CN219522483U - 一种施釉机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及施釉机技术领域,特别是涉及一种施釉机,基座上设有施釉座,所述施釉输送带沿施釉座周向、与施釉座之间可滑动连接,施釉喷头设于施釉座一端,且施釉喷头朝向施釉输送带设置,施釉座底部两端对称设有两组施釉带驱动件,施釉带驱动件驱动施釉输送带在施釉座上、沿施釉座周向滑动,基座上、施釉喷头对侧设有施釉挡板,施釉挡板底部设有收集槽,通过施釉喷头对陶瓷件进行施釉处理,从而满足陶瓷件工艺需求,绕施釉座会周向滑动的施釉输送带能够方便循环使用,提高设备实用性,施釉挡板的设置能够方便对施釉过程中喷出的釉料阻挡住,避免多余的釉料飘散至外界工作面内,造成釉料的浪费,并且还会对周围的工作环境造成影响。
Description
技术领域
本实用新型涉及施釉机技术领域,特别是涉及一种施釉机。
背景技术
目前,在陶瓷管加工过程中,需要通过施釉机对陶瓷管的外表面进行喷釉,烘干工序与喷釉工序采用烘干设备和喷釉设备分开进行的,从烘干工序到喷釉工序涉及到产品的转序,中间需要经过冷却、取产品、产品转运、串产品,再进行喷釉,耗时比较长,生产效率低,而且产品转运存在很多不确定因素,如产品磕碰,容易被污染等,产品质量得不到保障,尤其是在施釉过程中,需要保证对陶瓷管的施釉效果,在施釉过程中,施釉喷头多为喷雾状喷头,这就使得在喷涂过程中,必然会有部分釉料喷洒到外界,如果不能及时收集起来,必然造成釉料的浪费,因此,需要一种施釉机,已解决上述问题。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种施釉机,用于解决现有技术中对陶瓷件施釉过程中保证施釉效果的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种施釉机,包括基座、施釉喷头和施釉输送带,所述基座上设有施釉座,所述施釉输送带沿施釉座周向、与施釉座之间可滑动连接,所述施釉喷头设于施釉座一端,且施釉喷头朝向施釉输送带设置;
所述施釉座底部两端对称设有两组施釉带驱动件,所述施釉带驱动件驱动施釉输送带在施釉座上、沿施釉座周向滑动;
所述基座上、施釉喷头对侧设有施釉挡板,所述施釉挡板底部设有收集槽;
所述施釉输送带上设有多组施釉模座,所述施釉模座上可转动的连接有施釉模头。
于本实用新型的一实施例中,所述施釉座上、施釉输送带输送方向的施釉喷头前方设有施釉烘干箱,所述施釉烘干箱对施釉喷头喷釉前的待施釉件进行烘干升温处理。
于本实用新型的一实施例中,所述施釉喷头与施釉座之间设有喷头架,所述喷头架上设有施釉管,所述基座底部设有釉桶,所述施釉管连接至釉桶内。
于本实用新型的一实施例中,所述施釉挡板为喇叭状的施釉挡板,且施釉挡板开口端朝向施釉喷头设置。
于本实用新型的一实施例中,所述施釉输送带输送方向的施釉喷头后方的基座一侧设有烘干风机。
于本实用新型的一实施例中,所述施釉喷头下方设有施釉收集板,所述施釉收集板为喇叭状收集板,施釉收集板开口端朝向施釉挡板,所述施釉收集板收口端处设有收料槽。
如上所述,本实用新型的一种施釉机,具有以下有益效果:
1、通过施釉喷头对陶瓷件进行施釉处理,从而满足陶瓷件工艺需求,绕施釉座会周向滑动的施釉输送带能够方便循环使用,提高设备实用性。
2、施釉挡板的设置能够方便对施釉过程中喷出的釉料阻挡住,避免多余的釉料飘散至外界工作面内,造成釉料的浪费,并且还会对周围的工作环境造成影响,施釉挡板底部设有收集槽,能够方便将施釉挡板收集的釉料存放至收集槽内,从而便于循环使用。
3、将待施釉件先经过升温处理,以方便后续将釉料喷涂在待施釉件上,从而保证施釉效果的稳定性
附图说明
图1显示为本实用新型实施例中公开的施釉机的结构示意图。
图2显示为图1俯视图。
元件标号说明
1、基座;2、施釉喷头;3、施釉输送带;4、施釉座;5、施釉带驱动件;6、施釉挡板;7、收集槽;8、施釉模座;9、施釉模头;10、施釉烘干箱;11、喷头架;12、釉桶;13、烘干风机;14、施釉收集板;15、收料槽。
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
请参阅图1至图2。须知,本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本实用新型可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时,本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语,亦仅为便于叙述的明了,而非用以限定本实用新型可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更技术内容下,当亦视为本实用新型可实施的范畴。
请参阅图1至图2,本实用新型提供一种施釉机,包括基座1、施釉喷头2和施釉输送带3,基座1上设有施釉座4,施釉输送带3沿施釉座4周向、与施釉座4之间可滑动连接,施釉喷头2设于施釉座4一端,且施釉喷头2朝向施釉输送带3设置,施釉输送带3将需要施釉处理的陶瓷件输送至施釉工作面内,通过施釉喷头2对陶瓷件进行施釉处理,从而满足陶瓷件工艺需求,绕施釉座4会周向滑动的施釉输送带3能够方便循环使用,提高设备实用性。
施釉座4底部两端对称设有两组施釉带驱动件5,施釉带驱动件5驱动施釉输送带3在施釉座4上、沿施釉座4周向滑动,两组驱动件设置的方式能够使施釉输送带3运行更加稳定。
基座1上、施釉喷头2对侧设有施釉挡板6,施釉挡板6的设置能够方便对施釉过程中喷出的釉料阻挡住,避免多余的釉料飘散至外界工作面内,造成釉料的浪费,并且还会对周围的工作环境造成影响,施釉挡板6底部设有收集槽7,能够方便将施釉挡板6收集的釉料存放至收集槽7内,从而便于循环使用。
施釉输送带3上设有多组施釉模座8,施釉模座8上可转动的连接有施釉模头9,待施釉处理的陶瓷件直接套接在施釉模头9上,施釉处理后可以直接拿下,以方便上下料处理。
施釉座4上、施釉输送带3输送方向的施釉喷头2前方设有施釉烘干箱10,施釉烘干箱10对施釉喷头2喷釉前的待施釉件进行烘干升温处理,将待施釉件先经过升温处理,以方便后续将釉料喷涂在待施釉件上,从而保证施釉效果的稳定性。
施釉喷头2与施釉座4之间设有喷头架11,喷头架11上设有施釉管,基座1底部设有釉桶12,施釉管连接至釉桶12内,施釉桶12的设置能够方便将收集槽7内的釉料再次放入施釉桶12内,从而实现釉料的循环使用,并且喷头架11的设置能够为施釉喷头2提供更加充裕的工作空间,也方便调整施釉喷头2的工作角度和状态。
施釉挡板6为喇叭状的施釉挡板6,且施釉挡板6开口端朝向施釉喷头2设置,喇叭状的施釉挡板6能够方便对釉料的收集,并且收集面最大化,后端缩小后又能够方便釉料集中回收到收集槽7内,从而提高设备实用性。
施釉输送带3输送方向的施釉喷头2后方的基座1一侧设有烘干风机13,烘干风机13的设置能够加快烘干效率,提高设备运行速度。
施釉喷头2下方设有施釉收集板14,施釉收集板14为喇叭状收集板,施釉收集板14开口端朝向施釉挡板6,施釉收集板14收口端处设有收料槽15,施釉收集板14能够及时将施釉喷头2处喷洒的釉料收集起来,从而避免釉料的浪费。
综上所述,本实用新型通过施釉喷头对陶瓷件进行施釉处理,从而满足陶瓷件工艺需求,绕施釉座会周向滑动的施釉输送带能够方便循环使用,提高设备实用性,施釉挡板的设置能够方便对施釉过程中喷出的釉料阻挡住,避免多余的釉料飘散至外界工作面内,造成釉料的浪费,并且还会对周围的工作环境造成影响,施釉挡板底部设有收集槽,能够方便将施釉挡板收集的釉料存放至收集槽内,从而便于循环使用,将待施釉件先经过升温处理,以方便后续将釉料喷涂在待施釉件上,从而保证施釉效果的稳定性。所以,本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效,而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
Claims (6)
1.一种施釉机,其特征在于,包括基座、施釉喷头和施釉输送带,所述基座上设有施釉座,所述施釉输送带沿施釉座周向、与施釉座之间可滑动连接,所述施釉喷头设于施釉座一端,且施釉喷头朝向施釉输送带设置;
所述施釉座底部两端对称设有两组施釉带驱动件,所述施釉带驱动件驱动施釉输送带在施釉座上、沿施釉座周向滑动;
所述基座上、施釉喷头对侧设有施釉挡板,所述施釉挡板底部设有收集槽;
所述施釉输送带上设有多组施釉模座,所述施釉模座上可转动的连接有施釉模头。
2.根据权利要求1所述的施釉机,其特征在于:所述施釉座上、施釉输送带输送方向的施釉喷头前方设有施釉烘干箱,所述施釉烘干箱对施釉喷头喷釉前的待施釉件进行烘干升温处理。
3.根据权利要求1所述的施釉机,其特征在于:所述施釉喷头与施釉座之间设有喷头架,所述喷头架上设有施釉管,所述基座底部设有釉桶,所述施釉管连接至釉桶内。
4.根据权利要求1所述的施釉机,其特征在于:所述施釉挡板为喇叭状的施釉挡板,且施釉挡板开口端朝向施釉喷头设置。
5.根据权利要求1所述的施釉机,其特征在于:所述施釉输送带输送方向的施釉喷头后方的基座一侧设有烘干风机。
6.根据权利要求1所述的施釉机,其特征在于:所述施釉喷头下方设有施釉收集板,所述施釉收集板为喇叭状收集板,施釉收集板开口端朝向施釉挡板,所述施釉收集板收口端处设有收料槽。
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