CN219660311U - 显示装置 - Google Patents

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裵光洙
金建熙
李大荣
崔珉午
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Abstract

提供了一种显示装置。所述显示装置包括：子像素，被配置为发射光；光感测像素，包括光接收元件，光接收元件包括光接收层，光接收层被配置为获得与从子像素发射的光对应的感测信号；触摸传感器，包括导电层，其中，导电层包括在平面图中与光接收层叠置的孔区域。所述显示装置能够通过改善光感测像素的感测性能来清楚地感测外部输入。

Description

显示装置
本申请要求于2022年3月16日提交的第10-2022-0032966号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
公开的一些实施例的方面涉及一种显示装置。
背景技术
随着信息社会的发展，对用于显示图像的显示装置的需求正在以各种形式增加。例如，显示装置可以应用于诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航装置和智能电视的各种电子装置。
最近，正在进行对用于将用于识别指纹等的指纹传感器集成于在显示装置中占据相对大的面积的显示面板中的技术的研究和开发。
本背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对背景的理解，因此本背景技术部分中讨论的信息不一定构成现有技术。
实用新型内容
公开的方面包括一种能够通过改善光感测像素的感测性能来清楚地感测外部输入的显示装置。
公开的方面不限于上述目的，并且本领域技术人员将从以下描述中清楚地理解未提及的其他目的。
根据本公开的一些实施例，显示装置可以包括：子像素，被配置为发射光；光感测像素，包括光接收元件，光接收元件包括光接收层，光接收层被配置为获得与从子像素发射的光对应的感测信号；触摸传感器，包括导电层，并且导电层可以包括在平面图中与光接收层叠置的孔区域。
根据一些实施例，子像素可以包括发射区域，从子像素发射的光从发射区域发射，并且光感测像素可以包括被配置为接收光的光接收区域。
根据一些实施例，导电层的一部分可以围绕发射区域，并且导电层的另一部分可以围绕光接收区域，并且在平面图中，导电层的另一部分可以围绕光接收区域的在孔区域中的部分。
根据一些实施例，导电层包括与孔区域相邻的突出部，以限定孔区域。
根据一些实施例，导电层可以包括第一导电层和第二导电层，并且突出部可以从第二导电层的一部分延伸，并且可以在平面图中与光接收层叠置而不与第一导电层叠置。
根据一些实施例，相比于第一导电层，第二导电层可以与显示装置的底表面间隔开得更远。
根据一些实施例，导电层可以包括第一区域和第二区域，导电层的第一区域可以与孔区域相邻并且围绕孔区域的至少一部分，并且导电层的第二区域可以与孔区域间隔开。
根据一些实施例，导电层的第一区域可以具有第一宽度，并且导电层的第二区域可以具有第二宽度，并且第一宽度可以大于第二宽度。
根据一些实施例，导电层还可以包括第三区域，导电层的第三区域可以是连接相邻的第二区域的区域，并且第三区域可以具有形成开口区域的多边形形状，或者可以具有其中相邻的第二区域彼此相交而不形成开口区域的形状。
根据一些实施例，导电层与发射区域间隔开分离距离，孔区域的直径可以小于分离距离，孔区域的直径可以为7.5μm或更小，并且分离距离可以为8.0μm至15μm。
根据本公开的一些实施例，显示装置可以包括：子像素，在基底上并且包括发光元件；光感测像素，在基底上并且包括光接收元件，光接收元件包括光接收层，光接收层被配置为获得与从发光元件发射的光对应的感测信号；触摸传感器，被配置为获得关于触摸输入的信息并且包括导电层，并且导电层可以形成在平面图中与光接收层叠置的孔区域。
根据一些实施例，子像素可以包括发射区域，从发光元件发射的光从发射区域发射，并且光感测像素可以包括接收光的光接收区域。
根据一些实施例，导电层的一部分可以围绕发射区域，并且导电层的另一部分可以围绕光接收区域。
根据一些实施例，在平面图中，导电层可以围绕光接收区域的在孔区域中的部分。
根据一些实施例，导电层可以包括与孔区域相邻的突出部，以限定孔区域。
根据一些实施例，导电层可以包括第一导电层和第二导电层，突出部可以从第二导电层的一部分延伸，并且在平面图中与光接收层叠置而不与第一导电层叠置。
根据一些实施例，相比于第一导电层，第二导电层可以与基底间隔开得更远。
根据一些实施例，导电层可以包括第一区域和第二区域，导电层的第一区域可以与孔区域相邻并且围绕孔区域的至少一部分，并且导电层的第二区域可以与孔区域间隔开。
根据一些实施例，导电层的第一区域可以具有第一宽度，并且导电层的第二区域可以具有第二宽度，并且第一宽度可以大于第二宽度。
根据一些实施例，导电层还可以包括第三区域，导电层的第三区域可以是连接相邻的第二区域的区域，并且第三区域可以具有形成开口区域的多边形形状。
根据一些实施例，导电层还可以包括第三区域，导电层的第三区域可以是连接相邻的第二区域的区域，并且第三区域可以具有其中相邻的第二区域彼此相交而不形成开口区域的形状。
根据一些实施例，孔区域可以在平面图中具有矩形形状。
根据一些实施例，孔区域的直径可以为7.5μm或更小。
根据一些实施例，导电层可以与发射区域间隔开分离距离，并且孔区域的直径可以小于分离距离。
根据一些实施例，分离距离可以为8.0μm或更大且15μm或更小。
根据一些实施例，导电层可以通过湿蚀刻工艺图案化。
根据一些实施例，子像素可以包括发射第一颜色的光的第一子像素、发射第二颜色的光的第二子像素和发射第三颜色的光的第三子像素，并且光接收区域可以在第一方向上与第一子像素的发射区域和第三子像素的发射区域相邻，并且可以在与第一方向不同的第二方向上与第二子像素的发射区域相邻。
根据一些实施例，光接收元件可以包括从由光电二极管、CMOS图像传感器、CCD相机和光电晶体管组成的组中选择的一者。
根据一些实施例，导电层可以形成触摸传感器的驱动电极和接收电极。
根据本公开的一些实施例，显示装置可以包括：发光元件，在基底上；光接收层，在基底上；以及导电层，在基底上并且形成触摸电极。导电层可以限定与光接收层叠置的孔区域，并且导电层可以通过湿蚀刻工艺图案化。
本实用新型的显示装置能够通过改善光感测像素的感测性能来清楚地感测外部输入。
附图说明
附图被包括以提供对本实用新型构思的进一步理解，附图被并入本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本实用新型构思的实施例，并且与描述一起用于解释本实用新型构思的原理。
图1和图2是示意性示出根据一些实施例的显示装置的平面图。
图3是示意性示出根据一些实施例的显示装置的剖视图。
图4是示意性示出根据一些实施例的包括在显示装置中的子像素和光感测像素的电路图。
图5是示意性示出根据一些实施例的显示面板的剖视图。
图6是示意性示出根据一些实施例的图2的区域EA的放大图。
图7和图8是示意性示出根据一些实施例的用于解释导电层的布置结构的图2的区域EA的放大图。
图9和图10是根据一些实施例的沿着图6的线I-I'截取的示意性剖视图。
图11是根据一些实施例的显示面板的用于解释改善光感测像素的感测性能的技术效果的示意性剖视图。
具体实施方式
由于公开允许各种改变和许多实施例，因此将在附图中示出并在书面描述中详细描述具体实施例。然而，这不旨在将公开限制于具体的实践模式，并且将理解的是，不脱离公开的特征和技术范围的所有改变、等同物和替代物都包含在公开中。
将理解的是，尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离公开的范围的情况下，下面讨论的第一元件可以被命名为第二元件。类似地，第二元件也可以被命名为第一元件。在公开中，除非上下文另外清楚地指出，否则单数表述也旨在包括复数表述。
还将理解的是，公开中使用的术语“包含”、“包括”、“具有”等说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合，但不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。此外，当诸如层、膜、区域、板等的第一部分在第二部分上时，第一部分不仅可以“直接在”第二部分上，而且第三部分可以居于第一部分与第二部分之间。此外，在公开中，当诸如层、膜、区域、板等的第一部分形成在第二部分上时，第一部分形成的方向不限于第二部分的上方向，而是可以包括第二部分的侧方向或下方向。相反，当诸如层、膜、区域、板等的第一部分“在”第二部分“下面”时，第一部分不仅可以“直接在”第二部分“下面”，而且第三部分可以居于第一部分与第二部分之间。
公开涉及一种显示装置。在下文中，将参照附图描述根据一些实施例的显示装置。
图1和图2是示意性示出根据一些实施例的显示装置的平面图。例如，图1和图2可以是示意性示出根据一些实施例的包括在显示装置DD中的显示面板DP以及用于驱动显示面板DP的驱动电路DCP的平面图。
为了便于描述，在图1和图2中，将显示面板DP和驱动电路DCP示出为分离的。然而，根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，驱动电路DCP的全部或部分可以与显示面板DP一体地实现。
参照图1和图2，显示装置DD可以包括显示面板DP和驱动电路DCP。
显示装置DD可以被配置为提供光。显示装置DD可以具有各种形状。例如，显示装置DD可以设置为具有彼此平行的两对边的矩形板形状。根据一些实施例，长边的延伸方向被表示为第二方向DR2，短边的延伸方向被表示为第一方向DR1。根据一些实施例，设置为矩形板形状的显示装置DD可以在一条长边和一条短边彼此接触的拐角处具有圆滑形状。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，显示装置DD的至少一部分可以具有柔性，并且可以在柔性部分处折叠。
显示装置DD可以应用于各种装置。例如，显示装置DD可以是柔性显示装置、弯曲显示装置、可折叠显示装置或可弯曲显示装置。此外，显示装置DD可以应用于透明显示装置、头戴式显示装置、可穿戴显示装置等。然而，根据本公开的实施例不限于此。
显示面板DP可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。在显示区域DA中，可以设置子像素SPX(或像素PXL)以显示图像。非显示区域NDA可以定位在显示区域DA的至少一侧。例如，非显示区域NDA可以具有围绕显示区域DA的形状。也就是说，非显示区域NDA可以定位在显示区域DA的外围中。
多个子像素SPX可以设置在显示区域DA中。根据一些实施例，子像素SPX中的每个可以包括至少一个发光元件LD(参照图5)。根据一些实施例，发光元件LD可以是有机发光二极管或包括超小无机发光二极管的发光单元，超小无机发光二极管具有微米级至纳米级范围的尺寸。然而，根据本公开的实施例不限于此。显示装置DD可以响应于输入图像数据通过驱动子像素SPX来在显示区域DA中显示图像。
非显示区域NDA可以是围绕显示区域DA的至少一条边的区域，并且可以包括除了显示区域DA之外的剩余区域。根据一些实施例，非显示区域NDA可以包括布线区域、垫(pad，或称为“焊盘”或“焊垫”)区域和/或各种虚设区域。
根据一些实施例，显示区域DA的一个区域可以被设定为感测区域SA，感测区域SA被配置为检测用户的指纹等。也就是说，显示区域DA的至少一部分可以是感测区域SA。感测区域SA可以包括设置在显示区域DA中的子像素SPX中的至少一些。
根据一些实施例，显示区域DA的仅一部分可以被设定为感测区域SA。此外，根据一些实施例，整个显示区域DA可以被设定为感测区域SA。当整个显示区域DA被设定为感测区域SA时，围绕显示区域DA的非显示区域NDA可以是非感测区域NSA。多个光感测像素PSR(或光传感器)可以与多个子像素SPX一起定位在感测区域SA中。也就是说，根据一些实施例，光感测像素PSR可以遍及整个显示区域DA定位，使得可以在观看图像的区域中检测用户的指纹。
光感测像素PSR中的每个可以包括光接收元件OPD(参照图5)，光接收元件OPD包括光接收层OPL(参照图5)。光接收元件OPD的光接收层OPL在显示区域DA中可以与发光元件LD的发射层EML(参照图5)间隔开。
根据一些实施例，多个光感测像素PSR可以遍及整个显示区域DA分布为彼此间隔开。然而，根据本公开的实施例不限于此。如图1中所示，当显示区域DA在第二方向DR2上被划分为第一区域A1和第二区域A2时，光感测像素PSR可以仅定位在第二区域A2中。根据一些实施例，光感测像素PSR也可以定位在非显示区域NDA的至少一部分中。
根据一些实施例，光感测像素PSR可以感测从光源(例如，发光元件LD)发射并被外部物体(例如，用户的手指等)反射的光。例如，可以通过光感测像素PSR中的每个来感测用户的指纹。在下文中，作为示例将描述其中光感测像素PSR用于感测指纹的实施例。然而，在一些实施例中，光感测像素PSR可以感测各种生物信息(诸如虹膜和静脉)。此外，光感测像素PSR可以感测外部光并且可以执行诸如手势传感器、运动传感器、接近传感器、照度传感器或图像传感器的功能。
驱动电路DCP可以驱动显示面板DP。例如，驱动电路DCP可以将与图像数据对应的数据信号输出到显示面板DP。此外，驱动电路DCP可以输出用于光感测像素PSR的驱动信号，并且接收从光感测像素PSR接收的电信号(例如，感测信号)。驱动电路DCP可以使用电信号来检测用户的指纹的形状。
根据一些实施例，驱动电路DCP可以包括面板驱动器PNDP和指纹检测器FPDP(或传感器驱动器)。为了便于描述，在图1和图2中，将面板驱动器PNDP和指纹检测器FPDP示出为分离的，但是根据本公开的实施例不限于此。例如，指纹检测器FPDP的至少一部分可以与面板驱动器PNDP集成在一起，或者可以与面板驱动器PNDP一起操作。
面板驱动器PNDP可以在顺序地扫描显示区域DA的子像素SPX的同时将与图像数据信号对应的数据信号供应到子像素SPX。在这种情况下，显示面板DP可以显示与图像数据对应的图像。
根据一些实施例，面板驱动器PNDP可以将用于检测指纹的驱动信号供应到子像素SPX。可以提供驱动信号，使得子像素SPX发光并且作为光源操作，使得光感测像素PSR可以感测指纹。根据一些实施例，面板驱动器PNDP可以将用于感测指纹的驱动信号和/或其他驱动信号供应到光感测像素PSR。然而，根据本公开的实施例不限于此，用于感测指纹的驱动信号可以由指纹检测器FPDP提供。
指纹检测器FPDP可以基于从光感测像素PSR接收的感测信号来检测生物信息(诸如用户的指纹)。根据一些实施例，指纹检测器FPDP可以将驱动信号供应到光感测像素PSR和/或子像素SPX。
图3是示意性示出根据一些实施例的显示装置的剖视图。
在图3中，为了便于描述，将显示装置DD的厚度方向表示为第三方向DR3。参照图3，显示装置DD可以包括显示模块DM和窗WD。
显示模块DM可以包括显示面板DP和触摸传感器TS。
触摸传感器TS可以直接定位在显示面板DP上，或者可以定位在显示面板DP上且诸如粘合层或基底(或绝缘层)的分离层置于触摸传感器TS与显示面板DP之间。
显示面板DP可以显示图像。诸如有机发光显示面板(OLED面板)的被配置为自发光的显示面板可以用作显示面板DP。此外，诸如液晶显示面板(LCD面板)、电泳显示面板(EPD面板)和电润湿显示面板(EWD面板)的非发光显示面板可以用作显示面板DP。当非发光显示面板用作显示面板DP时，显示装置DD可以包括用于向显示面板DP供应光的背光单元。在下文中，将更详细地描述其中显示面板DP包括有机发光显示面板的实施例。
触摸传感器TS可以定位在显示面板DP的其上显示图像的一个表面上，以接收用户的触摸输入。触摸传感器TS可以获得关于触摸输入的信息。触摸传感器TS可以识别显示装置DD的通过用户的手或单独的输入装置的触摸事件。触摸传感器TS可以以电容方式来识别触摸事件。
触摸传感器TS可以使用互电容方法来感测触摸输入，或者可以使用自电容方法来感测触摸输入。
窗WD可以设置在显示模块DM上。窗WD可以保护显示模块DM免受外部冲击，并且可以向用户提供输入表面和/或显示表面。窗WD可以利用光学透明粘合构件OCA结合到显示模块DM。根据一些实施例，窗WD可以具有基底或膜结构。窗WD可以具有单层结构或多层结构。窗WD的全部或部分可以是柔性的。
图4是示意性示出根据一些实施例的包括在显示装置中的子像素和光感测像素的电路图。
在图4中，为了便于描述，示出了定位在第i像素行(或第i水平线)中并且连接到第j数据线Dj的子像素SPX(或像素PXL)和定位在第i像素行中并且连接到第j指纹感测线FSLj(或引出线(lead-out line))的光感测像素PSR，其中，i和j可以是大于0的自然数。
参照图4，子像素SPX可以包括像素电路PXC和连接到像素电路PXC的发光元件LD，光感测像素PSR可以包括传感器电路SSC和连接到传感器电路SSC的光接收元件OPD。
发光元件LD的一个电极(或阳极电极)可以连接到第四节点N4，并且发光元件LD的另一个电极(或阴极电极)可以连接到第二驱动电源ELVSS。发光元件LD可以响应于从第一晶体管T1供应的电流(驱动电流)的量而产生具有预定亮度的光。
根据一些实施例，发光元件LD可以是包括有机发光层的有机发光二极管。根据一些实施例，发光元件LD可以是由无机材料形成的无机发光元件或由无机材料和有机材料组合构成的发光元件。
根据一些实施例，光接收元件OPD可以获得(或输出)与从发光元件LD发射的光对应的感测信号。根据一些实施例，光接收元件OPD可以是有机光电二极管。光接收元件OPD的一个电极(或第一传感器电极)可以连接到第五节点N5，并且光接收元件OPD的另一个电极(或第二传感器电极)可以连接到第二驱动电源ELVSS。光接收元件OPD可以基于入射在光接收层上的光的强度产生包括自由电子和空穴的载流子，并且可以通过载流子的移动而产生电流(光电流)。
像素电路PXC可以包括第一晶体管T1、第二晶体管T2和存储电容器Cst。根据一些实施例，像素电路PXC还可以包括第三晶体管T3至第七晶体管T7。
第一晶体管T1(或驱动晶体管)的栅电极可以连接到第一节点N1，第一晶体管T1的第一电极可以连接到第二节点N2，第一晶体管T1的第二电极可以连接到第三节点N3。
第一晶体管T1可以响应于第一节点N1的电压来控制从第一驱动电源ELVDD经由发光元件LD流向第二驱动电源ELVSS的电流的量。为此，第一驱动电源ELVDD可以被设定为具有比第二驱动电源ELVSS的电压高的电压。
第二晶体管T2(或开关晶体管)可以连接在连接到像素PXL的第j数据线Dj(在下文中，称为数据线)与第二节点N2之间。第二晶体管T2的栅电极可以连接到与像素PXL连接的第一扫描线S1i。第二晶体管T2可以在扫描信号被供应到第一扫描线S1i时导通，以将数据线Dj和第二节点N2电连接。
第三晶体管T3(或补偿晶体管)可以连接在第一晶体管T1的第二电极(即，第三节点N3)与栅电极(即，第一节点N1)之间。第三晶体管T3的栅电极可以连接到第一扫描线S1i。第三晶体管T3可以在扫描信号被供应到第一扫描线S1i时导通，以将第一晶体管T1的第二电极和栅电极(或第三节点N3和第一节点N1)电连接。也就是说，可以通过扫描信号来控制第一晶体管T1的第二电极与第一晶体管T1的栅电极彼此连接的时刻。当第三晶体管T3导通时，第一晶体管T1可以以二极管形式连接。
第四晶体管T4(或第一初始化晶体管)可以连接在第一节点N1(或第一晶体管T1的栅电极)与被施加有初始化电压VINIT的第三电源线PL3之间。第四晶体管T4的栅电极可以连接到第二扫描线S2i。第四晶体管T4可以响应于供应到第二扫描线S2i的扫描信号而导通，以将初始化电压VINIT供应到第一节点N1。在此，初始化电压VINIT可以被设定为比供应到数据线Dj的数据电压VDATA低的电压。因此，当第四晶体管T4导通时，第一晶体管T1的栅极电压(或第一节点N1的电压)可以被初始化为初始化电压VINIT。
第五晶体管T5(或第一发射控制晶体管)可以连接在第一电源线PL1(或第一驱动电压线)与第二节点N2之间。第五晶体管T5的栅电极可以连接到第i发射控制线Ei(在下文中，称为发射控制线)。第五晶体管T5可以在发射控制信号被供应到发射控制线Ei时导通，并且可以在其他情况下截止。
第六晶体管T6(或第二发射控制晶体管)可以连接在第一晶体管T1的第二电极(即，第三节点N3)与第四节点N4之间。第六晶体管T6的栅电极可以连接到发射控制线Ei。可以与第五晶体管T5基本上相同地控制第六晶体管T6。
第五晶体管T5和第六晶体管T6可以响应于通过发射控制线Ei供应的发射控制信号而导通，并且可以形成驱动电流通过其在第一电源线PL1与第四节点N4之间(或者在第一电源线PL1与第二电源线PL2之间)流动的路径。
图4示出了其中第五晶体管T5和第六晶体管T6连接到同一发射控制线Ei的实施例。然而，这仅是示例，第五晶体管T5和第六晶体管T6可以分别连接到被供应有不同的发射控制信号的单独的发射控制线。
第七晶体管T7(或第二初始化晶体管)可以连接在第四节点N4与第三电源线PL3之间。第七晶体管T7的栅电极可以连接到第三扫描线S3i。第七晶体管T7可以在扫描信号被供应到第三扫描线S3i时导通，以将初始化电压VINIT供应到第四节点N4。
存储电容器Cst可以连接在第一电源线PL1与第一节点N1之间。存储电容器Cst可以存储与第一电源线PL1的第一驱动电源ELVDD的电压和通过从施加到第二节点N2的数据电压减去第一晶体管T1的阈值电压的绝对值而获得的电压之间的电压差对应的电压。
根据一些实施例，在将扫描信号供应到第二扫描线S2i之后，可以将扫描信号供应到第一扫描线S1i。例如，供应到第二扫描线S2i的扫描信号和供应到第一扫描线S1i的扫描信号可以以一个水平周期的差供应。根据一些实施例，扫描信号可以同时被施加到第三扫描线S3i和第一扫描线S1i。然而，根据本公开的实施例不限于此，在将扫描信号供应到第三扫描线S3i之后，可以将扫描信号供应到第一扫描线S1i。例如，供应到第三扫描线S3i的扫描信号与供应到第一扫描线S1i的扫描信号之间的间隔可以是一个水平周期。可选地，在将扫描信号供应到第一扫描线S1i之后，可以将扫描信号供应到第三扫描线S3i。
传感器电路SSC可以包括第一传感器晶体管FT1、第二传感器晶体管FT2和第三传感器晶体管FT3。
第二传感器晶体管FT2和第三传感器晶体管FT3可以串联连接在感测电源线PL4(或第四电源线)与第j指纹感测线FSLj(在下文中，称为指纹感测线)之间。
第一传感器晶体管FT1可以连接在前一感测扫描线SSi-1与第五节点N5(或光接收元件OPD的第一电极)之间。第一传感器晶体管FT1的栅电极可以连接到第i感测扫描线SSi(在下文中，称为感测扫描线)。第一传感器晶体管FT1可以通过供应到感测扫描线SSi的感测扫描信号而导通，以将供应到前一感测扫描线SSi-1的电压供应到第五节点N5。第一传感器晶体管FT1可以用于重置(或初始化)第五节点N5的电压。
第二传感器晶体管FT2的栅电极可以连接到第五节点N5。第二传感器晶体管FT2可以通过由光接收元件OPD产生的光电流基于第五节点N5的电压来产生从感测电源线PL4流向指纹感测线FSLj的感测电流。
根据一些实施例，第三传感器晶体管FT3的栅电极可以连接到第i-1感测扫描线SSi-1(即，前一感测扫描线)。第三传感器晶体管FT3可以在感测扫描信号供应到前一感测扫描线SSi-1时导通，以将第二传感器晶体管FT2和指纹感测线FSLj电连接。然后，感测信号(感测电流)可以通过指纹感测线FSLj供应到指纹检测器FPDP。
包括在像素电路PXC中的第一晶体管T1至第七晶体管T7以及包括在传感器电路SSC中的第一传感器晶体管FT1至第三传感器晶体管FT3可以是P型晶体管(例如，PMOS晶体管)，但是根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，第一晶体管T1至第七晶体管T7或第一传感器晶体管FT1至第三传感器晶体管FT3中的至少一个可以被实现为N型晶体管(例如，NMOS晶体管)。当第一晶体管T1至第七晶体管T7以及第一传感器晶体管FT1至第三传感器晶体管FT3是N型晶体管时，源区(或源电极)和漏区(或漏电极)的位置可以改变为彼此相反。
图5是示意性示出根据一些实施例的显示面板的剖视图。
参照图5，显示面板DP可以包括至少一个子像素SPX(或像素PXL)和至少一个光感测像素PSR。
子像素SPX可以定位在显示区域DA中包括的像素区域中。根据一些实施例，像素区域可以包括发射区域EMA以及与发射区域EMA相邻的非发射区域NEMA。光感测像素PSR可以包括光接收区域FXA以及与光接收区域FXA相邻的非发射区域NEMA。
子像素SPX可以包括顺序地布置在基底SUB上的像素电路层PCL、显示元件层DPL和薄膜封装层TFE。光感测像素PSR可以包括顺序地布置在基底SUB上的像素电路层PCL、传感器层SSL和薄膜封装层TFE。
子像素SPX的像素电路层PCL可以包括设置在基底SUB上的像素电路PXC和连接到像素电路PXC的信号线。此外，子像素SPX的像素电路层PCL可以包括位于像素电路PXC中包括的组件之间的至少一个绝缘层。
显示元件层DPL可以形成在子像素SPX的像素电路层PCL上。显示元件层DPL可以包括发射光的发光元件LD。发光元件LD可以包括阳极电极AE、发射层EML和阴极电极CE。发光元件LD可以是顶发射型有机发光元件。阳极电极AE可以电连接到像素电路PXC。
子像素SPX的显示元件层DPL可以包括像素限定层PDL，像素限定层PDL包括使阳极电极AE的一部分暴露的第一开口OP1。像素限定层PDL可以设置在阳极电极AE和像素电路层PCL上。此外，显示元件层DPL可以包括设置在发射区域EMA和非发射区域NEMA中的空穴控制层HCL和电子控制层ECL。空穴控制层HCL可以包括空穴传输层，并且还可以包括空穴注入层。空穴控制层HCL可以设置在像素限定层PDL和通过像素限定层PDL的第一开口OP1暴露的阳极电极AE上。发射层EML可以至少设置在发射区域EMA的空穴控制层HCL上。电子控制层ECL可以定位在发射层EML上。电子控制层ECL可以包括电子传输层，并且还可以包括电子注入层。阴极电极CE可以设置在电子控制层ECL上。
光感测像素PSR的像素电路层PCL可以包括设置在基底SUB上的传感器电路SSC和连接到传感器电路SSC的信号线。此外，光感测像素PSR的像素电路层PCL可以包括位于传感器电路SSC中包括的组件之间的至少一个绝缘层。
传感器层SSL可以形成在光感测像素PSR的像素电路层PCL上。传感器层SSL可以包括接收光的光接收元件OPD。光接收元件OPD可以包括第一电极E1、光接收层OPL和第二电极E2。第一电极E1可以电连接到传感器电路SSC。
光感测像素PSR的传感器层SSL可以包括像素限定层PDL，像素限定层PDL包括使第一电极E1的一部分暴露的第二开口OP2。像素限定层PDL可以是子像素SPX的像素限定层PDL。像素限定层PDL可以设置在第一电极E1和像素电路层PCL上。此外，传感器层SSL可以包括设置在光接收区域FXA和非发射区域NEMA中的空穴传输层HTL和电子传输层ETL。空穴传输层HTL可以与子像素SPX的空穴控制层HCL在同一工艺中由相同的材料形成。空穴传输层HTL可以定位在第一电极E1与光接收层OPL之间。光接收层OPL可以至少定位在光接收区域FXA的空穴传输层HTL上。电子传输层ETL可以与子像素SPX的电子控制层ECL在同一工艺中由相同的材料形成。第二电极E2可以设置在电子传输层ETL上。
根据一些实施例，子像素SPX的阴极电极CE和光感测像素PSR的第二电极E2可以在同一工艺中由相同的材料形成。此外，如图4中所示，阴极电极CE和第二电极E2可以电连接到传输第二驱动电源ELVSS的电压的第二电源线PL2。
薄膜封装层TFE可以设置和/或形成在子像素SPX的显示元件层DPL和光感测像素PSR的传感器层SSL上。
薄膜封装层TFE可以具有单层结构或多层结构。薄膜封装层TFE可以包括覆盖发光元件LD和光接收元件OPD的多个绝缘层。薄膜封装层TFE可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如，薄膜封装层TFE可以具有其中无机层和有机层交替堆叠的结构。根据一些实施例，薄膜封装层TFE可以是定位在发光元件LD和光接收元件OPD上并且通过密封剂接合到基底SUB的封装基底。
图6是示意性示出图2的区域EA的放大图。
根据一些实施例，第一子像素SPX1、第二子像素SPX2和第三子像素SPX3可以对应于每个子像素的发射区域EMA，并且发射区域EMA可以由像素限定层PDL的第一开口OP1限定。
此外，根据一些实施例，光感测像素PSR可以对应于光感测像素PSR的光接收区域FXA。光接收区域FXA可以由像素限定层PDL的第二开口OP2限定。
为了便于描述，在图6中，将平面上的水平方向表示为第一方向DR1，并且将平面上的竖直方向表示为第二方向DR2。
定位在显示区域DA中的子像素SPX1、SPX2和SPX3(或像素PXL)可以以各种结构布置。图6示出了其中例如子像素SPX1、SPX2和SPX3(或像素PXL)以结构布置的实施例。然而，子像素SPX1、SPX2和SPX3可以以各种结构布置，根据本公开的实施例不限于图6中所示的结构。
第一子像素SPX1(或第一像素)、第二子像素SPX2(或第二像素)和第三子像素SPX3(或第三像素)可以发射(提供)彼此不同颜色的光。例如，第一子像素SPX1可以发射(或实现)蓝光B，第二子像素SPX2可以发射(或实现)绿光G，第三子像素SPX3可以发射(或实现)红光R。
第二子像素SPX2可以布置在第一行R1中。第三子像素SPX3、光感测像素PSR和第一子像素SPX1可以交替地布置于在第二方向DR2上与第一行R1相邻的第二行R2中。第二子像素SPX2可以定位于在第二方向DR2上与第二行R2相邻的第三行R3中。第一子像素SPX1、光感测像素PSR和第三子像素SPX3可以交替地布置于在第二方向DR2上与第三行R3相邻的第四行R4中。
根据一些实施例，第二子像素SPX2可以包括布置在不同列中的第2_1子像素SPX2_1和第2_2子像素SPX2_2。光感测像素PSR可以包括布置在不同列中的第一光感测像素PSR1和第二光感测像素PSR2。
定位在第一行R1中的第二子像素SPX2可以布置为与定位在第二行R2中的第一子像素SPX1和第三子像素SPX3彼此交叉。定位在第三行R3中的第二子像素SPX2可以布置为与定位在第二行R2中的第一子像素SPX1和第三子像素SPX3彼此交叉。定位在第三行R3中的第二子像素SPX2可以布置为与定位在第四行R4中的第一子像素SPX1和第三子像素SPX3彼此交叉。
定位在第二行R2中的第三子像素SPX3和定位在第四行R4中的第一子像素SPX1可以位于同一列(例如，第一列C1)中。第一行R1的第2_1子像素SPX2_1、第二行R2的第一光感测像素PSR1、第三行R3的第2_1子像素SPX2_1和第四行R4的第一光感测像素PSR1可以定位于在第一方向DR1上与第一列C1相邻的第二列C2中。第二行R2的第一子像素SPX1和第四行R4的第三子像素SPX3可以定位于在第一方向DR1上与第二列C2相邻的第三列C3中。第一行R1的第2_2子像素SPX2_2、第二行R2的第二光感测像素PSR2、第三行R3的第2_2子像素SPX2_2和第四行R4的第二光感测像素PSR2可以定位于在第一方向DR1上与第三列C3相邻的第四列C4中。第二行R2的第三子像素SPX3和第四行R4的第一子像素SPX1可以位于在第一方向DR1上与第四列C4相邻的第五列C5中。
在下文中，为了便于描述，位于第二列C2中的第二子像素SPX2可以被称为第2_1子像素SPX2_1，位于第四列C4中的第二子像素SPX2可以被称为第2_2子像素SPX2_2。
多个单元像素UPX可以重复地布置在显示区域DA中。
单元像素UPX中的每个可以包括预定的子像素SPX1、SPX2和SPX3以及预定的光感测像素PSR。
例如，单元像素UPX可以包括沿着第一方向DR1定位在同一行(例如，第二行R2)中的第一子像素SPX1和第三子像素SPX3、第一光感测像素PSR1以及第二光感测像素PSR2。单元像素UPX可以包括沿着第一方向DR1定位在同一行(例如，第一行R1)中的第2_1子像素SPX2_1和第2_2子像素SPX2_2。此外，单元像素UPX可以包括沿着第一方向DR1定位在同一行(例如，第三行R3)中的第2_1子像素SPX2_1和第2_2子像素SPX2_2。
根据一些实施例，第一光感测像素PSR1可以彼此面对且第2_1子像素SPX2_1置于第一光感测像素PSR1之间。第二光感测像素PSR2可以彼此面对且第2_2子像素SPX2_2置于第二光感测像素PSR2之间。
单元像素UPX和在第二方向DR2上与单元像素UPX相邻的相邻单元像素UPX'可以共享第2_1子像素SPX2_1和第2_2子像素SPX2_2。然而，单元像素UPX和相邻单元像素UPX'可以以各种方式划分和限定。
包括在单元像素UPX中的第一子像素SPX1、第二子像素SPX2和第三子像素SPX3中的每个可以包括发射区域EMA。包括在对应的单元像素UPX中的第一光感测像素PSR1和第二光感测像素PSR2中的每个可以包括光接收区域FXA。
根据一些实施例，包括在单元像素UPX中的子像素SPX1、SPX2和SPX3中的每个可以具有由像素限定层PDL限定(或分隔)的发射区域EMA。根据一些实施例，发射区域EMA可以具有各种形状。例如，发射区域EMA可以具有四边形形状(例如，矩形形状或菱形形状)或六边形形状。作为示例，图6示出了其中发射区域EMA具有矩形形状的实施例。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，光感测像素PSR中的每个可以具有由像素限定层PDL限定(或分隔)的光接收区域FXA。根据一些实施例，光接收区域FXA可以具有各种形状。例如，光接收区域FXA可以具有四边形形状(例如，矩形形状或菱形形状)或六边形形状。作为示例，图6示出了其中光接收区域FXA具有矩形形状的实施例。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，第一子像素SPX1的发射区域EMA可以是其中发射蓝光B的区域，第二子像素SPX2中的每个的发射区域EMA可以是其中发射绿光G的区域，第三子像素SPX3的发射区域EMA可以是其中发射红光R的区域。光感测像素PSR中的每个的光接收区域FXA可以是接收从第一子像素SPX1、第二子像素SPX2和第三子像素SPX3发射的光R、G和B的区域。
根据一些实施例，光接收区域FXA可以在第一方向DR1上与第一子像素SPX1(或第一子像素SPX1的发射区域EMA)和第三子像素SPX3(或第三子像素SPX3的发射区域EMA)相邻。光接收区域FXA可以在第二方向DR2上与第二子像素SPX2(或第二子像素SPX2的发射区域EMA)相邻。
接下来，将参照图7和图8描述用于形成孔区域HA的图案结构。图7和图8是示意性示出用于解释导电层的布置结构的图2的区域EA的放大图。将简要描述或省略可能与上面描述的内容重复的内容。
图7和图8示出了其中参照图6描述的平面结构中还包括导电层MT的实施例。图7可以示出根据一些实施例的导电层MT的布置结构，图8可以示出根据一些实施例的导电层MT的布置结构。
参照图7和图8，显示装置DD可以包括以某一图案(例如，设定图案或预定图案)布置的导电层MT，并且导电层MT可以形成孔区域HA。根据一些实施例，孔区域HA可以改善光感测像素PSR的感测性能。
根据一些实施例，导电层MT可以定位(或图案化)为围绕发射区域EMA。例如，导电层MT的一部分可以围绕发射区域EMA(或第一子像素至第三子像素SPX1、SPX2和SPX3)的至少一部分。根据一些实施例，导电层MT可以布置为以距离2000与发射区域EMA间隔开。可以考虑从第一子像素至第三子像素SPX1、SPX2和SPX3发射的光的发射效率来确定导电层MT与发射区域EMA之间的距离2000。
根据一些实施例，导电层MT可以限定开口以形成孔区域HA。导电层MT的一部分可以围绕光接收区域FXA(或光感测像素PSR)的至少一部分。例如，导电层MT可以形成(或图案化)为沿着孔区域HA围绕光接收区域FXA的一部分。在平面图中，导电层MT可以围绕光接收区域FXA的在孔区域HA中的部分。
根据一些实施例，在平面图中，导电层MT的一部分可以与光接收区域FXA叠置。例如，导电层MT的一部分可以在与光接收区域FXA叠置的同时围绕光接收区域FXA的一部分(例如，中心区域)。
根据一些实施例，孔区域HA可以具有各种形状。例如，孔区域HA可以在平面图中具有矩形形状。然而，根据本公开的实施例不限于此。例如，孔区域HA可以具有诸如六边形形状的其他多边形形状，或者可以具有圆形形状。
根据一些实施例，孔区域HA的形状可以对应于光接收区域FXA(或光感测像素PSR)的形状。例如，当光接收区域FXA(或光感测像素PSR)具有第一形状时，孔区域HA可以具有第二形状，该第二形状具有与第一形状相同的形状并且具有与第一形状不同的尺寸。然而，根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，孔区域HA和光接收区域FXA(或光感测像素PSR)可以具有不同的形状。
根据一些实施例，为了形成孔区域HA，导电层MT的与孔区域HA相邻的部分可以具有比导电层MT的不与孔区域HA相邻的其他部分的宽度宽的宽度。例如，导电层MT可以包括与孔区域HA相邻的第一区域120以及与孔区域HA不相邻(或间隔开)的第二区域140。这里，导电层MT的第一区域120可以表示这样的区域：在该区域中，导电层MT的至少一部分包括与孔区域HA直接相邻的区域。导电层MT的第二区域140可以表示这样的区域：在该区域中，导电层MT的至少一部分包括不与孔区域HA直接相邻的区域。
例如，第一区域120可以具有第一宽度1200。第二区域140可以具有第二宽度1400。在这种情况下，第一宽度1200可以大于第二宽度1400。可以通过对导电层MT进行图案化使得导电层MT的宽度在与光接收区域FXA相邻的位置处具有第一宽度1200(即，具有相对宽的宽度)来形成具有比预定尺寸小或与预定尺寸相等的尺寸的孔区域HA。
根据一些实施例，导电层MT的第一区域120可以围绕光接收区域FXA(或光感测像素PSR)的一部分。导电层MT的第二区域140可以围绕发射区域EMA(或第一子像素至第三子像素SPX1、SPX2和SPX3)。
同时，导电层MT还可以包括第三区域160。第三区域160可以是连接相邻的第二区域140的区域。根据一些实施例，第三区域160可以定位于在第一方向DR1上彼此相邻的第2_1子像素SPX2_1与第2_2子像素SPX2_2之间。第三区域160可以定位于在第二方向DR2上彼此相邻的第一子像素SPX1与第三子像素SPX3之间。
根据一些实施例，导电层MT的第三区域160可以具有各种形状。例如，根据一些实施例(参照图7)，第三区域160可以具有形成开口的形状。例如，第三区域160可以具有形成开口区域1620的多边形形状。作为另一示例，根据一些实施例(参照图8)，第三区域160可以具有其中相邻的第二区域140彼此相交而不形成单独的开口区域的形状。然而，导电层MT的第三区域160的形状不限于上述示例，导电层MT的第三区域160可以具有各种形状。
根据一些实施例，在平面图中，孔区域HA可以整体上与光接收区域FXA(或光感测像素PSR)(例如，整个光接收区域FXA)叠置。因此，孔区域HA的尺寸可以是确定光感测像素PSR的感测性能的一个参数。
根据一些实施例，孔区域HA可以具有由导电层MT的第一区域120限定的孔尺寸HS。孔尺寸HS可以表示由孔区域HA限定的形状的尺寸(或直径)。例如，当孔区域HA具有圆形形状时，孔尺寸HS可以是圆的直径。当孔区域HA具有椭圆形状时，孔尺寸HS可以是椭圆的长轴的长度。当孔区域HA具有矩形形状时，孔尺寸HS可以表示矩形的对角线的长度。
根据一些实施例，孔尺寸HS可以具有微米级尺寸。孔尺寸HS可以根据由导电层MT的图案结构形成的孔区域HA来限定。由于导电层MT通过湿蚀刻工艺图案化，因此孔尺寸HS可以具有微米级尺寸。
例如，孔尺寸HS可以是7.5μm或更小。可选地，根据一些实施例，孔尺寸HS可以是5.0μm或更小。可选地，根据一些实施例，孔尺寸HS可以是3.0μm或更小。根据一些实施例，在满足上述数值范围的同时，孔尺寸HS可以是0.1μm或更大。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，在平面图中，孔尺寸HS可以小于导电层MT与发射区域EMA(或第一子像素至第三子像素SPX1、SPX2和SPX3)之间的距离2000。根据一些实施例，在孔尺寸HS满足上述数值范围的同时，距离2000可以是8.0μm或更大且15μm或更小。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，为了确保光感测像素PSR的感测性能，与光接收区域FXA叠置的孔区域HA的孔尺寸HS需要满足上述数值范围。根据一些实施例，通过使用可以通过湿蚀刻工艺图案化的导电层MT来形成孔区域HA，可以提供满足上述数值范围的孔区域HA。例如，根据现有技术，可以通过使用光阻挡图案LBP(见图9)来形成预定的孔结构。但是，为了充分地确保遮光性能，光阻挡图案LBP会包括有机材料(例如，黑矩阵等)。当有机材料被图案化时，可能难以以预定间隔或更小的间隔形成孔结构。然而，根据一些实施例，通过使用金属图案形成孔区域HA，可以提供满足上述数值范围的孔区域HA，因此，可以充分地确保光感测像素PSR的感测性能。
同时，导电层MT可以在形成孔区域HA的同时形成触摸传感器TS的传感器图案。
如上所述，显示装置DD可以包括被配置为接收用户的触摸输入的触摸传感器TS。根据一些实施例，触摸传感器TS可以包括第一传感器图案和第二传感器图案。这里，触摸传感器TS可以基于与在第一传感器图案与第二传感器图案之间形成的电容的改变有关的信息来获得关于用户的触摸输入的信息。例如，第一传感器图案可以是驱动电极，并且第二传感器图案可以是接收电极。可选地，第一传感器图案可以是接收电极，并且第二传感器图案可以是驱动电极。
这里，根据一些实施例，导电层MT可以构成第一传感器图案和/或第二传感器图案。例如，显示装置DD可以包括用于构成触摸电极的第一导电层MT1(参照图9)和第二导电层MT2(参照图9)。第一导电层MT1和/或第二导电层MT2可以构成第一传感器图案和/或第二传感器图案。例如，第二导电层MT2可以形成第一传感器图案，并且第一导电层MT1和第二导电层MT2可以形成第二传感器图案。然而，根据本公开的实施例不限于此。
根据一些实施例，如上面参照图7和图8所描述的，导电层MT的图案化结构可以由第一导电层MT1和/或第二导电层MT2形成。例如，导电层MT的图案化结构可以由第二导电层MT2形成。导电层MT的图案化结构可以由第一导电层MT1形成。可选地，导电层MT的图案化结构可以由第一导电层MT1和第二导电层MT2形成。在下文中，为了便于描述，导电层MT的图案化结构将被描述为由第二导电层MT2形成。
在下文中，将参照图9和图10主要描述包括发光元件LD的子像素SPX1、SPX2和SPX3中的每个的堆叠结构以及包括光接收元件OPD的光感测像素PSR中的每个的堆叠结构。将简要描述或省略可能与上面描述的内容重复的内容。
图9和图10是沿着图6的线I-I'截取的示意性剖视图。在这种情况下，图10可以是示出其中感测用户的指纹的状态的示意性剖视图。
在图9和图10中，为了便于描述，将通过以子像素SPX1、SPX2和SPX3之中的第一子像素SPX1作为示例来描述每个子像素的剖面结构。在图9和图10中，为了便于描述，将通过以光感测像素PSR之中的第二光感测像素PSR2作为示例来描述每个光感测像素PSR的剖面结构。
此外，在图9和图10中，作为示例，仅示出了与图4中所示的第一晶体管T1至第七晶体管T7之中的第六晶体管T6对应的部分的剖面以及与第一传感器晶体管FT1至第三传感器晶体管FT3之中的第一传感器晶体管FT1对应的部分的剖面。
参照图9和图10，显示装置DD可以包括定位在基底SUB上的第一子像素SPX1和第二光感测像素PSR2。
基底SUB可以形成基体表面。根据一些实施例，基底SUB可以包括透明绝缘材料以透射光。基底SUB可以是刚性基底或柔性基底。刚性基底可以是例如玻璃基底、石英基底、玻璃陶瓷基底和结晶玻璃基底中的一种。柔性基底可以是塑料基底和包括聚合物有机材料的膜基底中的一种。例如，柔性基底可以包括聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素和乙酸丙酸纤维素中的至少一种。然而，根据本公开的实施例不限于此。
第一子像素SPX1的像素电路层PCL和第二光感测像素PSR2的像素电路层PCL可以设置在基底SUB上。像素电路层PCL可以包括沿着第三方向DR3顺序地堆叠在基底SUB上的缓冲层BFL、栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD、钝化层PSV和过孔层VIA。
缓冲层BFL可以防止或减少杂质扩散到包括在像素电路PXC中的第六晶体管T6和包括在传感器电路SSC中的第一传感器晶体管FT1中的情况。缓冲层BFL可以是包括无机材料的无机绝缘层。缓冲层BFL可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiOxNy)和金属氧化物(诸如氧化铝(AlxOy))中的至少一种。缓冲层BFL可以设置为单层，但也可以设置为至少双层的多层。当缓冲层BFL设置为多层时，每个层可以由相同的材料形成，或者可以由不同的材料形成。根据基底SUB的材料和工艺条件，可以省略缓冲层BFL。
包括第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2的半导体层(或半导体图案)可以定位在缓冲层BFL上。半导体层可以包括多晶硅半导体。例如，半导体层可以通过低温多晶硅工艺(例如，LTPS工艺)形成。然而，根据本公开的实施例不限于此，半导体层的至少一部分可以由氧化物半导体、金属氧化物半导体等形成。
第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2中的每个可以包括沟道区、连接到沟道区的一端的第一接触区以及连接到沟道区的另一端的第二接触区。沟道区、第一接触区和第二接触区可以由未掺杂有杂质或掺杂有杂质的半导体层形成。例如，第一接触区和第二接触区可以由掺杂有杂质的半导体层形成，沟道区可以由未掺杂有杂质的半导体层形成。作为杂质，例如，可以使用p型杂质，但是根据本公开的实施例不限于此。第一接触区和第二接触区中的一个可以是源区，并且另一个可以是漏区。
栅极绝缘层GI可以整体地设置和/或形成在第一有源图案ACT1和第二有源图案ACT2以及缓冲层BFL上。
栅极绝缘层GI可以是包括无机材料的无机层(或无机绝缘层)。例如，栅极绝缘层GI可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiOxNy)和金属氧化物(诸如氧化铝(AlxOy))中的至少一种。然而，栅极绝缘层GI的材料不限于上述实施例。根据一些实施例，栅极绝缘层GI可以由包括有机材料的有机层(或有机绝缘层)形成。栅极绝缘层GI可以设置为单层，但也可以设置为至少双层的多层。
第一栅电极GE1和第二栅电极GE2可以设置和/或形成在栅极绝缘层GI上。第一栅电极GE1可以设置和/或形成在栅极绝缘层GI上以与第一有源图案ACT1的沟道区对应，第二栅电极GE2可以设置和/或形成在栅极绝缘层GI上以与第二有源图案ACT2的沟道区对应。第一栅电极GE1和第二栅电极GE2可以由单层形成，所述单层由从由铜(Cu)、钼(Mo)、钨(W)、铝钕(AlNd)、钛(Ti)、铝(Al)、银(Ag)和其合金或其混合物组成的组中选择的一种制成。此外，第一栅电极GE1和第二栅电极GE2可以形成为由低电阻材料(诸如钼(Mo)、钛(Ti)、铜(Cu)、铝(Al)或银(Ag))制成的双层或多层结构，以降低布线的电阻。
层间绝缘层ILD可以整体地设置和/或形成在第一栅电极GE1和第二栅电极GE2以及栅极绝缘层GI上。
层间绝缘层ILD可以包括与栅极绝缘层GI的材料相同的材料，或者可以包括从作为构成栅极绝缘层GI的材料而例示的材料中选择的一种或更多种材料。
第一连接构件TE1、第二连接构件TE2、第三连接构件TE3和第四连接构件TE4可以设置和/或形成在层间绝缘层ILD上。
第一连接构件TE1、第二连接构件TE2、第三连接构件TE3和第四连接构件TE4可以在层间绝缘层ILD上定位为彼此间隔开。第一连接构件TE1、第二连接构件TE2、第三连接构件TE3和第四连接构件TE4可以是晶体管电极。
第一连接构件TE1可以通过形成在层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的第一接触孔CH1接触第一有源图案ACT1的一端的第一接触区。当该第一接触区是源区时，第一连接构件TE1可以是第一源电极。
第二连接构件TE2可以通过形成在层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的第二接触孔CH2接触第一有源图案ACT1的另一端的第二接触区。当该第二接触区是漏区时，第二连接构件TE2可以是第一漏电极。
第三连接构件TE3可以通过形成在层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的第三接触孔CH3接触第二有源图案ACT2的一端的第一接触区。当该第一接触区是源区时，第三连接构件TE3可以是第二源电极。
第四连接构件TE4可以通过形成在层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的第四接触孔CH4接触第二有源图案ACT2的另一端的第二接触区。当该第二接触区是漏区时，第四连接构件TE4可以是第二漏电极。
第一连接构件TE1至第四连接构件TE4可以包括与第一栅电极GE1和第二栅电极GE2的材料相同的材料，或者可以包括从作为构成第一栅电极GE1和第二栅电极GE2的材料而例示的材料中选择的一种或更多种材料。
钝化层PSV(例如，保护层)可以整体地设置(或形成)在第一连接构件TE1至第四连接构件TE4和层间绝缘层ILD上。
钝化层PSV可以是包括无机材料的无机层(或无机绝缘层)或包括有机材料的有机层(或有机绝缘层)。无机层可以包括例如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)和金属氧化物(诸如氧化铝(AlxOy))中的至少一种。有机层可以包括例如丙烯酸树脂(聚丙烯酸酯树脂)、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂和苯并环丁烯树脂中的至少一种。
根据一些实施例，钝化层PSV可以包括与层间绝缘层ILD的材料相同的材料，但是根据本公开的实施例不限于此。钝化层PSV可以设置为单层，但也可以设置为至少双层的多层。
钝化层PSV可以部分地开口以包括使第一连接构件TE1的某一区域暴露的第五接触孔CH5和使第三连接构件TE3的某一区域暴露的第六接触孔CH6。
过孔层VIA可以整体地设置和/或形成在钝化层PSV上。
过孔层VIA可以部分地开口以包括分别与钝化层PSV的第五接触孔CH5和第六接触孔CH6对应的第五接触孔CH5和第六接触孔CH6。过孔层VIA可以包括与钝化层PSV的材料相同的材料，或者可以包括从作为构成钝化层PSV的材料而示出的材料中选择的一种或更多种材料。根据一些实施例，过孔层VIA可以是由有机材料制成的有机层。
图9和图10示出了其中在钝化层PSV上设置过孔层VIA的实施例，但是根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，可以省略钝化层PSV和过孔层VIA中的一个。
显示元件层DPL可以设置和/或形成在第一子像素SPX1的像素电路层PCL上，传感器层SSL可以设置和/或形成在第二光感测像素PSR2的像素电路层PCL上。
显示元件层DPL可以包括发光元件LD和像素限定层PDL。发光元件LD可以包括阳极电极AE(或第一像素电极)、发射层EML和阴极电极CE(或第二像素电极)。发光元件LD可以电连接到像素电路PXC的第六晶体管T6。
传感器层SSL可以包括光接收元件OPD和像素限定层PDL。光接收元件OPD可以是光学指纹传感器。例如，光接收元件OPD可以包括从由光电二极管、CMOS图像传感器、CCD相机和光电晶体管组成的组中选择的一者。然而，根据本公开的实施例不必限于此。光接收元件OPD可以通过感测由手指F的脊FR和脊FR之间的谷FV反射的光来识别指纹。例如，当用户的手指F触摸窗WD时，从发光元件LD(或发射层EML)发射的第一光L1可以被手指F的脊FR或谷FV反射，并且被脊FR或谷FV反射的第二光L2可以到达传感器层SSL的光接收元件OPD(或光接收层OPL)。光接收元件OPD可以通过区分由手指F的脊FR反射的第二光L2和由手指F的谷FV反射的第二光L2来识别用户的指纹的图案。
光接收元件OPD可以电连接到传感器电路SSC的第一传感器晶体管FT1。光接收元件OPD可以包括第一电极E1(或第一传感器电极)、光接收层OPL(或光电转换层)和第二电极E2(或第二传感器电极)。
阳极电极AE和第一电极E1可以由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或其合金制成的金属层形成。可选地，阳极电极AE和第一电极E1可以由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)等形成。阳极电极AE可以通过形成在过孔层VIA和钝化层PSV中的第五接触孔CH5电连接到第六晶体管T6。第一电极E1可以通过形成在过孔层VIA和钝化层PSV中的第六接触孔CH6电连接到第一传感器晶体管FT1。
阳极电极AE和第一电极E1可以使用掩模在同一工艺中同时形成，但是根据本公开的实施例不必限于此。
像素限定层PDL(或堤)可以整体地设置和/或形成在阳极电极AE、第一电极E1和过孔层VIA上。
像素限定层PDL可以限定(或分隔)第一子像素SPX1的发射区域EMA和第二光感测像素PSR2的光接收区域FXA。像素限定层PDL可以是由有机材料制成的有机绝缘层。有机材料可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂等。
根据一些实施例，像素限定层PDL可以包括光吸收材料或者可以涂覆有光吸收剂以吸收从外部引入的光。例如，像素限定层PDL可以包括碳基黑色颜料。然而，根据本公开的实施例不限于此，像素限定层PDL可以包括具有高光吸收率的不透明金属材料，诸如铬(Cr)、钼(Mo)、钼(Mo)和钛(Ti)的合金(MoTi)、钨(W)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、锰(Mn)、钴(Co)或镍(Ni)。
像素限定层PDL可以包括使阳极电极AE的一个区域(例如，上表面的一部分)暴露的第一开口OP1和使第一电极E1的一个区域(例如，上表面的一部分)暴露的第二开口OP2。此外，像素限定层PDL可以沿着发射区域EMA的周边和光接收区域FXA的周边在第三方向DR3上从过孔层VIA突出。
像素限定层PDL的第一开口OP1可以对应于发射区域EMA，像素限定层PDL的第二开口OP2可以对应于光接收区域FXA。
发射层EML可以设置和/或形成在通过像素限定层PDL的第一开口OP1暴露的阳极电极AE上。发射层EML可以包括有机材料以发射预定颜色的光(例如，蓝光B)。例如，发射层EML可以包括空穴传输层、有机材料层和电子传输层。
光接收层OPL可以设置和/或形成在通过像素限定层PDL的第二开口OP2暴露的第一电极E1上。光接收层OPL可以是包括在光接收元件OPD中的层。光接收层OPL可以吸收和检测从用户的手指F的指纹反射或散射的第二光L2。在这种情况下，光接收层OPL可以通过感测由用户的手指F的指纹的脊FR或谷FV反射或散射的光的量的差异来识别指纹。在光接收层OPL吸收光时产生的空穴和电子可以分别传输到第一电极E1和第二电极E2。
光接收层OPL可以由有机光敏材料形成。例如，有机光敏材料可以包括二硫醇烯类材料(BDN)(双(4-二甲基氨基二硫代苄基)镍(II))、苯并三唑类高分子化合物(PTZBTTT-BDT)、卟啉类小分子材料(DHTBTEZP)等。然而，根据本公开的实施例不限于此。电子传输层可以设置在发射层EML和光接收层OPL上。
阴极电极CE可以设置和/或形成在第一子像素SPX1的发射层EML上，第二电极E2可以设置和/或形成在第二光感测像素PSR2的光接收层OPL上。根据一些实施例，阴极电极CE和第二电极E2可以是在显示区域DA中一体形成的公共电极。第二驱动电源ELVSS的电压可以被供应到阴极电极CE和第二电极E2。
阴极电极CE和第二电极E2可以由诸如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr等的金属或诸如ITO、IZO、ZnO、ITZO等的透明导电材料制成。根据一些实施例，阴极电极CE和第二电极E2可以由包括金属薄膜的双层或更多层形成。例如，阴极电极CE和第二电极E2可以由具有ITO/Ag/ITO结构的三层形成。
薄膜封装层TFE可以整体地设置和/或形成在阴极电极CE和第二电极E2上。
因为薄膜封装层TFE可以是与参照图5描述的薄膜封装层TFE相同的组件，所以将省略对其的描述。
光阻挡图案LBP可以设置和/或形成在薄膜封装层TFE上，以与第一子像素SPX1的非发射区域NEMA和第二光感测像素PSR2的非发射区域NEMA对应。
光阻挡图案LBP可以包括防止或减少第一子像素SPX1与同第一子像素SPX1相邻的子像素之间的光泄漏的光阻挡材料。例如，光阻挡图案LBP可以包括黑矩阵。然而，根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，光阻挡图案LBP可以包括炭黑(CB)和钛黑(TiBK)中的至少一种。此外，光阻挡图案LBP可以防止或减少从第一子像素SPX1以及与第一子像素SPX1相邻的子像素中的每个发射的光的颜色混合。
在第一子像素SPX1中，光阻挡图案LBP可以部分地开口，以不与发射区域EMA叠置。光阻挡图案LBP的开口可以提供光学路径，使得从发光元件LD发射的第一光L1可以行进到显示装置DD的上部。为此，光阻挡图案LBP的开口可以布置为与发光元件LD(或发射区域EMA)叠置。
在第二光感测像素PSR2中，光阻挡图案LBP可以部分地开口，以不与光接收区域FXA叠置。光阻挡图案LBP的开口可以提供光学路径，使得从用户的手指F的指纹反射的第二光L2可以行进到光接收元件OPD。为此，光阻挡图案LBP的开口可以布置为与光接收元件OPD(或光接收区域FXA)叠置。
触摸传感器TS可以位于薄膜封装层TFE上。
触摸传感器TS可以包括第一绝缘层INS1、第二绝缘层INS2、第三绝缘层INS3以及第一导电层MT1和第二导电层MT2。上述层中的每个可以由单层形成，但是根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，上述层中的每个可以由包括多个层的堆叠层组成。另一层可以进一步定位在上述层之间。
第一绝缘层INS1可以包括包含无机材料的无机绝缘层或包含有机材料的有机绝缘层。无机绝缘层可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(AlxOy)、氧化钛(TiOx)、氧化钽(TaxOy)、氧化铪(HfOx)、氧化锌(ZnOx)等。有机绝缘层可以包括丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚异戊二烯树脂、乙烯基树脂、环氧树脂、氨基甲酸乙酯树脂、纤维素树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂和苝树脂中的至少一种。然而，根据本公开的实施例不限于上述示例。
根据一些实施例，第一绝缘层INS1可以被省略，或者形成为薄膜封装层TFE的最上层。
第一导电层MT1可以设置和/或形成在第一绝缘层INS1上。第一导电层MT1可以形成多个触摸电极的第一层。第一导电层MT1可以具有在基底SUB的厚度方向(例如，第三方向DR3)上堆叠的单层结构或多层结构。具有单层结构的第一导电层MT1可以包括金属层或透明导电层。例如，金属层可以包括钼、钛、铜、铝及其合金。透明导电层可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)、PEDOT和金属纳米线中的一种。然而，根据本公开的实施例不限于上述示例。
第二绝缘层INS2可以整体地定位在(或形成)在第一导电层MT1和第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2可以置于第一导电层MT1与第二导电层MT2之间。第二绝缘层INS2可以包括与第一绝缘层INS1的材料相同的材料，或者可以包括从构成第一绝缘层INS1的材料中选择的一种或更多种材料。然而，根据本公开的实施例不限于上述示例。
第二绝缘层INS2可以部分地开口以包括使第一导电层MT1的一个区域暴露的接触区。
第二导电层MT2可以形成多个触摸电极的第二层。第二导电层MT2可以定位(或形成)在第二绝缘层INS2上。第二导电层MT2可以包括与第一导电层MT1的材料相同的材料，或者可以包括从构成第一导电层MT1的材料中选择的一种或更多种材料。根据一些实施例，第二导电层MT2可以通过第二绝缘层INS2的接触区电连接到第一导电层MT1。
根据一些实施例，第二导电层MT2可以包括用于形成孔区域HA的突出部PP。突出部PP可以从第二导电层MT2的一部分延伸。突出部PP可以定位为与孔区域HA相邻，从而限定孔区域HA。
根据一些实施例，在平面图中，第二导电层MT2的突出部PP可以不与第一导电层MT1叠置。第二导电层MT2的突出部PP可以与另一相邻的第二导电层MT2的突出部PP充分地相邻以形成孔区域HA。在平面图中，孔区域HA可以与光接收层OPL叠置。因此，被用户的手指F反射的光可以通过孔区域HA提供给光接收层OPL。
根据一些实施例，在平面图中，突出部PP可以与光接收层OPL叠置。也就是说，在平面图中，光接收层OPL可以与金属图案的一部分叠置，但是可以在孔区域HA中不与金属图案叠置。
同时，尽管示出了其中第二导电层MT2形成孔区域HA的实施例，但是根据本公开的实施例不限于此。例如，第一导电层MT1可以包括突出部以形成孔区域HA。然而，根据一些实施例，同第一导电层MT1相比与发射层EML和光接收层OPL进一步间隔开的第二导电层MT2形成孔区域HA会是更优选的。例如，为了有效地反射从发射层EML发射且未发射到显示面板DP的外部的内部光1600(参照图11)，并且为了防止或减少反射的内部光1600直接朝向光接收层OPL的情况，反射内部光1600的导电图案进一步与发射层EML(或光接收层OPL)间隔开会是优选的。因此，根据一些实施例，因为第二导电层MT2形成孔区域HA，所以从发射层EML发射且未发射到显示面板DP的外部的内部光1600可以更有效地不指向光接收层OPL。
第三绝缘层INS3可以整体地布置(或形成)在第二导电层MT2和第二绝缘层INS2上。第三绝缘层INS3可以包括有机层，但是根据本公开的实施例不限于此。根据一些实施例，第三绝缘层INS3可以由无机层形成，或者可以具有其中有机层和无机层交替堆叠的结构。
滤色器CF1和CF2(或统称为CF，见图11)可以定位在触摸传感器TS上。
滤色器CF1和CF2可以包括位于第一子像素SPX1的光阻挡图案LBP的至少一个表面和薄膜封装层TFE上的第一滤色器CF1以及位于第二光感测像素PSR2的光阻挡图案LBP的至少一个表面和薄膜封装层TFE上的第二滤色器CF2。在下文中，第一子像素SPX1的光阻挡图案LBP可以被称为第一光阻挡图案，并且第二光感测像素PSR2的光阻挡图案LBP可以被称为第二光阻挡图案。
第一滤色器CF1可以定位在第一光阻挡图案LBP的开口内，以直接接触通过第一光阻挡图案LBP的开口暴露的第三绝缘层INS3。第一滤色器CF1可以布置为与发光元件LD(或发射区域EMA)叠置。为了便于描述，在图9和图10中仅示出了第一子像素SPX1，并且第一滤色器CF1可以是蓝色滤色器。根据一些实施例，第一滤色器CF1还可以包括与第二子像素SPX2的发射区域EMA叠置的绿色滤色器和与第三子像素SPX3的发射区域EMA叠置的红色滤色器。
第二滤色器CF2可以定位在第二光阻挡图案LBP的开口内，以直接接触通过第二光阻挡图案LBP的开口暴露的第三绝缘层INS3。第二滤色器CF2可以布置为与光接收元件OPD(或光接收区域FXA)叠置。根据由光接收层OPL感测的光的颜色，第二滤色器CF2可以包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的一种。例如，当光接收层OPL吸收绿色波段的光时，第二滤色器CF2可以是绿色滤色器。也就是说，第二滤色器CF2可以与相邻的子像素SPX1、SPX2和SPX3发射的光的颜色无关地设定。
上述光阻挡图案LBP以及滤色器CF1和CF2可以用作阻挡外部光的反射的防反射层。因为显示装置DD(或显示面板DP)包括用作防反射层的光阻挡图案LBP以及滤色器CF1和CF2，所以可以不设置单独的偏振层。因此，可以防止或减少亮度的降低，并且可以使显示装置DD的厚度最小化或减小。
此外，因为光接收元件OPD与发光元件LD形成在同一层，所以可以进一步减小显示装置DD的厚度。此外，因为入射在光接收元件OPD上的外部光的量增加，所以可以改善光感测性能。此外，因为在制造像素电路PXC的工艺中同时形成传感器电路SSC，并且在制造发光元件LD的工艺中同时形成光接收元件OPD，所以可以减少用于制造显示装置DD的工艺时间和制造成本。
平坦化层OC可以进一步定位在第一滤色器CF1和第二滤色器CF2与窗WD之间。平坦化层OC可以是涂覆层。平坦化层OC可以用于使由定位在其下面的组件引起的台阶平坦化。平坦化层OC可以是有机层。有机层可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂，但是根据本公开的实施例不限于此。
在下文中，作为根据按照一些实施例的导电层MT的图案化结构的技术效果，将参照图11描述光感测像素PSR的感测性能的改善。图11是根据一些实施例的显示面板的用于解释改善光感测像素的感测性能的技术效果的示意性剖视图。
参照图11，形成孔区域HA的第二导电层MT2可以阻挡从外部1000(例如，空气层)提供的外部光1020。为了充分地确保光感测像素PSR的感测性能，可能期望防止或减少除了被用户的手指F反射的光之外的外部光1020指向光接收层OPL。例如，需要阻挡以低角度入射在显示面板DP上的外部光1020而不是被用户的手指F反射的光。在此，低角度可以表示相对于显示面板DP的主表面的45度或更小。可选地，根据一些实施例，低角度可以相对于显示面板DP的主表面大于或等于20度且小于或等于25度。然而，根据本公开的实施例不限于此。
为此，在平面图中，可能需要在与光接收层OPL叠置的区域中阻挡外部光1020的阻挡图案。根据一些实施例，因为用于形成触摸传感器TS的电极的导电层MT中的至少一者(例如，第二导电层MT2)具有突出部PP，所以相比于被用户的手指F反射的光，可以更有效地阻挡外部光1020。在这种情况下，为了相比于被用户的手指F反射的光更有效地阻挡外部光1020，孔区域HA的尺寸需要小于或等于预定尺寸(例如，小于或等于7.5μm)。根据一些实施例，因为导电层MT可以通过湿蚀刻方法图案化，所以导电层MT可以形成为彼此间隔开预定距离或更小距离。
例如，根据一些实施例，因为可以使用用于形成触摸传感器TS的导电层MT的一部分来形成用于改善光感测像素PSR的感测性能的结构，所以可以不需要额外的工艺，因此可以降低制造成本。
根据一些实施例，形成孔区域HA的第二导电层MT2可以不将从发射层EML发射的内部光1600朝向光接收层OPL反射。例如，形成孔区域HA的第二导电层MT2可以反射并引导内部光1600，使得内部光1600指向像素限定层PDL。例如，从发射层EML发射且未发射到显示面板DP的外部的内部光1600可以被第二导电层MT2的突出部PP反射，并且可以不指向光接收层OPL。在这种情况下，第二导电层MT2的突出部PP可以使内部光1600指向像素限定层PDL而不是光接收层OPL。因此，可以使未到达用户的手指F的光中的被吸收到光接收层OPL中的量最小化。
根据公开的实施例，可以通过改善光感测像素的感测性能来提供能够清楚地感测外部输入的显示装置。
如上所述，已经通过具体实施方式和附图公开了公开的一些实施例的方面。然而，本领域的技术人员或本领域的普通技术人员将理解的是，在不脱离如在权利要求中阐述的公开的特征和技术范围的情况下，各种修改和改变是可能的。
因此，根据本公开的实施例的技术保护范围不限于说明书中描述的具体实施方式，而应由所附权利要求及其等同物确定。

Claims (10)

1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：
子像素，被配置为发射光；
光感测像素，包括光接收元件，所述光接收元件包括光接收层，所述光接收层被配置为获得与从所述子像素发射的光对应的感测信号；
触摸传感器，包括导电层，
其中，所述导电层包括在平面图中与所述光接收层叠置的孔区域。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述子像素包括发射区域，从所述子像素发射的所述光从所述发射区域发射，
其中，所述光感测像素包括被配置为接收所述光的光接收区域。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述导电层的一部分围绕所述发射区域，并且所述导电层的另一部分围绕所述光接收区域，
其中，在平面图中，所述导电层的所述另一部分围绕所述光接收区域的在所述孔区域中的部分。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述导电层包括与所述孔区域相邻的突出部，以限定所述孔区域。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述导电层包括第一导电层和第二导电层，
其中，所述突出部从所述第二导电层的一部分延伸，并且在平面图中与所述光接收层叠置而不与所述第一导电层叠置。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，相比于所述第一导电层，所述第二导电层与所述显示装置的底表面间隔开得更远。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述导电层包括第一区域和第二区域，
其中，所述导电层的所述第一区域与所述孔区域相邻并且围绕所述孔区域的至少一部分，并且
其中，所述导电层的所述第二区域与所述孔区域间隔开。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述导电层的所述第一区域具有第一宽度，并且所述导电层的所述第二区域具有第二宽度，
其中，所述第一宽度大于所述第二宽度。
9.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述导电层还包括第三区域，
其中，所述导电层的所述第三区域是连接相邻的第二区域的区域，并且
其中，所述第三区域具有形成开口区域的多边形形状，或者具有其中所述相邻的第二区域彼此相交而不形成开口区域的形状。
10.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述导电层与所述发射区域间隔开分离距离，
其中，所述孔区域的直径小于所述分离距离，
其中，所述孔区域的直径为7.5μm或更小，并且
其中，所述分离距离为8.0μm至15μm。
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