CN219483250U - 一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其包括涂膜板，所述涂膜板的四周边缘开设有固定孔，所述涂膜板上设置有位于中间的大刮涂区和位于大刮涂区两侧的刮刀固定区，所述大刮涂区至少包括两个并列设置的小刮涂区，位于每个所述小刮涂区内的所述涂膜板的上表面均开设有多个真空吸孔，相邻两个所述小刮涂区之间的所述涂膜板的上表面均开设有第一凹槽，位于所述大刮涂区两侧的所述涂膜板的上表面开设有第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽并列设置。其可以保证每次刮涂的多张极片的厚度保持一致，多张极片也可以通过上腔加热装置一次性进行烘烤，从而使得溶剂挥发过程也趋于一致，使得极片的一致性大幅度提高。

Description

一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置

技术领域

本实用新型涉及一种极片涂布设备技术领域，更具体地说，涉及一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置。

背景技术

现有的平面涂膜机一般一次只能放置一张箔材，刮涂时就只能刮涂一张极片，实验室经常要对同种材料的多张极片进行测试，实验时一般要求要做到三张极片以上，也就是每次都要进行三次以上的刮涂才能完成测试，但是由于系统误差的原因，每次极片的刮涂厚度会存在一定差异，无法保证每次刮涂的厚度一样，另外由于平面涂膜机一般采用上腔加热装置，三张极片的三次烘烤过程的溶剂挥发过程也存在一定的差异。因此，极片的不同刮涂厚度以及不同烘烤过程都会对测试结果存在一定的影响，从而使得极片的一致性降低。现有的平面涂膜机无法满足特定的实验室测试要求，使得平面涂膜机的竞争力降低，不能满足企业日益增长的特定需求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是如何使得平面涂膜装置避免多次刮涂测试而造成刮涂厚度差异，避免对多张极片的测试结果造成影响，提高实验室极片测试时的一致性。

其设置多少个小刮涂区就可以一次性刮涂多少张极片，其使得实验的效率大幅度增加，而第一凹槽和第二凹槽可以流入多余的浆料，其可以保证每次刮涂的多张极片的厚度保持一致，多张极片也可以通过上腔加热装置一次性进行烘烤，从而使得溶剂挥发过程也趋于一致，使得极片的一致性大幅度提高，提高实验结果的准确性。进而使得平面涂膜装置的竞争力提高，以此满足企业日益增长的特定需求。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其包括涂膜板，所述涂膜板的四周边缘开设有固定孔，所述涂膜板上设置有位于中间的大刮涂区和位于大刮涂区两侧的刮刀固定区，所述大刮涂区至少包括两个并列设置的小刮涂区，位于每个所述小刮涂区内的所述涂膜板的上表面均开设有多个真空吸孔，相邻两个所述小刮涂区之间的所述涂膜板的上表面均开设有第一凹槽，位于所述大刮涂区两侧的所述涂膜板的上表面开设有第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽并列设置。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述第一凹槽和第二凹槽的尖角处均设置有圆倒角。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述第一凹槽和第二凹槽的宽度大于等于10mm，所述第一凹槽和第二凹槽的深度为2mm-5mm。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述第一凹槽和第二凹槽的横截面形状为半圆形。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，每个所述小刮涂区的宽度大于等于25mm，所述刮刀固定区的宽度大于等于8mm。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述真空吸孔的直径为0.2mm至0.25mm，每个真空吸孔之间的间距为5mm-10mm。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述小刮涂区有三个。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述涂膜板的形状为方形，所述固定孔有四个，四个所述固定孔分别布设于所述涂膜板的四个顶点边缘。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述固定孔为螺纹孔。

作为本实用新型提供的所述提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的一种优选实施方式，所述刮刀固定区上固定有刮刀和移动棒。

本实用新型具有如下有益效果：

由于涂膜板的四周边缘开设有固定孔，固定孔可以用于固定涂膜板，且由于涂膜板上设置有大刮涂区和刮刀固定区，大刮涂区位于涂膜板的上表面的中间部分，刮刀固定区则位于大刮涂区的两侧，其中刮刀固定区用于固定刮刀和移动棒，而大刮涂区则包括至少两个并列设置的小刮涂区，每个小刮涂区均可以放置一张极片，涂膜板的上表面开设的真空吸孔可以用于将极片吸附后进行固定，第一凹槽和第二凹槽则可以用于盛装刮涂过程中多余的浆料，刮涂过程中多余的浆料随着刮刀的移动而流入第一凹槽和第二凹槽处，以此避免因为浆料堆积而影响刮涂极片厚度的一致性。设置多少个小刮涂区就可以一次性刮涂多少张极片，其使得实验的效率大幅度增加，而第一凹槽和第二凹槽可以流入多余的浆料，其可以保证每次刮涂的多张极片的厚度保持一致，多张极片也可以通过上腔加热装置一次性进行烘烤，从而使得溶剂挥发过程也趋于一致，使得极片的一致性大幅度提高，提高实验结果的准确性。进而使得平面涂膜装置的竞争力提高，以此满足企业日益增长的特定需求。

附图说明

为了更清楚地说明本申请中的方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一个简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置的结构示意图。

图2为图1中A-A处的剖视结构示意图。

图3为实施例2的结构示意图。

图4为图3的改进结构示意图。

附图标号说明：

涂膜板1；固定孔2；大刮涂区100；刮刀固定区200；小刮涂区101；真空吸孔3；第一凹槽4；第二凹槽5。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本实用新型提供了一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其包括涂膜板，所述涂膜板的四周边缘开设有固定孔，所述涂膜板上设置有位于中间的大刮涂区和位于大刮涂区两侧的刮刀固定区，所述大刮涂区至少包括两个并列设置的小刮涂区，位于每个所述小刮涂区内的所述涂膜板的上表面均开设有多个真空吸孔，相邻两个所述小刮涂区之间的所述涂膜板的上表面均开设有第一凹槽，位于所述大刮涂区两侧的所述涂膜板的上表面开设有第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽并列设置。

由于涂膜板的四周边缘开设有固定孔，固定孔可以用于固定涂膜板，且由于涂膜板上设置有大刮涂区和刮刀固定区，大刮涂区位于涂膜板的上表面的中间部分，刮刀固定区则位于大刮涂区的两侧，其中刮刀固定区用于固定刮刀和移动棒，而大刮涂区则包括至少两个并列设置的小刮涂区，每个小刮涂区均可以放置一张极片，涂膜板的上表面开设的真空吸孔可以用于将极片吸附后进行固定，第一凹槽和第二凹槽则可以用于盛装刮涂过程中多余的浆料，刮涂过程中多余的浆料随着刮刀的移动而流入第一凹槽和第二凹槽处，以此避免因为浆料堆积而影响刮涂极片厚度的一致性。设置多少个小刮涂区就可以一次性刮涂多少张极片，其使得实验的效率大幅度增加，而第一凹槽和第二凹槽可以流入多余的浆料，其可以保证每次刮涂的多张极片的厚度保持一致，多张极片也可以通过上腔加热装置一次性进行烘烤，从而使得溶剂挥发过程也趋于一致，使得极片的一致性大幅度提高，提高实验结果的准确性。进而使得平面涂膜装置的竞争力提高，以此满足企业日益增长的特定需求。

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

实施例1

请参阅图1和图2，为本实用新型提供的一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其包括涂膜板1，本实施例中，涂膜板1的形状为方形，涂膜板1的四周边缘开设有固定孔2，固定孔2有四个，四个固定孔2分别布设于涂膜板1的四个顶点边缘，固定孔2为螺纹孔，涂膜板1上设置有大刮涂区100和刮刀固定区200，大刮涂区100位于涂膜板1的上表面的中间部分，刮刀固定区200位于大刮涂区100两侧，大刮涂区100至少包括两个并列设置的小刮涂区101，在本实施例中，小刮涂区101有三个，在其他实施例中，可以根据特定实验要求确定小刮涂区101的数量，位于每个小刮涂区101内的涂膜板1的上表面均开设有多个真空吸孔3，相邻两个小刮涂区101之间的涂膜板1的上表面均开设有第一凹槽4，位于大刮涂区100两侧的涂膜板1的上表面开设有第二凹槽5，第一凹槽4和第二凹槽5并列设置。

由于涂膜板1的四周边缘开设有固定孔2，固定孔2可以用于固定涂膜板1，且由于涂膜板1上设置有大刮涂区100和刮刀固定区200，大刮涂区100位于涂膜板1的上表面的中间部分，刮刀固定区200则位于大刮涂区100的两侧，其中刮刀固定区200用于固定刮刀和移动棒，而大刮涂区100则包括至少两个并列设置的小刮涂区101，每个小刮涂区101均可以放置一张极片，涂膜板1的上表面开设的真空吸孔3可以用于将极片吸附后进行固定，第一凹槽4和第二凹槽5则可以用于盛装刮涂过程中多余的浆料，刮涂过程中多余的浆料随着刮刀的移动而流入第一凹槽4和第二凹槽5处，以此避免因为浆料堆积而影响刮涂极片厚度的一致性。设置多少个小刮涂区101就可以一次性刮涂多少张极片，其使得实验的效率大幅度增加，而第一凹槽4和第二凹槽5可以流入多余的浆料，其可以保证每次刮涂的多张极片的厚度保持一致，多张极片也可以通过上腔加热装置一次性进行烘烤，从而使得溶剂挥发过程也趋于一致，使得极片的一致性大幅度提高，提高实验结果的准确性。进而使得平面涂膜装置的竞争力提高，以此满足企业日益增长的特定需求。

进一步地，第一凹槽4和第二凹槽5的宽度大于等于10mm，第一凹槽4和第二凹槽5的深度为2mm-5mm。

进一步地，每个小刮涂区101的宽度大于等于25mm，刮刀固定区200的宽度大于等于8mm，刮涂过程中刮刀底面在刮刀固定区200的表面左右滑动。

进一步地，真空吸孔3的直径为0.2mm至0.25mm，每个真空吸孔3之间的间距为5mm-10mm。

实施例2

请参阅图3，作为实施例1的进一步优化方案，本实施例与实施例1的区别之处在于，第一凹槽4和第二凹槽5的尖角处均设置有圆倒角，以方便实验完成后对实验室平面涂膜装置进行清洗擦拭。

请参阅图4，更优地，第一凹槽4和第二凹槽5的横截面形状为半圆形，进一步方便实验完成后对实验室平面涂膜装置进行清洗擦拭。

实施例3

作为实施例1的进一步优化方案，本实施例与实施例1的区别之处在于，刮刀固定区200上固定有刮刀和移动棒，移动棒用于带动刮刀移动，刮刀用于将浆料涂抹均匀。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

显然，以上所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例，附图中给出了本申请的较佳实施例，但并不限制本申请的专利范围。本申请可以以许多不同的形式来实现，相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来而言，其依然可以对前述各具体实施方式所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等效替换。凡是利用本申请说明书及附图内容所做的等效结构，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理在本申请专利保护范围之内。

Claims (10)

1.一种提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，其包括涂膜板(1)，所述涂膜板(1)的四周边缘开设有固定孔(2)，所述涂膜板(1)上设置有位于中间的大刮涂区(100)和位于大刮涂区(100)两侧的刮刀固定区(200)，所述大刮涂区(100)至少包括两个并列设置的小刮涂区(101)，位于每个所述小刮涂区(101)内的所述涂膜板(1)的上表面均开设有多个真空吸孔(3)，相邻两个所述小刮涂区(101)之间的所述涂膜板(1)的上表面均开设有第一凹槽(4)，位于所述大刮涂区(100)两侧的所述涂膜板(1)的上表面开设有第二凹槽(5)，所述第一凹槽(4)和所述第二凹槽(5)并列设置。

2.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述第一凹槽(4)和第二凹槽(5)的尖角处均设置有圆倒角。

3.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述第一凹槽(4)和第二凹槽(5)的宽度大于等于10mm，所述第一凹槽(4)和第二凹槽(5)的深度为2mm-5mm。

4.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述第一凹槽(4)和第二凹槽(5)的横截面形状为半圆形。

5.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，每个所述小刮涂区(101)的宽度大于等于25mm，所述刮刀固定区(200)的宽度大于等于8mm。

6.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述真空吸孔(3)的直径为0.2mm至0.25mm，每个真空吸孔(3)之间的间距为5mm-10mm。

7.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述小刮涂区(101)有三个。

8.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述涂膜板(1)的形状为方形，所述固定孔(2)有四个，四个所述固定孔(2)分别布设于所述涂膜板(1)的四个顶点边缘。

9.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述固定孔(2)为螺纹孔。

10.根据权利要求1所述的提高极片一致性的实验室平面涂膜装置，其特征在于，所述刮刀固定区(200)上固定有刮刀和移动棒。