CN219490140U - 一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置 - Google Patents

一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开了一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,涉及磁控溅射镀膜装置结构技术领域,为解决现有的磁控溅射镀膜装置在进行镀膜的时候,产品都是固定放置,这样不能方便的对产品的位置进行调节的问题。所述镀膜装置底座的上方设置有放置座,所述放置座内部的一端安装有电动气缸,所述电动气缸的上方安装有阳极板,所述阳极板的上端设置有放置台,所述放置座的一侧安装有竖向安装架,所述竖向安装架上端设置有横向安装架,所述横向安装架的一端安装有推动气缸,所述推动气缸的下方安装有透明密封罩,所述透明密封罩的内部安装有冷却装置箱,所述透明密封罩外壁的一侧安装有进水装置,所述透明密封罩,所述进水装置的下方设置有氮气进入座。

Description

一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜装置结构技术领域,具体为一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置。
背景技术
磁控溅射镀膜装置是一种用于材料镀膜领域的工艺仪器,是一种普适镀膜机,主要用于给汽车塑料件进行金属镀膜,从而对汽车塑料件进行保护,提高汽车塑料件的使用效果。
中国专利授权公告号CN216947169U,授权公告日2022年07月12日,一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置,包括镀膜装置主体和控制台、真空机,所述镀膜装置主体的外侧活动连接有真空仓门,所述镀膜装置主体的一侧电性连接有控制台,所述控制台的下端固定连接有数控机箱,所述控制台的一侧固定连接有显示屏,所述显示屏的一侧固定连接有控制面板,所述控制台的外侧开设有插线接口。所述的一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置,通过增加距离调节组件,能够灵活调节喷头机构进行适配活动,根据待镀膜工件的加工要求进行对应镀膜,通过增加减震限位底座,便于对真空镀膜装置整体进行减震处理,有效避免装置内部器件产生共振造成损坏。
但是现有的磁控溅射镀膜装置在进行镀膜的时候,产品都是固定放置,这样不能方便的对产品的位置进行调节,从而来提高产品的镀膜效果,因此市场上急需一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置来解决这些问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,以解决上述背景技术中提出的现有的磁控溅射镀膜装置在进行镀膜的时候,产品都是固定放置,这样不能方便的对产品的位置进行调节,从而来提高产品的镀膜效果的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,包括镀膜装置底座,所述镀膜装置底座的上端设置有控制装置,所述控制装置的前端设置有显示屏,所述镀膜装置底座的上方设置有放置座,所述放置座内部的一端安装有电动气缸,所述电动气缸的上方安装有阳极板,所述阳极板的上端设置有放置台,所述放置座的一侧安装有竖向安装架,所述竖向安装架上端设置有横向安装架,所述横向安装架的一端安装有安装箱,所述安装箱的一端安装有推动气缸,所述推动气缸的下方安装有透明密封罩,所述透明密封罩的内部安装有冷却装置箱,所述冷却装置箱的下端安装有阴极板,所述阴极板的下方安装有靶材,所述透明密封罩外壁的一侧安装有进水装置,所述透明密封罩,所述进水装置的下方设置有氮气进入座,所述氮气进入座的下方设置有抽真空座,所述抽真空座的一侧安装有抽真空管,所述抽真空管的一端安装有抽真空泵。
优选的,所述镀膜装置底座的下方安装有固定脚,所述固定脚设置有四个,所述固定脚与镀膜装置底座之间通过螺纹连接固定。
优选的,所述电动气缸的上端设置有伸缩杆,所述伸缩杆的上端设置有安装板,所述安装板与阳极板之间通过固定螺钉固定连接。
优选的,所述放置座的内部设置有密封槽,所述密封槽的内部安装有密封垫圈,所述密封垫圈与密封槽之间通过胶粘连接。
优选的,所述安装箱外壁的一端设置有安装脚,所述安装脚与横向安装架之间通过紧固螺钉固定连接,所述推动气缸的下端设置有推动杆,所述推动杆的下端设置有固定板,所述固定板与透明密封罩之间通过固定螺栓固定连接。
优选的,所述透明密封罩的上端设置有定位安装座,所述定位安装座的上方安装有定位滑杆,所述定位滑杆与定位安装座之间通过六角螺钉固定连接,所述横向安装架的内部设置有限位槽,所述定位滑杆的一端穿过限位槽并延伸至限位槽的外部。
优选的,所述冷却装置箱的上端设置有安装座,所述安装座与透明密封罩之间通过安装螺钉固定连接,所述冷却装置箱的一端设置有进水座,所述进水座的一侧安装有进水管,所述进水管的一端与进水装置相连通,所述进水座的下端设置有回流座,所述回流座的一侧安装有回流管,所述回流管的一端与进水装置相连通。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,通过将需要镀膜的产品放置在放置台的上方,然后通过打开推动气缸,使推动杆推动透明密封罩向下移动,通过安装的定位滑杆,能够使透明密封罩沿着定位滑杆的方向竖直向下移动,使透明密封罩的下端位于密封槽的内部且与密封垫圈上端相接触,这样能够提高透明密封罩与放置座之间的密封效果更好,然后通过打开抽真空泵,使抽真空泵将透明密封罩内部的空气进行抽出,然后通过打开该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置使靶材离子通过阴极板和阳极板的作用被附在产品的表面,从而完成对产品进行镀膜,在进行镀膜的时候,通过打开电动气缸,使伸缩杆推动阳极板向上移动,这样能够对溅射距离进行调整,从而能够更好的对放置的产品进行覆膜处理。
2.该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,通过将冷却水从进水管经过进水座通入到冷却装置箱的内部,这样能够方便的对该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置进行冷却,通过氮气瓶将氮气从氮气进入座通入到透明密封罩的内部,这样能够方便排出空气,从而能够更好的对产品进行镀膜。
附图说明
图1为本实用新型的整体主视图;
图2为本实用新型的放置座俯视图;
图3为本实用新型的图1的A区局部放大图;
图4为本实用新型的图1的B区局部放大图。
图中:1、镀膜装置底座;2、固定脚;3、控制装置;301、显示屏;4、放置座;401、密封槽;5、电动气缸;501、伸缩杆;502、安装板;6、阳极板;7、固定螺钉;8、放置台;9、密封垫圈;10、竖向安装架;11、横向安装架;1101、限位槽;12、安装箱;1201、安装脚;13、紧固螺钉;14、推动气缸;1401、推动杆;1402、固定板;15、透明密封罩;1501、定位安装座;16、固定螺栓;17、定位滑杆;18、六角螺钉;19、冷却装置箱;1901、安装座;1902、进水座;1903、回流座;20、安装螺钉;21、进水管;22、回流管;23、进水装置;24、氮气进入座;25、抽真空座;26、抽真空管;27、抽真空泵;28、阴极板;29、靶材。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
请参阅图1-4,本实用新型提供的一种实施例:一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,包括镀膜装置底座1,镀膜装置底座1的上端设置有控制装置3,控制装置3的前端设置有显示屏301,镀膜装置底座1的上方设置有放置座4,放置座4内部的一端安装有电动气缸5,电动气缸5的上方安装有阳极板6,阳极板6的上端设置有放置台8,放置座4的一侧安装有竖向安装架10,竖向安装架10上端设置有横向安装架11,横向安装架11的一端安装有安装箱12,安装箱12的一端安装有推动气缸14,推动气缸14的下方安装有透明密封罩15,透明密封罩15的内部安装有冷却装置箱19,冷却装置箱19的下端安装有阴极板28,阴极板28的下方安装有靶材29,透明密封罩15外壁的一侧安装有进水装置23,透明密封罩15,进水装置23的下方设置有氮气进入座24,氮气进入座24的下方设置有抽真空座25,抽真空座25的一侧安装有抽真空管26,抽真空管26的一端安装有抽真空泵27。
请参阅图1,镀膜装置底座1的下方安装有固定脚2,固定脚2设置有四个,固定脚2与镀膜装置底座1之间通过螺纹连接固定,可以方便的对固定脚2与镀膜装置底座1之间进行安装固定,通过设置的固定脚2能够方便的对该种镀膜装置底座1进行支撑放置。
请参阅图1和图3,电动气缸5的上端设置有伸缩杆501,伸缩杆501的上端设置有安装板502,安装板502与阳极板6之间通过固定螺钉7固定连接,可以方便的对电动气缸5与阳极板6之间进行安装固定,通过打开电动气缸5,使伸缩杆501推动阳极板6进行移动,通过该种设置能够对溅射距离进行调节,从而能够更好的对放置的产品进行镀膜处理。
请参阅图1和图2,放置座4的内部设置有密封槽401,密封槽401的内部安装有密封垫圈9,密封垫圈9与密封槽401之间通过胶粘连接,可以使密封垫圈9与密封槽401之间的安装的更加牢固,这样透明密封罩15下端位于,密封槽401内部且与密封垫圈9相接触的时候,能够提高透明密封罩15与放置座4之间的密封效果。
请参阅图1,安装箱12外壁的一端设置有安装脚1201,安装脚1201与横向安装架11之间通过紧固螺钉13固定连接,推动气缸14的下端设置有推动杆1401,推动杆1401的下端设置有固定板1402,固定板1402与透明密封罩15之间通过固定螺栓16固定连接,可以方便的对安装箱12进行安装固定,可以方便的对推动气缸14与透明密封罩15之间进行安装固定,通过打开推动气缸14能够使推动杆1401推动透明密封罩15向下移动,这样能够方便的使透明密封罩15下端位于放置座4的内部。
请参阅图1,透明密封罩15的上端设置有定位安装座1501,定位安装座1501的上方安装有定位滑杆17,定位滑杆17与定位安装座1501之间通过六角螺钉18固定连接,横向安装架11的内部设置有限位槽1101,定位滑杆17的一端穿过限位槽1101并延伸至限位槽1101的外部,可以方便的对定位滑杆17与定位安装座1501之间进行安装固定,通过设置的定位滑杆17能够使透明密封罩15进行移动的时候,能够沿着定位滑杆17的方向进行竖直移动,这样能够使透明密封罩15能够定位进行移动。
请参阅图1和图4,冷却装置箱19的上端设置有安装座1901,安装座1901与透明密封罩15之间通过安装螺钉20固定连接,冷却装置箱19的一端设置有进水座1902,进水座1902的一侧安装有进水管21,进水管21的一端与进水装置23相连通,进水座1902的下端设置有回流座1903,回流座1903的一侧安装有回流管22,回流管22的一端与进水装置23相连通,可以方便的对冷却装置箱19与透明密封罩15之间进行安装固定,通过设置有冷却装置箱19能够对该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置进行水冷。
工作原理:使用时,通过将需要镀膜的产品放置在放置台8的上方,然后通过打开推动气缸14,使推动杆1401推动透明密封罩15向下移动,通过安装的定位滑杆17,能够使透明密封罩15沿着定位滑杆17的方向竖直向下移动,使透明密封罩15的下端位于密封槽401的内部且与密封垫圈9上端相接触,这样能够提高透明密封罩15与放置座4之间的密封效果更好,然后通过打开抽真空泵27,使抽真空泵27将透明密封罩15内部的空气进行抽出,再通过氮气瓶将氮气从氮气进入座24通入到透明密封罩15的内部,然后通过打开该种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置使靶材29离子通过阴极板28和阳极板6的作用被附在产品的表面,从而完成对产品进行镀膜,在进行镀膜的时候,通过打开电动气缸5,使伸缩杆501推动阳极板6向上移动,这样能够对溅射距离进行调整,从而能够更好的对放置的产品进行覆膜处理。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (7)

1.一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,包括镀膜装置底座(1),其特征在于:所述镀膜装置底座(1)的上端设置有控制装置(3),所述控制装置(3)的前端设置有显示屏(301),所述镀膜装置底座(1)的上方设置有放置座(4),所述放置座(4)内部的一端安装有电动气缸(5),所述电动气缸(5)的上方安装有阳极板(6),所述阳极板(6)的上端设置有放置台(8),所述放置座(4)的一侧安装有竖向安装架(10),所述竖向安装架(10)上端设置有横向安装架(11),所述横向安装架(11)的一端安装有安装箱(12),所述安装箱(12)的一端安装有推动气缸(14),所述推动气缸(14)的下方安装有透明密封罩(15),所述透明密封罩(15)的内部安装有冷却装置箱(19),所述冷却装置箱(19)的下端安装有阴极板(28),所述阴极板(28)的下方安装有靶材(29),所述透明密封罩(15)外壁的一侧安装有进水装置(23),所述透明密封罩(15),所述进水装置(23)的下方设置有氮气进入座(24),所述氮气进入座(24)的下方设置有抽真空座(25),所述抽真空座(25)的一侧安装有抽真空管(26),所述抽真空管(26)的一端安装有抽真空泵(27)。
2.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述镀膜装置底座(1)的下方安装有固定脚(2),所述固定脚(2)设置有四个,所述固定脚(2)与镀膜装置底座(1)之间通过螺纹连接固定。
3.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述电动气缸(5)的上端设置有伸缩杆(501),所述伸缩杆(501)的上端设置有安装板(502),所述安装板(502)与阳极板(6)之间通过固定螺钉(7)固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述放置座(4)的内部设置有密封槽(401),所述密封槽(401)的内部安装有密封垫圈(9),所述密封垫圈(9)与密封槽(401)之间通过胶粘连接。
5.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述安装箱(12)外壁的一端设置有安装脚(1201),所述安装脚(1201)与横向安装架(11)之间通过紧固螺钉(13)固定连接,所述推动气缸(14)的下端设置有推动杆(1401),所述推动杆(1401)的下端设置有固定板(1402),所述固定板(1402)与透明密封罩(15)之间通过固定螺栓(16)固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述透明密封罩(15)的上端设置有定位安装座(1501),所述定位安装座(1501)的上方安装有定位滑杆(17),所述定位滑杆(17)与定位安装座(1501)之间通过六角螺钉(18)固定连接,所述横向安装架(11)的内部设置有限位槽(1101),所述定位滑杆(17)的一端穿过限位槽(1101)并延伸至限位槽(1101)的外部。
7.根据权利要求1所述的一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,其特征在于:所述冷却装置箱(19)的上端设置有安装座(1901),所述安装座(1901)与透明密封罩(15)之间通过安装螺钉(20)固定连接,所述冷却装置箱(19)的一端设置有进水座(1902),所述进水座(1902)的一侧安装有进水管(21),所述进水管(21)的一端与进水装置(23)相连通,所述进水座(1902)的下端设置有回流座(1903),所述回流座(1903)的一侧安装有回流管(22),所述回流管(22)的一端与进水装置(23)相连通。
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