CN219832581U - 一种半导体产品刻蚀用清洗设备 - Google Patents
一种半导体产品刻蚀用清洗设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN219832581U CN219832581U CN202320949199.7U CN202320949199U CN219832581U CN 219832581 U CN219832581 U CN 219832581U CN 202320949199 U CN202320949199 U CN 202320949199U CN 219832581 U CN219832581 U CN 219832581U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cleaning
- fixedly connected
- plate
- etching
- rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 101
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 13
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 5
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 abstract 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
本实用新型涉及半导体生产设备技术领域,且公开了一种半导体产品刻蚀用清洗设备,包括清洗台,所述清洗台的顶部开设有清洗槽,所述清洗槽设置有两组,所述清洗台顶部设置有液箱,所述清洗台的顶部设置有清洗机构,所述清洗机构包括过滤篮、固定杆和承载板,所述固定杆的尾端插接有定位件,所述定位件的内侧下端固定连接有承载板,所述清洗槽顶部安装有过滤篮。本实用新型通过在清洗台的顶部开设两组清洗槽,向清洗槽内部灌入清洗水,同时使用液箱向清水中添加清洗液,手动将过滤篮由上向下搭接在清洗槽上端,通过这种循环使用方式,避免了单一清洗池内堆积杂质导致其余未清洗的半导体刻蚀清洗不干净的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体生产设备领域,特别涉及一种半导体产品刻蚀用清洗设备。
背景技术
在半导体产品刻蚀工艺结束后为了后续工艺的正常进行,需要对其表面残留的物质进行彻底清洗,当半导体刻蚀结束后不对其进行彻底清洗,在后续过程中易出现污染和刻蚀失败的问题。
现有设备在清洗时,由于清洗池需要依次清洗多个半导体刻蚀,导致清洗池中会出现残留之前清洗遗留下的杂质,若后续待清洗的半导体刻蚀继续在清洗池中清理表面残留物质,则会有之前遗留的杂质依附在半导体刻蚀表面的情况发生,致使半导体刻蚀的清洗不完整。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体产品刻蚀用清洗设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体产品刻蚀用清洗设备,包括:
清洗台,所述清洗台的顶部开设有清洗槽,所述清洗槽设置有两组,所述清洗台顶部设置有液箱;
所述清洗台的顶部设置有清洗机构;
所述清洗机构包括过滤篮、固定杆和承载板,所述固定杆的尾端插接有定位件,所述定位件的内侧下端固定连接有承载板,所述清洗槽顶部安装有过滤篮,所述清洗台的侧边固定连接有储水箱,所述定位件的下端设置有限位组件。
优选的,所述定位件由圆环和L架杆组成,所述L架杆设置有两组,两个所述L架杆以圆环中心处呈对称分布,所述L架杆的上端与定位件外壁固定连接。
优选的,所述限位组件包括限位杆、弹簧和压实板,所述L架杆的下端开设有活动槽,所述限位杆安装于活动槽内,所述限位杆的外壁套有弹簧,所述弹簧的底部与压实板顶部固定连接。
优选的,所述压实板与L架杆开设的活动槽活动连接,所述限位杆与压实板活动穿插,所述压实板的一端与承载板顶部搭接。
优选的,所述清洗台的背部固定连接有固定架,所述固定架顶部设置有气缸,所述气缸的伸缩轴固定连接有连接板,所述连接板的顶部设置有支撑板,所述支撑板与连接板通过螺栓固定连接,所述支撑板的前端设置有调节组件。
优选的,所述调节组件包括伺服电机,所述伺服电机的外壳与支撑板顶部可拆卸连接,所述伺服电机的输出端固定连接有活动块,所述活动块的侧边与固定杆的首端固定连接,所述清洗台的正面设置有清洗枪。
本实用新型的技术效果和优点:
本实用新型通过在清洗台的顶部开设两组清洗槽,向清洗槽内部灌入清洗水,同时使用液箱向清水中添加清洗液,手动将过滤篮由上向下搭接在清洗槽上端,启动气缸带着支撑板、固定杆和承载板深入到清洗液中,对承载板顶部的半导体刻蚀清洗,经过清洗后的半导体刻蚀被气缸抬升到高处后,工人将过滤篮抬起,半导体刻蚀清洗后的杂质被过滤在过滤篮内部,将过滤篮放入到储水箱内由清洗枪冲洗杂质放入到另一组清洗槽上即可,通过这种循环使用方式,避免了单一清洗池内堆积杂质导致其余未清洗的半导体刻蚀清洗不干净的问题。
附图说明
图1为本实用新型整体立体结构示意图。
图2为本实用新型过滤篮结构示意图。
图3为本实用新型定位架结构示意图。
图中:1、清洗台;2、固定架;3、气缸;4、连接板;5、支撑板;6、伺服电机;7、活动块;8、固定杆;9、定位件;10、限位杆;11、弹簧;12、压实板;13、过滤篮;14、清洗池;15、清洗枪;16、储水箱;17、承载板;18、液箱。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1-3所示的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,包括:
清洗台1,清洗台1的顶部开设有清洗槽14,清洗槽14设置有两组,清洗台1顶部设置有液箱18;
清洗台1的顶部设置有清洗机构;
清洗机构包括过滤篮13、固定杆8和承载板17,固定杆8的尾端插接有定位件9,定位件9的内侧下端固定连接有承载板17,清洗槽14顶部安装有过滤篮13,清洗台1的侧边固定连接有储水箱16,定位件9的下端设置有限位组件,定位件9由圆环和L架杆组成,L架杆设置有两组,两个L架杆以圆环中心处呈对称分布,L架杆的上端与定位件9外壁固定连接,限位组件包括限位杆10、弹簧11和压实板12,L架杆的下端开设有活动槽,限位杆10安装于活动槽内,限位杆10的外壁套有弹簧11,弹簧11的底部与压实板12顶部固定连接,压实板12与L架杆开设的活动槽活动连接,限位杆10与压实板12活动穿插,压实板12的一端与承载板17顶部搭接,清洗台1的背部固定连接有固定架2,固定架2顶部设置有气缸3,气缸3的伸缩轴固定连接有连接板4,连接板4的顶部设置有支撑板5,支撑板5与连接板4通过螺栓固定连接,支撑板5的前端设置有调节组件,调节组件包括伺服电机6,伺服电机6的外壳与支撑板5顶部可拆卸连接,伺服电机6的输出端固定连接有活动块7,活动块7的侧边与固定杆8的首端固定连接,清洗台1的正面设置有清洗枪15;
参照图1、图2和图3,过滤篮13最上端搭接在清洗槽14的上方,清洗用的水透过过滤篮13侧边的过滤网和过滤芯集中在过滤篮13内,放置在承载板17顶部的半导体刻蚀被气缸3和固定杆8缓慢放入到承载板17顶部,由承载板17支撑半导体刻蚀放入到过滤篮13内进行表面清洗,清洗后的杂质堆积在过滤篮13内,由过滤篮13过滤,清洗结束后气缸3将承载板17抬升到指定高度后,将过滤篮13取出,此时杂质被滤芯过滤,清洗水透过过滤孔,将使用后的过滤篮13放入到储水箱16内,依靠清洗枪15对其进行冲洗,冲洗掉杂质的过滤篮13重新放入到清洗槽14处,进行循环使用,定位件9两侧表面对称固定的L架杆通过开设活动槽,用于压实板12能够对半导体刻刻蚀压住限位,压实板12的长度尺寸可以根据半导体规格更换。
本实用新型工作原理:
通过在清洗台1的顶部开设两组清洗槽14,向清洗槽14内部灌入清洗水,同时使用液箱18向清水中添加清洗液,手动将过滤篮13由上向下搭接在清洗槽14上端,启动气缸3带着支撑板5、固定杆8和承载板17深入到清洗液中,对承载板17顶部的半导体刻蚀清洗,经过清洗后的半导体刻蚀被气缸3抬升到高处后,工人将过滤篮13抬起,半导体刻蚀清洗后的杂质被过滤在过滤篮13内部,将过滤篮13放入到储水箱16内由清洗枪15冲洗杂质放入到另一组清洗槽14上即可,通过这种循环使用方式,避免了单一清洗池内堆积杂质导致其余未清洗的半导体刻蚀清洗不干净的问题。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种半导体产品刻蚀用清洗设备,包括:
清洗台(1),所述清洗台(1)的顶部开设有清洗槽(14),所述清洗槽(14)设置有两组,所述清洗台(1)顶部设置有液箱(18);
其特征在于,所述清洗台(1)的顶部设置有清洗机构;
所述清洗机构包括过滤篮(13)、固定杆(8)和承载板(17),所述固定杆(8)的尾端插接有定位件(9),所述定位件(9)的内侧下端固定连接有承载板(17),所述清洗槽(14)顶部安装有过滤篮(13),所述清洗台(1)的侧边固定连接有储水箱(16),所述定位件(9)的下端设置有限位组件。
2.根据权利要求1所述的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,其特征在于,所述定位件(9)由圆环和L架杆组成,所述L架杆设置有两组,两个所述L架杆以圆环中心处呈对称分布,所述L架杆的上端与定位件(9)外壁固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,其特征在于,所述限位组件包括限位杆(10)、弹簧(11)和压实板(12),所述L架杆的下端开设有活动槽,所述限位杆(10)安装于活动槽内,所述限位杆(10)的外壁套有弹簧(11),所述弹簧(11)的底部与压实板(12)顶部固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,其特征在于,所述压实板(12)与L架杆开设的活动槽活动连接,所述限位杆(10)与压实板(12)活动穿插,所述压实板(12)的一端与承载板(17)顶部搭接。
5.根据权利要求1所述的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,其特征在于,所述清洗台(1)的背部固定连接有固定架(2),所述固定架(2)顶部设置有气缸(3),所述气缸(3)的伸缩轴固定连接有连接板(4),所述连接板(4)的顶部设置有支撑板(5),所述支撑板(5)与连接板(4)通过螺栓固定连接,所述支撑板(5)的前端设置有调节组件。
6.根据权利要求5所述的一种半导体产品刻蚀用清洗设备,其特征在于,所述调节组件包括伺服电机(6),所述伺服电机(6)的外壳与支撑板(5)顶部可拆卸连接,所述伺服电机(6)的输出端固定连接有活动块(7),所述活动块(7)的侧边与固定杆(8)的首端固定连接,所述清洗台(1)的正面设置有清洗枪(15)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320949199.7U CN219832581U (zh) | 2023-04-24 | 2023-04-24 | 一种半导体产品刻蚀用清洗设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320949199.7U CN219832581U (zh) | 2023-04-24 | 2023-04-24 | 一种半导体产品刻蚀用清洗设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN219832581U true CN219832581U (zh) | 2023-10-13 |
Family
ID=88279879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202320949199.7U Active CN219832581U (zh) | 2023-04-24 | 2023-04-24 | 一种半导体产品刻蚀用清洗设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN219832581U (zh) |
-
2023
- 2023-04-24 CN CN202320949199.7U patent/CN219832581U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109530329B (zh) | 一种蓄电池极板的自动化清洗装置 | |
CN106734015B (zh) | 一种机械领域的玻璃板自动清洗设备 | |
CN209790972U (zh) | 一种污水处理用压泥设备清洗装置 | |
CN219832581U (zh) | 一种半导体产品刻蚀用清洗设备 | |
CN113770113B (zh) | 一种半导体清洗装置 | |
CN213081148U (zh) | 一种带有余料收集的抛光加工装置 | |
CN214321024U (zh) | 一种稀释剂生产用设备清洗装置 | |
CN210108676U (zh) | 一种设有拖曳装置的实验用水池 | |
CN211488939U (zh) | 一种污水处理用清洗装置 | |
CN211298356U (zh) | 一种喷淋式清洗设备 | |
CN220862144U (zh) | 一种水泵用清洁装置 | |
CN218498686U (zh) | 一种输电线路异物清理装置 | |
CN213861396U (zh) | 一种丝网印刷清洁装置 | |
CN218157445U (zh) | 一种工程检测用混凝土性能测试仪器 | |
CN213825370U (zh) | 一种清洗油过滤用滤油设备 | |
CN211193520U (zh) | 一种汽车钣金用水射流切割机 | |
CN217251186U (zh) | 一种拖拉机前桥托架生产用电解除油超声波清洗机 | |
CN216323645U (zh) | 一种机械轴承加工用清洗装置 | |
CN215505652U (zh) | 一种便于更换砂滤滤料的快速更换装置 | |
CN215318625U (zh) | 一种模具生产放置架 | |
CN220497055U (zh) | 一种铝单板加工装置 | |
CN215656875U (zh) | 一种高通量的细胞转染管路清洗装置 | |
CN220495695U (zh) | 一种用于拉丝油制备的过滤装置 | |
CN219926737U (zh) | 一种注塑模具用清洗装置 | |
CN218610728U (zh) | 一种方便放取容器的超声波清洗机 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |