CN208600922U - 一种半封闭式除尘装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种半封闭式除尘装置,包括上光学平台,所述上光学平台的底面设有大转盘,所述上光学平台和所述大转盘转动连接,所述大转盘的上表面设有,所述大转盘和所述固定连接,所述大转盘的左端上方设有除尘固定支架,所述除尘固定支架和所述上光学平台螺栓连接,所述除尘固定支架的右侧靠近所述大转盘的上方设有防尘罩,所述除尘固定支架和所述防尘罩固定连接;当除尘装置通电时激光加工晶圆时,激光扫射时晶圆粉末由于防护罩的防护作用,不会喷撒到相机镜头,使相机在背光照明下得到清晰的晶圆边缘像以及晶圆精确位置,同时也不会喷撒到扫描头的场镜上,提高了边缘光束入射到晶圆的能力。
Description
技术领域
本实用新型属于晶圆加工技术领域,具体涉及一种半封闭式除尘装置。
背景技术
晶圆是制造半导体芯片的基本材料,半导体集成电路最主要的原料是硅,因此对应的就是硅晶圆。单晶硅生长最常用的方法叫直拉法用直拉法生长后,单晶棒将按适当的尺寸进行加工,然后进行研磨,将凹凸的切痕磨掉,再用化学机械抛光工艺使其至少一面光滑如镜,晶圆片制造就完成了。
原有激光晶圆加工时,因除尘设备是以敞开方式对晶圆进行激光加工,加工时晶圆粉末散出,会下次晶圆加工精度造成影响,给工作人员的清理带来不便。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种半封闭式除尘装置,以解决上述背景技术中提出的原原有激光晶圆加工时,因除尘设备是以敞开方式对晶圆进行激光加工,加工时晶圆粉末散出,会下次晶圆加工精度造成影响,给工作人员的清理带来不便的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半封闭式除尘装置,包括上光学平台,所述上光学平台的底面设有大转盘,所述上光学平台和所述大转盘转动连接,所述大转盘的上表面设有,所述大转盘和所述固定连接,所述大转盘的左端上方设有除尘固定支架,所述除尘固定支架和所述上光学平台螺栓连接,所述除尘固定支架的右侧靠近所述大转盘的上方设有防尘罩,所述除尘固定支架和所述防尘罩固定连接,所述防尘罩的左表面开设有出风口,所述出风口上连接有阻燃波纹管,所述防尘罩的上表面开设有激光通孔,所述上光学平台的上表面靠近所述防尘罩的上方设有扫描头,所述上光学平台和所述扫描头焊接固定,所述扫描头的左侧靠近所述上光学平台的上表面设有相机,所述上光学平台和所述相机焊接固定,所述相机和所述扫描头均与外部电源电性连接。
优选的,所述激光通孔的数量为两个,一个所述激光通孔位于所述防尘罩的上表面,另一个所述激光通孔位于所述防尘罩的底面,且两个所述激光通孔竖直方向位置相对应。
优选的,所述大转盘的上表面开设有通孔,且所述通孔内设有连接轴,所述大转盘和所述上光学平台通过所述连接轴转动连接。
优选的,所述卡盘数量有八个,八个所述卡盘均对称分布在所述大转盘的上表面。
优选的,所述阻燃波纹管的一端与除尘箱连接,所述阻燃波纹管的另一端与出风口连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:除尘固定支架的右侧靠近大转盘的上方设有防尘罩,当除尘装置通电时激光加工晶圆时,激光扫射时晶圆粉末由于防护罩的防护作用,不会喷撒到相机镜头,使相机在背光照明下得到清晰的晶圆边缘像以及晶圆精确位置,同时也不会喷撒到扫描头的场镜上,提高了边缘光束入射到晶圆的能力。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型中的防尘罩结构示意图;
图3为本实用新型中的阻燃波纹管结构示意图;
图中:1、上光学平台;2、相机;3、扫描头;4、大转盘;5、卡盘;6、防尘罩;7、除尘固定支架;8、出风口;9、激光通孔;10、阻燃波纹管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:一种半封闭式除尘装置,包括上光学平台1,上光学平台1的底面设有大转盘4,上光学平台1和大转盘4转动连接,大转盘4的上表面设有卡盘5,大转盘4和卡盘5固定连接,大转盘4的左端上方设有除尘固定支架7,除尘固定支架7和上光学平台1螺栓连接,除尘固定支架7的右侧靠近大转盘4的上方设有防尘罩6,除尘固定支架7和防尘罩6固定连接,防尘罩6的左表面开设有出风口8,出风口8上连接有阻燃波纹管10,防尘罩6的上表面开设有激光通孔9,上光学平台1的上表面靠近防尘罩6的上方设有扫描头3,上光学平台1和扫描头3焊接固定,扫描头3的左侧靠近上光学平台1的上表面设有相机2,上光学平台1和相机2焊接固定,相机2和扫描头3均与外部电源电性连接。
本实施方案中,把此除尘装置放置于工作地点,在扫描头3正下方固定设有防尘罩6,当扫描头3上的场镜穿过激光通孔9对晶圆进行加工时,晶圆会有粉末散出不会使相机2镜头模糊,让相机2在背光照明下得到清晰的晶圆边缘像以及晶圆精确位置,同时也不会把扫描头3上的场镜弄脏,提高了边缘光束入射到晶圆的能力,对相机2和扫描头3起到了保护的作用,因晶圆的大小不一,上光学平台1的底面设有大转盘4,上光学平台1和大转盘4转动连接,大转盘4的上表面设有卡盘5,大转盘4和卡盘5固定连接,工作人员通过对大转盘4的转动,实现对卡盘5的变换,卡盘5对不同大小的晶圆进行固定,进而让激光通过防尘罩6上的激光通孔9对固定在卡盘5上的晶圆进行加工,对工作人员带来了便利。
进一步的,激光通孔9的数量为两个,一个激光通孔9位于防尘罩6的上表面,另一个激光通孔9位于防尘罩6的底面,且两个激光通孔9竖直方向位置相对应。
本实施例中,让激光通过防护罩上的激光通孔9对固定在卡盘5上的晶圆进行加工。
进一步的,大转盘4的上表面开设有通孔,且通孔内设有连接轴,大转盘4和上光学平台1通过连接轴转动连接。
本实施例中,实现对卡盘5的变换,卡盘5对不同大小的晶圆进行固定,进而让激光通过防尘罩6上的激光通孔9对固定在卡盘5上的晶圆进行加工,得到工作人员所需晶圆。
进一步的,卡盘5数量有八个,八个卡盘5均对称分布在大转盘4的上表面。
本实施例中,卡盘5对不同大小的晶圆进行固定,从而加工成工作人员所需的晶圆。
进一步的,阻燃波纹管10的一端与除尘箱连接,阻燃波纹管10的另一端与出风口8连接。
本实施例中,阻燃波纹管10的一端与除尘箱连接,阻燃波纹管10的另一端与出风口8连接,通过这种方法,让防护罩内的加工晶圆粉末残渣工作不需要的垃圾让除尘柜的吸力让垃圾通过出风口8吸出来,为工作人员清洁装置带来了便利。
本实用新型的工作原理及使用流程:本实用新型安装好过后,把此除尘装置放置于工作地点,对扫描头3以及相机2进行通电,工作人员选择合适大小的卡盘5对晶圆进行固定并且转动大转盘4,将晶圆放置于扫描头3正下方固定设有防尘罩6下方,当扫描头3上的场镜穿过激光通孔9对晶圆进行加工时,晶圆会有粉末散出,由于防尘罩6的防护作用不会使相机2镜头模糊,进而相机2在背光照明下可得到清晰的晶圆边缘像以及晶圆精确位置,同时在防尘罩6的防护作用也不会把扫描头3上的场镜弄脏,提高了边缘光束入射到晶圆的能力,对相机2和扫描头3均起到了保护的作用,使得机器的使用寿命增长同时也便利了工作人员,当加工完晶圆,工作人员把晶圆收放好并把装置的电源切断,工作人员再将装置放好即可。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种半封闭式除尘装置,包括上光学平台(1),其特征在于:所述上光学平台(1)的底面设有大转盘(4),所述上光学平台(1)和所述大转盘(4)转动连接,所述大转盘(4)的上表面设有卡盘(5),所述大转盘(4)和所述卡盘(5)固定连接,所述大转盘(4)的左端上方设有除尘固定支架(7),所述除尘固定支架(7)和所述上光学平台(1)螺栓连接,所述除尘固定支架(7)的右侧靠近所述大转盘(4)的上方设有防尘罩(6),所述除尘固定支架(7)和所述防尘罩(6)固定连接,所述防尘罩(6)的左表面开设有出风口(8),所述出风口(8)上连接有阻燃波纹管(10),所述防尘罩(6)的上表面开设有激光通孔(9),所述上光学平台(1)的上表面靠近所述防尘罩(6)的上方设有扫描头(3),所述上光学平台(1)和所述扫描头(3)焊接固定,所述扫描头(3)的左侧靠近所述上光学平台(1)的上表面设有相机(2),所述上光学平台(1)和所述相机(2)焊接固定,所述相机(2)和所述扫描头(3)均与外部电源电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种半封闭式除尘装置,其特征在于:所述激光通孔(9)的数量为两个,一个所述激光通孔(9)位于所述防尘罩(6)的上表面,另一个所述激光通孔(9)位于所述防尘罩(6)的底面,且两个所述激光通孔(9)竖直方向位置相对应。
3.根据权利要求1所述的一种半封闭式除尘装置,其特征在于:所述大转盘(4)的上表面开设有通孔,且所述通孔内设有连接轴,所述大转盘(4)和所述上光学平台(1)通过所述连接轴转动连接。
4.根据权利要求1所述的一种半封闭式除尘装置,其特征在于:所述卡盘(5)数量有八个,八个所述卡盘(5)均对称分布在所述大转盘(4)的上表面。
5.根据权利要求1所述的一种半封闭式除尘装置,其特征在于:所述阻燃波纹管(10)的一端与除尘箱连接,所述阻燃波纹管(10)的另一端与出风口(8)连接。
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