CN219449857U - 一种真空镀膜设备观察窗辅助机构 - Google Patents

Abstract

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，包括离化装置和吸附装置，离化装置包括高压正极和高压负极，高压正极和高压负极相对设置；吸附装置用于吸附离化出来的离子和电子。本申请具有减少颗粒附着在观察窗上的效果。

Description

一种真空镀膜设备观察窗辅助机构

技术领域

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜设备观察窗辅助机构。

背景技术

真空镀膜工艺通常会在高温、高真空环境下，于镀膜腔室内部通过PVD或CVD等方法在工件表面实现镀膜；真空镀膜设备的镀膜腔室室壁上设置有观察窗，工作人员可通过观察窗观察镀膜腔室内的镀膜情况和部件运行情况。由于PVD和CVD工艺会产生大量颗粒，颗粒会漂浮到观察窗并沉积在其上，导致观察窗需要经常清洗维护或者更换，增加工作量和成本。

相关技术中通过在观察窗前增加长筒或其它遮挡机构，减少颗粒飘过来的概率。针对上述中的相关技术，增加遮挡机构的方式，只能起到延缓被镀膜的作用，无法完全避免，同时还影响观察窗的视野范围和清晰度。

实用新型内容

本申请的目的是提供一种真空镀膜设备观察窗辅助机构用于减少颗粒附着在观察窗上。

本申请提供的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构采用如下的技术方案：

一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，包括离化装置和吸附装置，所述离化装置包括高压正极和高压负极，所述高压正极和所述高压负极相对设置；

所述吸附装置用于吸附离化出来的离子和电子。

相关技术通常采用两种方式延长观察窗被镀上的时间。第一种方式是通过在观察窗前增加长筒或其它遮挡机构，减少颗粒飘过来的概率。另一种方式是在观察窗前增加吹气机构，将颗粒吹开；加遮挡机构的方式，只能起到延缓被镀膜的作用，效果较差，同时还影响观察窗的视野范围和清晰度。而增加吹气机构的方式，会对工艺气场产生一定的影响。CVD和PVD的气场直接影响工艺机构，同时吹气还可能带来不需要的原子沉积在工件上。

通过采用上述技术方案，在颗粒向观察窗飘散过来时，使用高压正极和高压负极使颗粒进行离化，从而使颗粒离化呈离子和电子，再通过吸附装置吸附离子和电子，从而减少颗粒附着在观察窗上的可能性，减少了观察窗清洗维护或者更换的次数，减少了工作量和维护成本。

可选的，所述吸附装置包括离子吸附组件和电子吸附组件，所述离子吸附组件包括低压负极，所述低压负极用于吸附离子。

通过采用上述技术方案，通过低压负极对离子进行吸附，从而减少了离子飘散到观察窗上的情况发生，进而减少了观察窗需要清洗维护或者更换的次数，减少了工作量和维护成本。

可选的，所述低压负极有若干个，若干所述低压负极位于观察窗两侧。

采用一个低压负极去吸附离子，若低压负极放置在观察窗中间，吸附离子效果好，但影响观察窗的使用，若低压负极放置在观察窗一侧，则对于观察窗另一侧的电子吸附效果较弱，在通过采用上述技术方案，采用多个低压负极对电子进行吸附，从而增加了对电子吸附的效果，减少了电子附着在观察窗上的可能性，进一步减少了观察窗需要清洗维护或者更换的次数，减少了工作量和维护成本。

可选的，所述高压正极和所述高压负极位于两个所述低压负极之间。

在颗粒被离化后，形成的离子和电子可能会向高压正极和高压负极的两侧飘散，若两个低压负极位于高压正极与高压负极之间时，向两侧飘散的离子则容易吸附到观察窗上，通过采用上述技术方案，使高压正极与高压负极位于两个低压负极之间，减少了离子飘离低压负极吸附范围的可能性，进而进一步增加了对离子的吸附效果，从而减少了观察窗被附着的可能性。

可选的，所述电子吸附组件包括用于固定观察窗的法兰，所述法兰能够吸附电子，所述低压负极设置在所述法兰与所述离化装置之间。

通过采用上述技术方案，通过固定安装窗的法兰去吸附电子，进而不需要额外设置其他的机构去吸附电子，简化了真空镀膜设备观察窗辅助机构的结构，节约了成本。

可选的，所述电子吸附组件还包括低压正极，所述低压正极与所述法兰电连接。

通过采用上述技术方案，使法兰与低压正极电连接，从而使法兰带正电，进而进一步提高了法兰对电子的吸附能力，进一步减少了电子附着在观察窗上的可能性，进一步减少了观察窗需要清洗更换的次数。

可选的，所述法兰上固定连接有绝缘垫。

对法兰通电后，或法兰吸附电子后，法兰上带电，当工作人员接触法兰时，容易对工作人员造成伤害，通过采用上述技术方案，在法兰上固定连接绝缘垫，减少工作人员与法兰的直接接触，从而增加了工作人员工作过程中的安全程度，减少了工作人员受伤的可能性。

可选的，所述绝缘垫包括第一绝缘部和第二绝缘部，所述第一绝缘部绕所述法兰外周壁一圈设置，所述第二绝缘部连接在所述法兰远离所述低压负极的端面上。

通过采用上述技术方案，通过第一绝缘部将法兰侧壁包裹，第二绝缘部将法兰端面包裹，从而将法兰裸露在空气中的部位全部包裹，进而减少了法兰裸露在空气中的面积，从而减少了工作人员与法兰的直接接触，从而减少了工作人员因为触摸法兰而造成伤害的可能性，增加了工作人员工作的安全程度。而且也使真空腔体与法兰进行绝缘，减少了真空腔体在运转过程中发生短路的可能性。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.在颗粒向观察窗飘散过来时，使用高压正极和高压负极使颗粒进行离化，从而使颗粒离化呈离子和电子，再通过吸附装置吸附离子和电子，从而减少颗粒附着在观察窗上的可能性，减少了观察窗清洗维护或者更换的次数，减少了工作量和维护成本；

2.使高压正极与高压负极位于两个低压负极之间，减少了离子飘离低压负极吸附范围的可能性，进而进一步增加了对离子的吸附效果，从而减少了观察窗被附着的可能性；

3.使法兰与低压正极电连接，从而使法兰带正电，进而进一步提高了法兰对电子的吸附能力，进一步减少了电子附着在观察窗上的可能性，进一步减少了观察窗需要清洗更换的次数。

附图说明

图1是本申请实施例1一种真空镀膜设备观察窗辅助机构的整体结构示意图。

图2是本申请实施例2一种真空镀膜设备观察窗辅助机构的整体结构示意图。

图3是本申请实施例法兰与密封垫的结构示意图。

图中，1、离化装置；11、高压正极；12、高压负极；

2、吸附装置；21、离子吸附组件；211、低压负极；22、电子吸附组件；221、法兰；222、低压正极；

3、绝缘垫；31、第一绝缘部；32、第二绝缘部；

4、观察窗。

具体实施方式

以下结合附图1-附图3，对本申请作进一步详细说明。

实施例1：

镀膜设备包括真空腔体和安装在真空腔体上的观察窗4，镀膜设备可以是应用于PVD或CVD的镀膜设备。观察窗4上安装有一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，参照图1，一种真空镀膜设备观察窗辅助机构包括离化装置1和吸附装置2，离化装置1包括高压正极11和高压负极12，高压正极11和高压负极12相对设置，高压正极11和高压负极12均设置在真空腔体内；吸附装置2用于吸附离化出来的离子和电子。

吸附装置2包括离子吸附组件21和电子吸附组件22，离子吸附组件21包括低压负极211，低压负极211用于吸附离子。低压负极211有若干个，本实施例中低压负极211有两个，两个低压负极211相互对称设置且均设置在真空腔体内。在其他实施例中低压负极有若干个，绕观察窗4一周设置。

高压正极11和高压负极12位于两个低压负极211之间。电子吸附组件22包括用于固定观察窗4的法兰221，法兰221固定连接在真空腔体上，观察窗4固定连接在法兰221上，法兰221采用金属材料制成且能够吸附电子，低压负极211设置在法兰221与离化装置1之间。高压正极11和高压负极12分别位于法兰221的两侧。

本申请实施例1的实施原理为：在进行镀膜的过程中，例如在镀铜工艺中，先向高压电极通入1000V以上的直流或中高频交流电，向低压负极通入几十V到200V的直流电，当铜原子飘向观察窗4时，向观察窗4飘散过来的铜原子，在经过高压正极11与高压负极12之间时，在高压正极11和高压负极12的作用下被离化，从而使铜原子离化呈带正电的铜离子和带负电的电子。

铜离子和电子继续向观察窗4处飘散，在经过两个低压负极211之间时，铜离子被两个低压负极211吸附，减少铜离子附着在观察窗4上的可能性。而电子则继续向观察窗4处飘散，当靠近法兰221时，电子被法兰221吸附，从而减少电子吸附在观察窗4上的可能性，进而减少了铜原子附着在观察窗4上的可能性，进而减少了观察窗4的清洗和更换的次数。

实施例2：

本实施例2与实施例1的结构大致相同，其不同之处在于对电子吸附组件22的改进。

参照图2和图3，电子吸附组件22还包括低压正极222，低压正极222与法兰221电连接。本实施例中低压正极222可与法兰221直接连接，在其他实施例中低压正极222可缠绕法兰221一周，从而增加法兰221上电流的分布均匀度。法兰221上固定连接有绝缘垫3。绝缘垫3包括第一绝缘部31和第二绝缘部32，第一绝缘部31绕法兰221外周壁一圈设置且设置在真空腔体与法兰221之间，第二绝缘部32连接在法兰221远离低压负极211的端面上并将法兰221端面全部包裹。

本申请实施例2的实施原理为：使低压正极222与法兰221电连接，从而使法兰221带正电，增加了法兰221对电子的吸引力，从而进一步减少了电子附着在观察窗4上的可能性。而法兰221带正电，为了工作人员的工作安全，使用第一绝缘部31和第二绝缘部32将法兰221包裹，减少法兰221直接与工作人员的直接接触，保障工作人员工作安全。

本具体实施方式的实施例均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，其中相同的零部件用相同的附图标记表示。故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，包括离化装置（1）和吸附装置（2），所述离化装置（1）包括高压正极（11）和高压负极（12），所述高压正极（11）和所述高压负极（12）相对设置；

所述吸附装置（2）用于吸附离化出来的离子和电子。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述吸附装置（2）包括离子吸附组件（21）和电子吸附组件（22），所述离子吸附组件（21）包括低压负极（211），所述低压负极（211）用于吸附离子。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述低压负极（211）有若干个，若干所述低压负极（211）位于观察窗（4）两侧。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述高压正极（11）和所述高压负极（12）位于两个所述低压负极（211）之间。

5.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述电子吸附组件（22）包括用于固定观察窗（4）的法兰（221），所述法兰（221）能够吸附电子，所述低压负极（211）设置在所述法兰（221）与所述离化装置（1）之间。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述电子吸附组件（22）还包括低压正极（222），所述低压正极（222）与所述法兰（221）电连接。

7.根据权利要求5或6所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述法兰（221）上固定连接有绝缘垫（3）。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜设备观察窗辅助机构，其特征在于，所述绝缘垫（3）包括第一绝缘部（31）和第二绝缘部（32），所述第一绝缘部（31）绕所述法兰（221）外周壁一圈设置，所述第二绝缘部（32）连接在所述法兰（221）远离所述低压负极（211）的端面上。