个X向导轨单元，固设于基准面上且沿X方向延伸；Y向导轨单元，其沿Y方向延伸，两端分别与两个X向导轨单元滑动连接；安装件，其与Y向导轨单元滑动连接；气足，其与安装件连接，气足具有吸附于基准面上的第一状态和气浮支承于基准面上的第二状态；X向驱动装置，用于驱动Y向导轨单元沿X方向运动；Y向驱动装置，用于驱动安装件沿Y方向运动。运动装置包括微动台和上述XY运动台，微动台连接于安装面。本发明提供的XY运动台和运动装置，具有较好地平面动态性能，且能够适应于较高的运行速度和运动加速度。

Description

一种XY运动台及运动装置

技术领域

本发明涉及集成电路制备技术领域，尤其涉及一种XY运动台及运动装置。

背景技术

在半导体硅片膜厚的检测领域，要求工件台可以和硅片传输系统完成硅片的交接，同时需要承载着12英寸或者8英寸硅片完成360°旋转和垂向运动，完成硅片膜厚的检测。所以对于应用在膜厚检测的工件台装置中，XY台一般提供X、Y两个方向的运动，且是工件台装置中的核心部件。随着对产率要求的不断提高，对膜厚检测精度要求的不断提升，这就要求XY台具备更高的运行速度、更高的加速度，XY台的性能也需要随之提高，尤其是平面动态性能。

现有技术公开了一种二维运动平台，其包括Y平台、安装在Y平台上的X平台以及安装在X平台上的工作台，X平台包括驱动工作台在X平台上运动的直线电机以及支撑工作台的直线导轨，Y平台包括驱动X平台在Y平台上运动的直线电机及支撑X平台的直线导轨。现有技术还公开了一种二自由度高精度大行程气浮工件台，其包括大理石底座、X向运动台和Y向运动台，大理石底座位于X向运动台和Y向运动台的底部，Y向运动台架设在X向运动台上，X向运动台和Y向运动台的底部均设置有扁平气浮导轨。

现有技术公开的二维运动平台，其X平台和Y平台均采用机械导轨，其速度、加速度均可以提高，但在XY平面内的平面度难以保证，需要在后续的调试中做大量的面形补偿工作。现有技术公开的二自由度高精度大行程气浮工件台，由于气浮导轨的误差均化作用，其平面动态特性可以得到保证，但加速度和速度则会受到限制，难以满足工件台的高速和高加速运动，导致产率无法提高。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种XY运动台，提高XY运动台的运动速度和加速度，同时保持XY运动台的平面动态性能。

本发明的另一目的在于提供一种运动装置，提高运动装置的X向运动和Y向运动的加速度和速度，提高运动装置的平面动态性能。

为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：

一种XY运动台，包括：

基座，其具有与XY平面平行的基准面；

X向导轨单元，设置于所述基准面上且沿X方向延伸，所述X向导轨单元沿Y方向相对且间隔设置有两个；

Y向导轨单元，其沿Y方向延伸，所述Y向导轨单元的两端分别与两个所述X向导轨单元滑动连接；

安装件，其与所述Y向导轨单元滑动连接，所述安装件具有位于所述Y向导轨单元上方的安装面；

气足，其与所述安装件连接，所述气足具有吸附于所述基准面上的第一状态和气浮支承于所述基准面上的第二状态；

X向驱动装置，其与所述Y向导轨单元连接，用于驱动所述Y向导轨单元沿所述X方向运动；

Y向驱动装置，其与所述安装件连接，用于驱动所述安装件相对所述Y向导轨单元沿所述Y方向运动。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述XY运动台还包括柔性件，所述柔性件在Z方向的刚度小于所述柔性件在所述X方向和所述Y方向的刚度，所述安装件通过所述柔性件与所述Y向导轨单元连接。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述Y向导轨单元为机械导轨结构。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述Y向导轨单元包括Y向固定座，所述Y向固定座沿X方向的相对两侧均设置有Y向导轨，每个所述Y向导轨上均滑动连接有Y向滑块；

所述安装件包括位于所述Y向固定座上方的安装板和设置于所述Y向固定座沿Y方向相对两侧的两个转接块，所述安装板的上表面形成所述安装面，每个所述转接块和对应的所述Y向滑块之间连接有所述柔性件。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述柔性件包括相对且间隔设置的导轨连接部和转接连接部以及连接于所述导轨连接部和所述转接连接部之间的柔性部，所述柔性部为与XY平面平行的板状结构，且所述柔性部的厚度小于所述导轨连接部的厚度及所述转接连接部的厚度，所述导轨连接部与所述Y向滑块连接，所述转接连接部与所述转接块连接。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述导轨连接部和所述转接连接部为相互平行的板状结构，所述柔性部分别与所述导轨连接部和所述转接连接部垂直连接。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述Y向固定座的上表面开设有安装槽，所述Y向驱动装置包括Y向定子和与所述Y向定子驱动配合的Y向动子，所述Y向定子沿所述Y方向延伸且至少下端容纳于所述安装槽中，所述Y向动子与所述安装件连接。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述气足位于所述Y向固定座的下方，且所述Y向固定座下表面与所述气足上表面之间具有间隙，两个所述转接块的下端均与所述气足连接。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述气足的下表面设置有预载腔，所述气足包括位于所述预载腔上方的气足本体和设于所述预载腔周围的气浮部，所述气浮部的底部开设有气浮孔，所述预载腔用于形成使所述气足吸附于所述基座的预载力，所述预载力为真空预载力或磁吸预载力。

作为一种XY运动台的优选技术方案，所述X向导轨单元包括：

X向固定座，其沿X方向延伸，所述X向固定座与所述基准面可拆卸连接，所述X向驱动装置可拆卸设置于所述X向固定座上；

X向导轨，其沿所述X方向延伸，且所述X向导轨连接于所述X向固定座的上方，所述X向导轨上滑动连接有X向滑块，所述X向滑块与所述Y向导轨单元连接。

一种运动装置，包括微动台和如上所述的XY运动台，所述微动台连接于所述安装面，所述微动台用于实现沿Z方向的运动调节和绕Z方向的转动调节。

本发明的有益效果在于：

本发明提供的XY运动台，通过设置相对基准面固定的X向导轨单元实现Y向导轨单元沿X方向运动的机械导向，其可以实现Y向导轨单元沿X方向的高速和高加速运动，从而提高整个XY运动台可达到的运行速度和加速度，提高产量；同时，通过设置Y向导轨单元实现安装件沿Y方向运动的导向，同时设置气足实现安装件沿Y方向运动的气浮导向，可以在实现安装件沿Y向运动的导向的同时，防止Y向导轨单元由于自重变形导致的Z向位置的不均匀性，为Y向导轨单元提供支撑，提高向导轨单元的使用寿命；再者，在气足处于第二状态时，基准面与气足之间的高压气膜可以均化气足和基准面的面型度误差，使得XY运动台具有优异的平面动态特性，降低后续的面型补偿工作量。

本发明提供的运动装置，通过采用上述的XY运动台实现X向运动和Y向运动，能够提高运动装置沿X方向和Y方向的运动速度和加速度，同时提高运动装置的平面动态性能。

附图说明

图1是本发明实施例一提供的XY运动台的结构示意图；

图2是本发明实施例一提供的XY运动台的部分结构的剖视图；

图3为图2中I处的局部放大图；

图4为本发明实施例一提供的柔性件的结构示意图；

图5为本发明实施例一提供的气足和基座的结构示意图；

图6为本发明实施例二提供的运动装置的结构示意图；

图7是本发明实施例二提供的微动台的结构示意图。

10、XY运动台；20、微动台；201、微动底座；202、重力补偿装置；203、吸盘；204、Rz运动台；

1、基座；2、X向导轨单元；21、X向固定座；22、X向导轨；3、Y向导轨单元；31、Y向固定座；311、安装槽；32、Y向导轨；33、Y向滑块；4、安装件；41、安装板；42、转接块；5、X向驱动装置；51、X向定子；52、X向动子；6、Y向驱动装置；61、Y向定子；62、Y向动子；7、柔性件；71、转接连接部；711、凹槽；72、柔性部；73、导轨连接部；8、气足；81、气足本体；82、气浮部；821、气浮孔；83、预载腔；9、Y向缓冲器；110、X向位移检测装置；1101、X向光栅尺；1102、X向光栅读数头；120、高压气膜。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

实施例一

图1为本发明实施例提供的XY运动台10的结构示意图，如图1所示，本实施例提供了一种XY运动台10，其可以应用于集成电路制备领域中，如应用于光刻系统的曝光台中或应用于半导体薄膜检测中的工件台中，用于带动硅片等基底沿X方向和Y方向运动。本实施例提供的XY运动台10也可以应用于其他需要进行X向运动和Y向运动的场景和领域中，本实施例对此不做限制。

具体地，以图1所示坐标系为例对XY运动台10进行详细介绍。XY运动台10包括：基座1，其具有与XY平面平行的基准面；X向导轨单元2，其固设在基准面上且沿X方向延伸，X向导轨单元2沿Y方向相对且间隔设置有两个；Y向导轨单元3，其沿Y方向延伸，且Y向导轨单元3的两端分别与两个X向导轨单元2滑动连接；安装件4，其与Y向导轨32滑动连接，且安装件4具有位于Y向导轨单元3上方的安装面；气足8，其与安装件4连接，且气足8朝向基准面的一面设置有气浮孔821，气足8具有吸附于基准面上的第一状态和气浮支承于基准面上的第二状态；X向驱动装置5，其与X向导轨单元2连接，用于驱动Y向导轨单元3沿X方向运动；Y向驱动装置6，其与安装件4连接，用于驱动安装件4相对Y向导轨单元3沿Y方向运动。

本实施例提供的XY运动台10，通过设置相对基准面固定的X向导轨单元2实现Y向导轨单元3沿X方向运动的机械导向，可以实现Y向导轨单元3沿X方向的高速和高加速运动；通过设置Y向导轨单元3实现安装件4沿Y方向运动的导向，同时设置气足8实现安装件4沿Y方向运动的气浮导向，可以防止Y向导轨单元3由于自重变形导致的Z向位置的不均匀性，为Y向导轨单元3提供支撑，提高Y向导轨单元3的使用寿命；再者，在气足8处于第二状态时，基准面与气足8之间的高压气膜可以均化气足8和基准面的面型度误差，使得XY运动台10具有优异的平面动态特性，降低后续的面型补偿工作量。

具体地，X向导轨单元2包括沿X方向设置的X向固定座21及X向导轨22，X向固定座21的下端面与基准面贴合且可拆卸连接，X向导轨22和X向驱动装置5均设置在X向固定座21的上表面并与X向固定座21可拆卸连接，X向导轨22上滑动连接有X向滑块（未示出），Y向导轨单元3的两端分别与对应的X向滑块连接。X向固定座21的设置，能够方便X向导轨单元2和X向驱动装置5之间的连接，有利于保证X向导轨22和X向驱动装置5之间相对位置的精度，且X向固定座21的设置有利于抬高X向导轨22的高度，方便Y向导轨单元3与X向导轨22的连接。

在本实施例中，X向驱动装置5为X向直线电机，X向直线电机包括沿X方向设置在X向固定座21上的X向定子51以及与X向定子51驱动配合的X向动子52，X向动子52与Y向导轨单元3连接。直线电机的结构为本领域的常规设置，其结构和驱动原理均为本领域的公知常识，此处不再赘述。且在其他实施例中，也可以采用其他能够实现驱动Y向导轨单元3运动的驱动结构形式。

为检测Y向导轨单元3沿X方向运动的行程，XY运动台10还包括X向位置检测装置110。在本实施例中，X向位移检测装置110为光栅检测装置，其包括沿X方向设置在X向固定座21上的X向光栅尺1101以及连接于X向动子52上并与X向光栅尺1101配合的X向光栅读数头1102。在其他实施例中，X向位移检测装置110还可以采用其他检测形式检测X向定子51的位移的结构，如光电式传感器等。

在本实施例中，每个X向导轨单元2上均设置有一个X向直线电机，以保证Y向导轨单元3两端的受力平衡性以及运行稳定性，在其他实施例中，也可以是仅一个X向导轨单元2上设置有X向直线电机。

如图1~图3所示，优选地，Y向导轨单元3为机械导轨结构，其可以为安装件4沿Y方向的运动提供机械导向，从而能够实现安装件4沿Y方向的高度和高加速运动，进一步地提高产量。在其他实施例中，Y向导轨单元3可以为气浮导轨结构，且气浮导轨的具体结构形式可以参考现有技术进行设置，此处不再赘述。

具体地，Y向导轨单元3包括Y向固定座31及Y向导轨。Y向固定座31和Y向导轨32均沿Y方向设置，且Y向固定座31的两端分别与对应的X向滑块和X向动子52连接，Y向导轨32和Y向驱动装置6均可拆卸设置于Y向固定座31上，Y向导轨32上滑动连接有Y向滑块33，安装件4与Y向滑块33连接。Y向固定座31的设置，有利于为安装件4和Y向驱动装置6的设置提供强度和刚度支撑。

Y向驱动装置6为Y向直线电机，Y向直线电机包括Y向定子61和与Y向定子61驱动配合的Y向动子62，Y向定子61可拆卸设置于Y向固定座31上，Y向动子62与安装件4连接。为方便Y向定子61在Y向固定座31上的安装，Y向固定座31的上端面开设有安装槽311，安装槽311沿Y方向延伸，Y向定子61至少下端容置于安装槽311中并与安装槽311的槽底可拆卸连接。安装槽311的设置，使得Y向固定座31提供结构强度和刚度支撑的同时，减小XY运动台10在Z方向的整体高度，提高结构紧凑性。

在本实施例中，Y向固定座31在沿X方向上的相对两侧均设置有Y向导轨32，以在提高对安装件4的导向稳定性的同时，避免Y向导轨32的设置与设置于Y向固定座31上端的Y向驱动装置6相干涉，也进一步减小安装面距离基准面的高度，从而提高结构紧凑性，减小XY运动台10及应用该XY运动台10的运动装置在Z方向的整体尺寸。在其他实施例中，Y向导轨32也可以设置于Y向固定座31的上表面。

为检测Y向动子62沿Y方向运动的行程，XY运动台10还包括Y向位移检测装置（未示出）。在本实施例中，Y向位移检测装置为光栅检测装置，其包括设置于Y向固定座31或Y向定子61上的Y向光栅尺以及连接于安装件4或Y向动子62上的Y向光栅读数头。在其他实施例中，还可以采用其他位移检测装置检测Y向定子61的Y向位移，且对Y向位移的检测为本领域的常规设置，此处不再赘述。

进一步地，如图1所示，为对安装件4沿Y方向的运动进行限位和缓冲，XY运动还包括Y向限位缓冲单元。在本实施例中，Y向限位缓冲单元包括Y向缓冲器9，Y向定子61的两端均设置有Y向缓冲器9，Y向缓冲器9用于在安装件4运行到极限位置时与Y向缓冲器9的弹性抵接以缓冲冲击与实现限位。缓冲器的具体结构可参考现有技术，此处不再赘述。优选地，Y向定子61每一端处的Y向缓冲器9均沿X方向间隔设置两个。

进一步地，为了对Y向导轨单元3沿X方向的运动进行缓冲和限位，XY运动台还可以还包括X向限位缓冲单元（未示出）。X向限位缓冲单元可以包括设置于X向行程两端的X向缓冲器，或现有其他可实现限位缓冲的结构，本实施例对此不做具体限制。

如图1和图2所示，安装件4包括安装板41和连接于安装板41沿X方向相对两侧的转接块42，安装板41水平设置于Y向导轨32的上方并与Y向定子61可拆卸连接，两个转接块42分别位于Y向固定座31沿X方向的相对两侧并与对应的Y向滑块33连接。优选地，安装板41和转接块42可拆卸连接，该种安装件4的结构设置，能够简化安装件4的加工，且方便安装件4分别与Y向动子62和Y向滑块33连接。在其他实施例中，安装板41和转接块42也可以一体加工成型，使安装件4呈开口朝向Y向驱动装置6和Y向导轨单元3的U型结构。

为了保证气足8的气浮支承效果，气足8设置于Y向固定座31的下方，且两个转接块42的下端均与气足8连接，气足8的上表面与Y向固定座31之间存在间隙。优选地，转接块42与气足8垂直连接，以保证气足8产生的气浮力能够垂向传递至转接块42处，避免安装件4出现Rx和/或Ry偏转。

如图3-4所示，由于气足8与Y向导轨32在安装件4进行Y向运动时，同时为安装件4提供Z方向的支撑，为避免安装件4在Z方向上过约束，转接块42与对应的Y向滑块33之间设置有柔性件7，柔性件7在Z方向的刚度小于柔性件7在X方向和Y方向的刚度，且柔性件7的一端与Y向滑块33连接，柔性件7的另一端与对应的转接块42连接。

优选地，柔性件7为柔性簧片，柔性簧片包括相对且间隔设置的导轨连接部73和转接连接部71以及连接于导轨连接部73和转接连接部71之间的柔性部72，柔性部72呈与XY平面平行的板状结构，且柔性部72的厚度小于导轨连接部73的厚度及转接连接部71的厚度，导轨连接部73与Y向滑块33可拆卸连接，转接连接部71与转接块42可拆卸连接。

在本实施例中，导轨连接部73和转接连接部71均为与YZ平面平行的板状结构，且导轨连接部73和转接连接部71的厚度大于柔性部72的厚度，该种结构设置，能够简化柔性簧片的结构，且有效保证柔性簧片在X向和Y向的刚度较高，而其在Z向的刚度偏弱，使转接连接部71可以相对导轨连接部73在Z方向发生轻微形变，从而避免安装件4在Z方向过约束的问题。

为提高柔性簧片的结构强度，转接连接部71于柔性部72的相对两侧均设置有凹槽711，凹槽711贯通转接连接部71沿Y方向的相对两侧壁，且柔性部72形成凹槽711的一槽壁。凹槽711的设置，能够在柔性件7的X方向尺寸不变的基础上，增加柔性部72沿X方向的尺寸，从而提高柔性部72的形变能力。

更为优选地，柔性簧片整体呈“工”字形结构，且导轨连接部73和转接连接部71相对柔性部72对称设置，以进一步地提高柔性簧片的结构强度。在本实施例中，转接连接部71与转接块42之间以及导轨连接部73与Y向滑块33之间均采用螺纹连接件可拆卸连接，当然也可用其他方式进行可拆卸连接。采用可拆卸连接方式，可以提高柔性簧片的加工便利性，且有利于采用通规的Y向滑块33与Y向导轨32。在其他实施例中，柔性簧片也可以与X向滑块33一体成型，或采用焊接等不可拆卸连接方式连接于一体。

可以理解的是，本实施例提供的柔性件7的结构仅为示例性的结构，在其他实施例中，还可以采用跟其他结构形式的柔性件7实现Y向滑块33和转接块42之间的连接，只要保证柔性件7沿Z方向的刚度较小，Y方向和X方向的刚度较大即可。

如图2和图5所示，气足8下表面开设有预载腔83，气足8包括位于预载腔83上部的气足本体81和围设于预载腔83周围的气浮部82，气浮部82的底面开设有气浮孔821，气足本体81设置有与气浮孔821连通的气浮气道，气浮气道的进气口与气源组件连通，气源组件用于对气浮气道内充入正压气体，以使正压气体通过气浮孔821充入气足8与基座1之间，从而在气浮孔821与气足8之间形成高压气膜120，使气足8气浮支承于基座1上，从而使气足8能够处于第二状态。

预载腔83用于形成所述气足8吸附于基座1的预载力，以实现气足8与基座1之间的预载，从而保证在安装件4不需要运动时，气足8能够吸附于基座1上以使气足8能够处于第一状态，保证气足8的双向刚度，保持安装件4相对基座1的位置稳定性。

在本实施例中，预载腔83采用真空预载的方式实现其与基座1的固定，预载力为真空预载力。具体地，预载腔83的腔体开设有抽真空孔，气足本体81上设置有与抽真空孔连通的真空气道，真空气道与气源组件连通，通过真空泵或其他抽真空装置对抽预载腔83抽真空，实现气足8在基座1上的预载。

在其他实施例中，预载力也可以为磁吸预载力，具体地，预载腔83内设置有磁吸件，如磁石等，将基座1设置成由导磁材料制成，或者在基座1对应预载腔83的设置贴设导磁件，通过磁吸件与导磁件的磁吸作用，实现气足8与基座1之间的预载。

在本实施例中，基座1采用大理石基座，但可以理解的是，基座1也可以采用其他能够稳固支撑其上结构的材质制成。

实施例二

图6为本发明实施例提供的运动装置的结构示意图，如图6所示，本实施例提供了一种运动装置，其包括微动台20和实施例一中的XY运动台10，微动台20连接于安装件4的上表面，由此，微动台20可以通过XY运动台10实现沿X方向和沿Y方向的高速和高加速运动，且微动台20用于实现沿Z方向的运动调节及绕Z方向的转动调节。

图7为本发明实施例提供的微动台20的结构示意图，如图7所示，微动台20包括吸盘203、若干组重力补偿装置202、微动底座201以及Rz运动台204，微动底座201与安装件4的上表面连接，若干重力补偿装置202连接于Rz运动台204和微动底座201之间，用于实现Rz运动台204在Z方向的微调；吸盘203连接于Rz运动台204的上表面，Rz运动台204用于实现吸盘203绕Z方向的微调，吸盘203用于吸附连接硅片等基底。由此，该运动装置能够实现X、Y、Z和Rz四个方向的高精度定位。

微动台20的具体结构可参考专利申请CN201911018735.6，此处不再赘述。且可以理解的是，微动态20的结构并不限于专利申请CN201911018735.6中的结构，现有其他能够实现Z向运动和Rz向调节的微动台20的结构形式，均在本发明的保护范围之内。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种XY运动台，其特征在于，包括：

基座（1），其具有与XY平面平行的基准面；

X向导轨单元（2），固设于所述基准面上且沿X方向延伸，所述X向导轨单元（2）沿Y方向相对且间隔设置有两个；

Y向导轨单元（3），其沿Y方向延伸，所述Y向导轨单元（3）的两端分别与两个所述X向导轨单元（2）滑动连接；

安装件（4），其与所述Y向导轨单元（3）滑动连接，所述安装件（4）具有位于所述Y向导轨单元（3）上方的安装面；

气足（8），其与所述安装件（4）连接，所述气足（8）具有吸附于所述基准面上的第一状态和气浮支承于所述基准面上的第二状态；

X向驱动装置（5），其与所述Y向导轨单元（3）连接，用于驱动所述Y向导轨单元（3）沿所述X方向运动；

Y向驱动装置（6），其与所述安装件（4）连接，用于驱动所述安装件（4）相对所述Y向导轨单元（3）沿所述Y方向运动。

2.根据权利要求1所述的XY运动台，其特征在于，所述Y向导轨单元为机械导轨结构。

3.根据权利要求2所述的XY运动台，其特征在于，所述XY运动台还包括柔性件（7），所述柔性件（7）在Z方向的刚度小于所述柔性件（7）在所述X方向和所述Y方向的刚度，所述安装件（4）通过所述柔性件（7）与所述Y向导轨单元（3）连接。

4.根据权利要求3所述的XY运动台，其特征在于，所述Y向导轨单元（3）包括Y向固定座（31），所述Y向固定座（31）沿X方向的相对两侧均设置有Y向导轨（32），每个所述Y向导轨（32）上均滑动连接有Y向滑块（33）；

所述安装件（4）包括位于所述Y向固定座（31）上方的安装板（41）和设置于所述Y向固定座（31）沿Y方向相对两侧的两个转接块（42），所述安装板（41）的上表面形成所述安装面，每个所述转接块（42）和对应的所述Y向滑块（33）之间连接有所述柔性件（7）。

5.根据权利要求4所述的XY运动台，其特征在于，所述柔性件（7）包括相对且间隔设置的导轨连接部（73）和转接连接部（71）以及连接于所述导轨连接部（73）和所述转接连接部（71）之间的柔性部（72），所述柔性部（72）为与XY平面平行的板状结构，且所述柔性部（72）的厚度小于所述导轨连接部（73）的厚度及所述转接连接部（71）的厚度，所述导轨连接部（73）与所述Y向滑块（33）连接，所述转接连接部（71）与所述转接块（42）连接。

6.根据权利要求5所述的XY运动台，其特征在于，所述导轨连接部（73）和所述转接连接部（71）为相互平行的板状结构，所述柔性部（72）分别与所述导轨连接部（73）和所述转接连接部（71）垂直连接。

7.根据权利要求4-6任一项所述的XY运动台，其特征在于，所述Y向固定座（31）的上表面开设有安装槽（311），所述Y向驱动装置（6）包括Y向定子（61）和与所述Y向定子（61）驱动配合的Y向动子（62），所述Y向定子（61）沿所述Y方向延伸且至少下端容纳于所述安装槽（311）中，所述Y向动子（62）与所述安装件（4）连接。

8.根据权利要求4-6任一项所述的XY运动台，其特征在于，所述气足（8）位于所述Y向固定座（31）的下方，且所述Y向固定座（31）下表面与所述气足（8）上表面之间具有间隙，两个所述转接块（42）的下端均与所述气足（8）连接。

9.根据权利要求8所述的XY运动台，其特征在于，所述气足（8）的下表面设置有预载腔（83），所述气足（8）包括位于所述预载腔（83）上方的气足本体（81）和设于所述预载腔（83）周围的气浮部（82），所述气浮部（82）的底部开设有气浮孔（821），所述预载腔（83）用于形成使所述气足（8）吸附于所述基座（1）的预载力，所述预载力为真空预载力或磁吸预载力。

10.根据权利要求1-6任一项所述的XY运动台，其特征在于，所述X向导轨单元（2）包括：

X向固定座（21），其沿X方向延伸，所述X向固定座（21）与所述基准面可拆卸连接，所述X向驱动装置（5）可拆卸设置于所述X向固定座（21）上；

X向导轨（22），其沿所述X方向延伸，且所述X向导轨（22）连接于所述X向固定座（21）的上方，所述X向导轨（22）上滑动连接有X向滑块，所述X向滑块与所述Y向导轨单元（3）连接。

11.一种运动装置，其特征在于，包括微动台（20）和如权利要求1-10任一项所述的XY运动台，所述微动台（20）连接于所述安装面，所述微动台（20）用于实现沿Z方向的运动调节和绕Z方向的转动调节。

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