CN219575560U - 等离子处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种等离子处理装置，包括等离子件、安装机构及驱动机构。其中，等离子件包括正电极、负电极及设有真空腔的装置本体，正电极与负电极间隔设置于真空腔的两侧，以使正电极与负电极能够配合形成等离子体发生结构；安装机构设置于真空腔内，且安装机构位于正电极与负电极之间；驱动机构与安装机构及等离子体发生结构中的至少一个传动连接，以使安装机构能够相对于等离子体发生结构沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。本申请中的等离子处理装置在等离子体对电路板进行除胶等处理时，安装机构上的电路板能够沿切割电场方向往复移动，使得等离子体在电路板上分布的更加均匀，提高了等离子处理装置处理的均匀性。

Description

等离子处理装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种等离子处理装置。

背景技术

目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子除胶、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

随着电子产品的不断更新，对电路板的需求也越要越多，种类繁多，等离子清洁均匀性尤其重要，直接影响了电路板每个线路的品质。传统的等离子处理设备在对电路板进行处理时，会出现处理不均匀的情况，例如，电路板的正中间点除胶量大，某些边缘区域的除胶量小。

实用新型内容

基于此，有必要针对传统的等离子处理设备在对电路板进行处理时，会出现处理不均匀的情况的问题，提供一种等离子处理装置。

其技术方案如下：

一方面，提供了一种等离子处理装置，包括：

等离子件，所述等离子件包括正电极、负电极及设有真空腔的装置本体，所述正电极与所述负电极间隔设置于所述真空腔的两侧，以使所述正电极与所述负电极能够配合形成等离子体发生结构；

安装机构，所述安装机构设置于所述真空腔内，且所述安装机构位于所述正电极与所述负电极之间；及

驱动机构，所述驱动机构与所述安装机构及所述等离子体发生结构中的至少一个传动连接，以使所述安装机构能够相对于所述等离子体发生结构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

上述实施例中的等离子处理装置，使用时，将电路板对应安装在安装机构上后，等离子体发生结构工作，使得正电极与负电极之间产生电场，且电场能够对正电极与负电极之间的气体进行电离以产生等离子体，从而通过等离子体对电路板进行除胶等处理。其中，在等离子体对电路板进行除胶等处理时，驱动机构工作，使得安装机构能够相对于等离子体发生结构沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，进而使得安装机构上的电路板能够沿切割电场方向往复移动，从而使得等离子体在电路板上分布的更加均匀，提高了等离子处理装置对电路板进行除胶等处理的均匀性。

下面进一步对技术方案进行说明：

在其中一个实施例中，所述安装机构可活动的设置于所述真空腔内，所述驱动机构与所述安装机构传动连接，以使所述安装机构能够相对于所述等离子体发生结构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

在其中一个实施例中，所述驱动机构包括驱动件及第一传动件，所述驱动件与所述第一传动件传动连接，所述安装机构设有第二传动件，所述第一传动件与所述第二传动件传动连接，使得所述第二传动件能够带动所述安装机构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

在其中一个实施例中，所述驱动机构还包括第三传动件，所述驱动件与所述第三传动件传动连接，所述第三传动件与所述第一传动件传动连接。

在其中一个实施例中，所述装置本体的外壁设有与所述真空腔连通的通孔，所述驱动件设置于所述装置本体的外侧，所述第三传动件穿过所述通孔并与所述第一传动件对应传动连接。

在其中一个实施例中，所述第一传动件设置为齿轮，所述第二传动件设置为齿条，所述第三传动件设置为传动杆，所述齿轮与所述齿条均至少为一个，各个所述齿轮与各个所述齿条均对应传动连接。

在其中一个实施例中，所述安装机构的底部设有滚动件，所述滚动件用于与所述真空腔的底壁滚动配合。

在其中一个实施例中，所述齿条设置于所述安装机构的底部，且所述滚动件与所述齿条间隔设置，所述驱动机构还包括支撑件，所述支撑件与所述传动杆转动连接以支撑所述传动杆。

在其中一个实施例中，所述支撑件至少为两个，各个所述支撑件均间隔设置于所述传动杆上，所述齿轮位于相邻的两个所述支撑件之间，且相邻的两个所述支撑件与所述齿轮的两侧一一对应限位配合。

在其中一个实施例中，所述安装机构包括台车及夹具，所述夹具设置于所述台车上，所述夹具用于夹装电路板，所述驱动机构与所述台车传动连接，使得所述夹具能够带动所述电路板沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为一个实施例的等离子处理装置的结构示意图。

图2为图1中的等离子处理装置在另一个视角下的结构示意图。

图3为图1中的等离子处理装置在又一个视角下的结构示意图。

图4为图3中的安装机构的结构示意图。

图5为图3中的驱动机构的结构示意图。

附图标记说明：

10、等离子处理装置；100、等离子件；110、装置本体；111、真空腔；120、等离子体发生结构；200、安装机构；210、第二传动件；220、滚动件；230、台车；240、夹具；300、驱动机构；310、驱动件；320、第一传动件；330、第三传动件；340、支撑件。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

如图1、图2及图3所示，在一个实施例中，提供了一种等离子处理装置10，包括等离子件100、安装机构200及驱动机构300。其中，等离子件100包括有正电极、负电极及设有真空腔111的装置本体110，正电极与负电极间隔设置于真空腔111的两侧，以使正电极与负电极能够配合形成等离子体发生结构120；安装机构200设置于真空腔111内，且安装机构200位于正电极与负电极之间；驱动机构300与安装机构200及等离子体发生结构120中的至少一个传动连接，以使安装机构200能够相对于等离子体发生结构120沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。

上述实施例中的等离子处理装置10，使用时，将电路板对应安装在安装机构200上后，等离子体发生结构120工作，使得正电极与负电极之间产生电场，且电场能够对正电极与负电极之间的气体进行电离以产生等离子体，从而通过等离子体对电路板进行除胶等处理。其中，在等离子体对电路板进行除胶等处理时，驱动机构300工作，使得安装机构200能够相对于等离子体发生结构120沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动，进而使得安装机构200上的电路板能够沿切割电场方向往复移动，从而使得等离子体在电路板上分布的更加均匀，提高了等离子处理装置10对电路板进行除胶等处理的均匀性。

其中，等离子件100可以为等离子设备，等离子体发生器或其他能够产生等离子体的设备。

其中，本申请以驱动机构300与安装机构200传动连接，以使安装机构200能够沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动为例进行说明，不得理解为对本申请的限制。在其他实施例中，也可以为驱动机构300与等离子体发生结构120传动连接，以使等离子体发生结构120能够沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动、或驱动机构300与安装机构200及等离子体发生结构120均传动连接，以使安装机构200及等离子体发生结构120均能够沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，且安装机构200及等离子体发生结构120的移动方向相反，其原理相同或类似，此处不在赘述。

如图1、图2及图3所示，进一步地，安装机构200可活动的设置于真空腔111内，驱动机构300与安装机构200传动连接，以使安装机构200能够相对于等离子体发生结构120沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。如此，等离子体结构120相对于装置本体不动，使得真空腔111内电场的稳定性增加，保证电场能够对正电极与负电极之间的气体进行电离以产生等离子体，提高了等离子处理装置10的稳定性及可靠性。

其中，驱动机构300可以为液压驱动机构、气压驱动机构、皮带传动机构、链传动机构、齿轮齿条传动结构或其他传动机构。

如图3、图4及图5所示，可选地，驱动机构300包括驱动件310及第一传动件320，驱动件310与第一传动件320传动连接，安装机构200设有第二传动件210，第一传动件320与第二传动件210传动连接，使得第二传动件210能够带动安装机构200沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。如此，安装机构200能够稳定、可靠的沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，提高了等离子处理装置10的可靠性。

具体到本实施中，正电极与负电极左右(如图2中A方向所示)间隔设置，安装机构200可以前后(如图2中B方向所示)往复移动、上下(如图2中C方向所示)往复移动或其他垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。例如，当安装机构200可以前后移动时，安装机构200位于正电极与负电极之间的正中间位置，安装机构200可以向前移动163.5mm，安装机构200可以向后移动163.5mm(即当安装机构200位于正电极与负电极之间的正中间位置时，安装机构200与正电极的前端及负电极的前端均为163.5mm，安装机构200与正电极的后端及负电极的后端均为163.5mm)。在其他实施例中，正电极与负电极也可以前后间隔设置或上下间隔设置，其原理与左右间隔设置相同或类似，此处不在详细赘述。

如图4及图5所示，可选地，驱动机构300还包括第三传动件330，驱动件310与第三传动件330传动连接，第三传动件330与第一传动件320传动连接。如此，驱动件310相对于安装机构200的位置可根据实际使用的需要进行灵活调整，提高了等离子处理装置10的适用性。

如图1、图4及图5所示，可选地，装置本体110的外壁设有与真空腔111连通的通孔，驱动件310设置于装置本体110的外侧，第三传动件330穿过通孔并与第一传动件320对应传动连接。如此，驱动件310与安装机构200间隔设置于装置本体110的内外两侧，避免驱动件310与安装机构200之间发生干涉，提高了等离子处理装置10的可靠性。

具体到本实施例中，第三传动件330与通孔的内侧壁密封配合。如此，提高了等离子处理装置10的安全性。

如图4及图5所示，在一个实施例中，第一传动件320设置为齿轮，第二传动件210设置为齿条，第三传动件330设置为传动杆，齿轮与齿条均至少为一个，各个齿轮与各个齿条均对应传动连接。如此，驱动件310输出的驱动力能够稳定、可靠的传递至安装机构200上，保证安装机构200能够沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，提高了等离子处理装置10的可靠性。

其中，齿轮与齿条的数量均可以根据实际使用的需要进行灵活调整。具体到本实施例中，齿轮与齿条的数量为两个。

如图1及图4所示，进一步地，安装机构200的底部设有滚动件220，滚动件220用于与真空腔111的底壁滚动配合。如此，安装机构200与真空腔111的底壁之间的摩擦力减小，保证齿轮能够通过齿条带动安装机构200沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，提高了等离子处理装置10的可靠性。

其中，滚动件220可以为滚轮、滚动轴承、滚珠或其他滚动结构。滚动件220的数量可以根据实际使用的需要进行灵活调整。具体到本实施例中，滚动件220设置为滚轮，滚轮为六个，六个滚轮间隔设置于安装机构200的底部。

如图4及图5所示，可选地，齿条设置于安装机构200的底部，且滚动件220与齿条间隔设置，驱动机构300还包括支撑件340，支撑件340与传动杆转动连接以支撑传动杆。如此，支撑件340能够对传动杆起支撑限位的作用，保证传动杆上的齿轮能够与齿条保持啮合，提高了等离子处理装置10的可靠性。

其中，支撑件340可以为支撑块、支撑架、支撑座或其他支撑结构。具体到本实施例中，支撑件340设置于真空腔111的底壁上。

如图4及图5所示，可选地，支撑件340至少为两个，各个支撑件340均间隔设置于传动杆上，齿轮位于相邻的两个支撑件340之间，且相邻的两个支撑件340与齿轮的两侧一一对应限位配合。如此，齿轮能够通过支撑件340进行限位，避免齿轮在使用的过程中相对于传动杆发生移动，保证齿轮能够与齿条保持啮合，提高了等离子处理装置10的可靠性。

其中，支撑件340的数量可以根据实际使用的需要进行灵活调整。具体到本实施例中，支撑件340设置为四个，四个支撑件340对与两个齿轮的两侧一一对应设置。

如图3、图4及图5所示，在一个实施例中，安装机构200包括台车230及夹具240，夹具240设置于台车230上，夹具240用于夹装电路板，驱动机构300与台车230传动连接，使得夹具240能够带动电路板沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动。如此，电路板能够通过夹具240固定在台车230上，使得电路板能够与台车230同步沿垂直于正电极与负电极的连线方向往复移动，提高了等离子处理装置10的可靠性。

其中，夹具240可以为气动夹子、柔性夹子、弹簧夹子或其他夹装结构。夹具240能够夹装硬性电路板和柔性电路板。具体到本实施例中，夹具240能够使电路板保持竖直状态，以保证电路板可以保持在正电极与负电极之间的正中间位置。

其中，夹具240的数量可以根据实际使用的需要进行灵活调整。具体到本实施例中，夹具240的数量至少为两个。如此，等离子处理装置10可以同时对多个电路板进行除胶等处理，提高了等离子处理装置10的处理效率。

具体到本实施例中，将本申请中设有15个夹具240的等离子处理装置10进行除胶测试，得到每个夹具240上对应的电路板的蚀刻量如上表所示。将传统设有15个夹具240的等离子处理设备进行除胶测试，得到每个夹具240上对应的电路板的蚀刻量如小表所示。

由此可知，相对于传统的等离子处理设备，本实施例中的等离子处理装置10的电路板的蚀刻量均匀性明显提高。

在本申请的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，若有出现术语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本申请所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

还应当理解的是，在解释元件的连接关系或位置关系时，尽管没有明确描述，但连接关系和位置关系解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种等离子处理装置，其特征在于，包括：

等离子件，所述等离子件包括正电极、负电极及设有真空腔的装置本体，所述正电极与所述负电极间隔设置于所述真空腔的两侧，以使所述正电极与所述负电极能够配合形成等离子体发生结构；

安装机构，所述安装机构设置于所述真空腔内，且所述安装机构位于所述正电极与所述负电极之间；及

驱动机构，所述驱动机构与所述安装机构及所述等离子体发生结构中的至少一个传动连接，以使所述安装机构能够相对于所述等离子体发生结构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，所述安装机构可活动的设置于所述真空腔内，所述驱动机构与所述安装机构传动连接，以使所述安装机构能够相对于所述等离子体发生结构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，所述驱动机构包括驱动件及第一传动件，所述驱动件与所述第一传动件传动连接，所述安装机构设有第二传动件，所述第一传动件与所述第二传动件传动连接，使得所述第二传动件能够带动所述安装机构沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。

4.根据权利要求3所述的等离子处理装置，其特征在于，所述驱动机构还包括第三传动件，所述驱动件与所述第三传动件传动连接，所述第三传动件与所述第一传动件传动连接。

5.根据权利要求4所述的等离子处理装置，其特征在于，所述装置本体的外壁设有与所述真空腔连通的通孔，所述驱动件设置于所述装置本体的外侧，所述第三传动件穿过所述通孔并与所述第一传动件对应传动连接。

6.根据权利要求4所述的等离子处理装置，其特征在于，所述第一传动件设置为齿轮，所述第二传动件设置为齿条，所述第三传动件设置为传动杆，所述齿轮与所述齿条均至少为一个，各个所述齿轮与各个所述齿条均对应传动连接。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置，其特征在于，所述安装机构的底部设有滚动件，所述滚动件用于与所述真空腔的底壁滚动配合。

8.根据权利要求7所述的等离子处理装置，其特征在于，所述齿条设置于所述安装机构的底部，且所述滚动件与所述齿条间隔设置，所述驱动机构还包括支撑件，所述支撑件与所述传动杆转动连接以支撑所述传动杆。

9.根据权利要求8所述的等离子处理装置，其特征在于，所述支撑件至少为两个，各个所述支撑件均间隔设置于所述传动杆上，所述齿轮位于相邻的两个所述支撑件之间，且相邻的两个所述支撑件与所述齿轮的两侧一一对应限位配合。

10.根据权利要求1至9任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，所述安装机构包括台车及夹具，所述夹具设置于所述台车上，所述夹具用于夹装电路板，所述驱动机构与所述台车传动连接，使得所述夹具能够带动所述电路板沿垂直于所述正电极与所述负电极的连线方向往复移动。