CN219590592U - 一种防晶圆污染显微镜挡板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了半导体制造领域内的一种防晶圆污染显微镜挡板，包括显微镜，显微镜包括底座，底座上设置有机体，机体上部设置有顶盖，所述机体包括水平的上壳体和下壳体，上壳体和下壳体后部之间竖直设置有连接壳体，所述底座上位于机体前方设置有放置晶圆的水平载台，所述上壳体和下壳体之间竖直设置有固定轴，固定轴上设置有安装座，安装座上转动连接有水平的保护挡板，保护挡板包括连为一体的遮挡部和摆动部，摆动部宽度小于遮挡部宽度，所述摆动部与固定轴相转动连接，所述遮挡部与载台相对应设置。本实用新型能够有效解决颗粒污染晶圆的风险。

Description

一种防晶圆污染显微镜挡板

技术领域

本实用新型属于半导体制造领域，特别涉及一种防晶圆污染显微镜挡板。

背景技术

现有技术中，晶圆凸块制造（bumping）过程一般是基于定制的光掩模，通过真空溅镀、黄光、电镀、蚀刻等环节而成，该技术是晶圆制造环节的延伸，也是实施封装工艺的基础及前提。晶圆制造bumping工艺中，经常需要用到显微镜来观察晶圆表面的状况以确认是否符合工艺标准，显微镜的晶圆载台放置区，由于长时间检测，其问题在于：晶圆裸露在空气中，并且晶圆上方人员调整镜头、观察装置等会有摩擦导致塑料颗粒掉落至晶圆表面，有污染晶圆的风险。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种防晶圆污染显微镜挡板，能够解决晶圆在显微镜载台放置区时被颗粒污染，在显微镜载台上方新增保护挡板，将该晶圆完全遮住，有效解决颗粒污染晶圆的风险。

本实用新型的目的是这样实现的：一种防晶圆污染显微镜挡板，包括显微镜，显微镜包括底座，底座上设置有机体，机体上部设置有顶盖，所述机体包括水平的上壳体和下壳体，上壳体和下壳体后部之间竖直设置有连接壳体，所述底座上位于机体前方设置有放置晶圆的水平载台，所述上壳体和下壳体之间竖直设置有固定轴，固定轴上设置有安装座，安装座上转动连接有水平的保护挡板，保护挡板包括连为一体的遮挡部和摆动部，摆动部宽度小于遮挡部宽度，所述摆动部与固定轴相转动连接，所述遮挡部与载台相对应设置。

本实用新型工作时，在显微镜载台上方新增保护挡板，将该晶圆完全遮住，有效解决颗粒污染风险，需要观察晶圆时，转动保护挡板，使得保护挡板移动到遮挡住晶圆的位置；观察结束后，转动保护挡板，使得保护挡板与晶圆错开，便于取走晶圆。与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：保护挡板摆动部与固定轴铰接处与晶圆错开，避免摩擦产生的颗粒物质污染晶圆，降低污染晶圆的风险；改善效果好，改善成本低。

为了便于观察晶圆，所述上壳体的长度大于下壳体的长度，顶盖前侧设置有观察镜，上壳体下侧设置有至少两个目镜，各目镜对应载台设置。

为了使得摩擦产生的颗粒落入沉积槽，避免污染晶圆，所述下壳体上对应固定轴开设有沉积槽，固定轴的上下两端均设置有定位座，两个定位座分别与上壳体、沉积槽底壁相固定。不用时，通过吸尘机将沉积槽内颗粒吸走。

为了改善保护效果，所述保护挡板的遮挡部面积大于载台面积，摆动部上开设有转动孔，摆动部经转动孔与安装座相转动连接。

作为本实用新型的进一步改进，所述载台上开设有放置晶圆的定位槽，定位槽对应遮挡部设置。

为了保持保护挡板清洁，防止保护挡板因污染导致难以观察，所述保护挡板采用透明的亚克力材质制成，保护挡板遮挡部上设置有清理机构，所述清理机构包括两组分别设置在保护挡板遮挡部上下两侧的导向组件，所述导向组件包括两根左右对应的导轨，导轨沿保护挡板遮挡部纵向设置，导轨上设有可纵向滑动的滑块，左右对应的两滑块之间设置有横向清理插条，清理插条的左右两端均设有安装块，安装块配合卡入对应滑块的插槽内，清理插条下侧对应保护挡板遮挡部设置有清理海绵，位于保护挡板遮挡部左侧的上下两个滑块之间通过U形连接件相连，连接件外侧设有把手。将保护挡板转动到侧面与晶圆错开，通过把手驱动两滑块之间的清理插条来清理保护挡板。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为保护挡板的侧视图。

图3为保护挡板的主视图。

图4为图3中A处的放大图。

图5为保护挡板的俯视图。

其中，1底座，2机体，201上壳体，202下壳体，203连接壳体，3载台，4固定轴，4a定位座，5安装座，6保护挡板，6a遮挡部，6b摆动部，7观察镜，8目镜，9沉积槽，10转动孔，11定位槽，12导轨，13滑块，14清理插条，14a安装块，15清理海绵，16连接件，17把手，18顶盖。

具体实施方式

如图1-5所示，为一种防晶圆污染显微镜挡板，包括显微镜，显微镜包括底座1，底座1上设置有机体2，机体2上部设置有顶盖18，机体2包括水平的上壳体201和下壳体202，上壳体201和下壳体202后部之间竖直设置有连接壳体203，底座1上位于机体2前方设置有放置晶圆的水平载台3，上壳体201和下壳体202之间竖直设置有固定轴4，固定轴4上设置有安装座5，安装座5上转动连接有水平的保护挡板6，保护挡板6包括连为一体的遮挡部6a和摆动部6b，摆动部6b宽度小于遮挡部6a宽度，摆动部6b与固定轴4相转动连接，遮挡部6a与载台3相对应设置。

为了便于观察晶圆，上壳体201的长度大于下壳体202的长度，顶盖18前侧设置有观察镜7，上壳体201下侧设置有至少两个目镜8，各目镜8对应载台3设置。为了使得摩擦产生的颗粒落入沉积槽9，避免污染晶圆，下壳体202上对应固定轴4开设有沉积槽9，固定轴4的上下两端均设置有定位座4a，两个定位座4a分别与上壳体201、沉积槽9底壁相固定。不用时，通过吸尘机将沉积槽9内颗粒吸走。

为了改善保护效果，保护挡板6的遮挡部6a面积大于载台3面积，摆动部6b上开设有转动孔10，摆动部6b经转动孔10与安装座5相转动连接。载台3上开设有放置晶圆的定位槽11，定位槽11对应遮挡部6a设置。

为了保持保护挡板6清洁，防止保护挡板6因污染导致难以观察，保护挡板6采用透明的亚克力材质制成，保护挡板6遮挡部6a上设置有清理机构，所述清理机构包括两组分别设置在保护挡板6遮挡部6a上下两侧的导向组件，所述导向组件包括两根左右对应的导轨12，导轨12沿保护挡板6遮挡部6a纵向设置，导轨12上设有可纵向滑动的滑块13，左右对应的两滑块13之间设置有横向清理插条14，清理插条14的左右两端均设有安装块14a，安装块14a配合卡入对应滑块13的插槽内，清理插条14下侧对应保护挡板6遮挡部6a设置有清理海绵15，位于保护挡板6遮挡部6a左侧的上下两个滑块13之间通过U形连接件16相连，连接件16外侧设有把手17。将保护挡板6转动到侧面与晶圆错开，通过把手17驱动两滑块13之间的清理插条14来清理保护挡板6。

本实用新型工作时，在显微镜载台3上方新增保护挡板6，将该晶圆完全遮住，有效解决颗粒污染风险，需要观察晶圆时，转动保护挡板6，使得保护挡板6移动到遮挡住晶圆的位置；观察结束后，转动保护挡板6，使得保护挡板6与晶圆错开，便于取走晶圆。本实用新型保护挡板6摆动部6b与固定轴4铰接处与晶圆错开，避免摩擦产生的颗粒物质污染晶圆，降低污染晶圆的风险；改善效果好，改善成本低。

本实用新型并不局限于上述实施例，在本实用新型公开的技术方案的基础上，本领域的技术人员根据所公开的技术内容，不需要创造性的劳动就可以对其中的一些技术特征作出一些替换和变形，这些替换和变形均在本实用新型的保护范围内。

Claims (6)

1.一种防晶圆污染显微镜挡板，包括显微镜，显微镜包括底座，底座上设置有机体，机体上部设置有顶盖，所述机体包括水平的上壳体和下壳体，上壳体和下壳体后部之间竖直设置有连接壳体，所述底座上位于机体前方设置有放置晶圆的水平载台，其特征在于，所述上壳体和下壳体之间竖直设置有固定轴，固定轴上设置有安装座，安装座上转动连接有水平的保护挡板，保护挡板包括连为一体的遮挡部和摆动部，摆动部宽度小于遮挡部宽度，所述摆动部与固定轴相转动连接，所述遮挡部与载台相对应设置。

2.根据权利要求1所述的一种防晶圆污染显微镜挡板，其特征在于，所述上壳体的长度大于下壳体的长度，顶盖前侧设置有观察镜，上壳体下侧设置有至少两个目镜，各目镜对应载台设置。

3.根据权利要求1或2所述的一种防晶圆污染显微镜挡板，其特征在于，所述下壳体上对应固定轴开设有沉积槽，固定轴的上下两端均设置有定位座，两个定位座分别与上壳体、沉积槽底壁相固定。

4.根据权利要求1或2所述的一种防晶圆污染显微镜挡板，其特征在于，所述保护挡板的遮挡部面积大于载台面积，摆动部上开设有转动孔，摆动部经转动孔与安装座相转动连接。

5.根据权利要求1或2所述的一种防晶圆污染显微镜挡板，其特征在于，所述载台上开设有放置晶圆的定位槽，定位槽对应遮挡部设置。

6.根据权利要求1或2所述的一种防晶圆污染显微镜挡板，其特征在于，所述保护挡板采用透明的亚克力材质制成，保护挡板遮挡部上设置有清理机构，所述清理机构包括两组分别设置在保护挡板遮挡部上下两侧的导向组件，所述导向组件包括两根左右对应的导轨，导轨沿保护挡板遮挡部纵向设置，导轨上设有可纵向滑动的滑块，左右对应的两滑块之间设置有横向清理插条，清理插条的左右两端均设有安装块，安装块配合卡入对应滑块的插槽内，清理插条下侧对应保护挡板遮挡部设置有清理海绵，位于保护挡板遮挡部左侧的上下两个滑块之间通过U形连接件相连，连接件外侧设有把手。