CN219597623U - 一种基板玻璃清洗滚机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基板玻璃清洗滚机构，包括清洁机架组件，所述清洁机架组件中部设置有清洁滚刷组件，且清洁机架组件两侧均设置有施力滚刷组件，两组所述施力滚刷组件在清洁滚刷组件两侧形成同步的下降施力结构，所述清洁滚刷组件在清洁机架组件上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构，本实用新型使用时，清洁滚刷与基板玻璃接触时，形成柔性接触的结构，避免硬性接触的压痕或划痕，两组施力滚刷组件在清洁滚刷两侧下落并形成一定的施力结构，使得清洁滚刷在两个施力滚刷之间滚动清洁，避免玻璃基板的偏移和晃动。
Description
技术领域
本实用新型属于基板玻璃生产技术领域，具体涉及一种基板玻璃清洗滚机构。
背景技术
业内基板玻璃加工在清洗方面主要依靠盘滚刷机构高速运转并施加物理作用力于板面将板面脏污清理干净，因此板面需要与盘刷、滚刷进行一定程度接触。
现有技术存在以下问题：为保证产品表面洁净度，清洗过程需对清洗机构(盘、滚刷)在板面的压入量进行调整。因实际中碟刷、滚刷水平度及其机构各部件对玻璃清洗过程中局部作用力无法做到绝对平衡，故而，玻璃在清洗过程中必然会存在因作用力的作用，导致偏移发生，其实质是清洁滚两侧没有很好的施力结构，导致这种偏移现象发生。
实用新型内容
为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种基板玻璃清洗滚机构，具有方便使用的特点。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基板玻璃清洗滚机构，包括清洁机架组件，所述清洁机架组件中部设置有清洁滚刷组件，且清洁机架组件两侧均设置有施力滚刷组件，两组所述施力滚刷组件在清洁滚刷组件两侧形成同步的下降施力结构，所述清洁滚刷组件在清洁机架组件上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构；
所述清洁机架组件包括清洁机架横台，所述清洁机架横台后端设置有清洁机架背台、背部安装台和清洁机架顶台，所述清洁机架顶台顶部设置有顶台端盘，所述顶台端盘下方设置有复位弹簧，所述清洁机架横台上设置有横台滑槽；
所述清洁滚刷组件包括支撑臂杆，所述支撑臂杆顶部固定设置有臂杆顶盘，且支撑臂杆底部固定设置有清洁滚刷，所述清洁滚刷一端设置有滚刷电机，所述支撑臂杆两侧均设置有臂杆侧槽，所述臂杆侧槽内部设置有齿条。
优选的，所述施力滚刷组件包括齿动盘，所述齿动盘上设置有固定轴杆和固定臂杆，所述固定臂杆端部设置有施力滚刷。
优选的，所述支撑臂杆通过横台滑槽在清洁机架横台内上下滑动，所述复位弹簧的两端分别抵触在臂杆顶盘和顶台端盘上。
优选的，所述齿动盘通过固定轴杆和轴承座与清洁机架背台转动连接，所述齿动盘与齿条齿合。
优选的，通过所述复位弹簧的顶压，所述支撑臂杆处于向下抵触的结构，两侧的两组所述施力滚刷组件处于向上抬升的结构。
优选的，通过所述复位弹簧的缓冲，所述清洁滚刷组件在清洁机架组件上形成柔性上下动作的缓冲结构。
优选的，所述清洁机架组件通过紧固螺栓和背部安装台固定在现有的机械手上。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型使用时，清洁机架组件中部设置有清洁滚刷组件，使用时，清洁滚刷组件在清洁机架组件上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构，工作原理如下，支撑臂杆通过横台滑槽在清洁机架横台内上下滑动，复位弹簧的两端分别抵触在臂杆顶盘和顶台端盘上，通过复位弹簧的缓冲，清洁滚刷组件在清洁机架组件上形成柔性上下动作的缓冲结构，通过此种结构，使得清洁滚刷与基板玻璃接触时，形成柔性接触的结构，避免硬性接触的压痕或划痕，同时清洁机架组件两侧均设置有施力滚刷组件，此时齿动盘通过固定轴杆和轴承座与清洁机架背台转动连接，齿动盘与齿条齿合，在清洁滚刷与基板玻璃接触时，在清洁滚刷上移时，支撑臂杆向上移动，此时通过齿条和齿动盘之间的配合，此时两组施力滚刷组件在清洁滚刷两侧下落并形成一定的施力结构，使得清洁滚刷在两个施力滚刷之间滚动清洁，避免玻璃基板的偏移和晃动。
附图说明
图1为本实用新型的立体图；
图2为本实用新型另一视角的立体图；
图3为本实用新型的爆炸图；
图4为本实用新型清洁机架组件的立体图；
图5为本实用新型清洁滚刷组件的立体图；
图6为本实用新型施力滚刷组件的立体图；
图中：100、清洁机架组件；101、清洁机架横台；102、清洁机架背台；103、背部安装台；104、横台滑槽；105、清洁机架顶台；106、顶台端盘；107、复位弹簧；200、清洁滚刷组件；201、支撑臂杆；202、臂杆顶盘；203、臂杆侧槽；204、齿条；205、清洁滚刷；206、滚刷电机；300、施力滚刷组件；301、齿动盘；302、固定轴杆；303、固定臂杆；304、施力滚刷。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-6，本实用新型提供以下技术方案：一种基板玻璃清洗滚机构，包括清洁机架组件100，清洁机架组件100中部设置有清洁滚刷组件200，且清洁机架组件100两侧均设置有施力滚刷组件300，两组施力滚刷组件300在清洁滚刷组件200两侧形成同步的下降施力结构，清洁滚刷组件200在清洁机架组件100上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构；
清洁机架组件100包括清洁机架横台101，清洁机架横台101后端设置有清洁机架背台102、背部安装台103和清洁机架顶台105，清洁机架顶台105顶部设置有顶台端盘106，顶台端盘106下方设置有复位弹簧107，清洁机架横台101上设置有横台滑槽104；
清洁滚刷组件200包括支撑臂杆201，支撑臂杆201顶部固定设置有臂杆顶盘202，且支撑臂杆201底部固定设置有清洁滚刷205，清洁滚刷205一端设置有滚刷电机206，支撑臂杆201两侧均设置有臂杆侧槽203，臂杆侧槽203内部设置有齿条204。
本实施例中，优选的，施力滚刷组件300包括齿动盘301，齿动盘301上设置有固定轴杆302和固定臂杆303，固定臂杆303端部设置有施力滚刷304。
本实施例中，优选的，支撑臂杆201通过横台滑槽104在清洁机架横台101内上下滑动，复位弹簧107的两端分别抵触在臂杆顶盘202和顶台端盘106上。
本实施例中，优选的，齿动盘301通过固定轴杆302和轴承座与清洁机架背台102转动连接，齿动盘301与齿条204齿合。
本实施例中，优选的，通过复位弹簧107的顶压，支撑臂杆201处于向下抵触的结构，两侧的两组施力滚刷组件300处于向上抬升的结构。
本实施例中，优选的，通过复位弹簧107的缓冲，清洁滚刷组件200在清洁机架组件100上形成柔性上下动作的缓冲结构。
本实施例中，优选的，清洁机架组件100通过紧固螺栓和背部安装台103固定在现有的机械手上。
本实用新型的工作原理及使用流程：本实用新型使用时，清洁机架组件100中部设置有清洁滚刷组件200，使用时，清洁滚刷组件200在清洁机架组件100上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构，工作原理如下，支撑臂杆201通过横台滑槽104在清洁机架横台101内上下滑动，复位弹簧107的两端分别抵触在臂杆顶盘202和顶台端盘106上，通过复位弹簧107的缓冲，清洁滚刷组件200在清洁机架组件100上形成柔性上下动作的缓冲结构，通过此种结构，使得清洁滚刷205与基板玻璃接触时，形成柔性接触的结构，避免硬性接触的压痕或划痕，同时清洁机架组件100两侧均设置有施力滚刷组件300，此时齿动盘301通过固定轴杆302和轴承座与清洁机架背台102转动连接，齿动盘301与齿条204齿合，在清洁滚刷205与基板玻璃接触时，在清洁滚刷205上移时，支撑臂杆201向上移动，此时通过齿条204和齿动盘301之间的配合，此时两组施力滚刷组件300在清洁滚刷205两侧下落并形成一定的施力结构，使得清洁滚刷205在两个施力滚刷304之间滚动清洁，避免玻璃基板的偏移和晃动。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种基板玻璃清洗滚机构，包括清洁机架组件(100)，其特征在于：所述清洁机架组件(100)中部设置有清洁滚刷组件(200)，且清洁机架组件(100)两侧均设置有施力滚刷组件(300)，两组所述施力滚刷组件(300)在清洁滚刷组件(200)两侧形成同步的下降施力结构，所述清洁滚刷组件(200)在清洁机架组件(100)上形成与基板玻璃柔性接触的滚刷结构；
所述清洁机架组件(100)包括清洁机架横台(101)，所述清洁机架横台(101)后端设置有清洁机架背台(102)、背部安装台(103)和清洁机架顶台(105)，所述清洁机架顶台(105)顶部设置有顶台端盘(106)，所述顶台端盘(106)下方设置有复位弹簧(107)，所述清洁机架横台(101)上设置有横台滑槽(104)；
所述清洁滚刷组件(200)包括支撑臂杆(201)，所述支撑臂杆(201)顶部固定设置有臂杆顶盘(202)，且支撑臂杆(201)底部固定设置有清洁滚刷(205)，所述清洁滚刷(205)一端设置有滚刷电机(206)，所述支撑臂杆(201)两侧均设置有臂杆侧槽(203)，所述臂杆侧槽(203)内部设置有齿条(204)。
2.根据权利要求1所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：所述施力滚刷组件(300)包括齿动盘(301)，所述齿动盘(301)上设置有固定轴杆(302)和固定臂杆(303)，所述固定臂杆(303)端部设置有施力滚刷(304)。
3.根据权利要求1所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：所述支撑臂杆(201)通过横台滑槽(104)在清洁机架横台(101)内上下滑动，所述复位弹簧(107)的两端分别抵触在臂杆顶盘(202)和顶台端盘(106)上。
4.根据权利要求2所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：所述齿动盘(301)通过固定轴杆(302)和轴承座与清洁机架背台(102)转动连接，所述齿动盘(301)与齿条(204)齿合。
5.根据权利要求1所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：通过所述复位弹簧(107)的顶压，所述支撑臂杆(201)处于向下抵触的结构，两侧的两组所述施力滚刷组件(300)处于向上抬升的结构。
6.根据权利要求1所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：通过所述复位弹簧(107)的缓冲，所述清洁滚刷组件(200)在清洁机架组件(100)上形成柔性上下动作的缓冲结构。
7.根据权利要求1所述的一种基板玻璃清洗滚机构，其特征在于：所述清洁机架组件(100)通过紧固螺栓和背部安装台(103)固定在现有的机械手上。
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| CN219597623U true CN219597623U (zh) | 2023-08-29 |
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