CN219424807U - 一种直径可调式匀胶机承片盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种直径可调式的匀胶机夹盘，包括圆形的承片盘主体和匀胶机旋转轴，其特征在于：它还包括3根可拆卸地安装在承片盘主体外圆面上的拓长臂；所述的拓长臂上设有可沿承片盘主体径向方向滑动的支撑座；所述的支撑座设有定位面和挡沿；所述的支撑座的定位面处于同一水平面上且与承片盘主体的承片面共面。采用本实用新型进行光刻胶旋涂时，可以针对不同尺寸的基片进行旋涂，且旋涂时无需对承片盘进行更换，操作简便快捷。采用拓长臂设计，减少需要制作的承片盘数量，降低工艺成本。与常规承片盘所使用的盘型结构外沿固定相比，更有利于多余光刻胶的甩出，且承片盘质量轻，转动惯量较低，无需大功率驱动，装备成本几乎无需增加。

Description

一种直径可调式匀胶机承片盘

技术领域

本实用新型属于匀胶机设备领域，具体涉及一种直径可调式匀胶机承片盘。

背景技术

在半导体器件加工过程中，有许多制程需要在基底上涂敷光刻胶薄膜。例如，在用于电铸精细图案的光刻制程中，首先需要在基板上形成光致抗蚀剂的光敏聚合物（或光刻胶）膜。制备光刻胶薄膜的常用方法是旋涂法。

现有的光刻胶匀胶台普遍采用真空吸片的方式吸住基片，如申请号为CN201310686050.5的专利提出的一种匀胶机托盘结构。但是，这种匀胶机承片盘存在质量较大，更换不便、可装夹尺寸不灵活，无法适应不同尺寸的基片的装夹等问题，尤其是难以胜任较大直径的基片的光刻胶旋涂工作。如直接把承片盘尺度放大，会导致质量加重，成本增加，且适用性偏低（一个尺寸规格对应一个尺寸规格的基片或基底）。基于此，本实用新型提出了一种直径大小可调式匀胶机承片盘，以能只需一个承片盘便可适应不同直径基片的应用需求。

实用新型内容

本实用新型目的在于提供一种直径大小可调的匀胶机承片盘结构，只需一个承片盘便可适应不同直径基片的应用需求。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是。

一种直径可调式匀胶机承片盘，包括圆形的承片盘主体和匀胶机旋转轴，其特征在于：它还包括3根可拆卸地安装在承片盘主体外圆面上的拓长臂；所述的拓长臂上设有可沿承片盘主体径向方向滑动的支撑座；所述的支撑座设有定位面和挡沿；所述的支撑座的定位面处于同一水平面上且与承片盘主体的承片面共面；所述的支撑座可锁紧地固定于拓长臂上；所述的拓长臂上设有标示长度数值的刻度线。

所述的承片盘主体可拆卸地密封固定地匀胶机旋转轴上。

所述的3根拓长臂几何大小与形状都相同，均是由铝合金、镁合金、钛合金等轻质金属材料制成。作为优选，所述的3根拓长臂采用铝合金材料制成。

所述的拓长臂等圆心角地安设在承片盘主体上。

所述的拓长臂的总长度为5~15cm。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点。

（1）操作便捷，适用性强。常规的匀胶机承片盘受承片盘固有尺寸的制约，难以适应不同尺寸的基片。对不同尺寸基片进行旋涂时只能不断更换不同尺寸的承片盘，且承片盘的更换常常较为麻烦，自由制造能力受到极大制约。采用本实用新型进行光刻胶旋涂时，由于可以调整承片盘直径，针对不同尺寸的基片进行旋涂时无需对承片盘进行更换，操作十分简便快捷。

（2）降低工艺成本。由于常规承片盘采用真空吸片的模式固定基片，需使用和基片尺寸相等或稍大的盘型结构作为承片盘主体，使用材料量较大，且针对不同尺寸的基片常常需要制作多个对应尺寸的承片盘。本实用新型采用拓长臂设计，大大减少了需要制作的承片盘数量，降低了工艺成本。同时，本实用新型由于采用拓长臂对基片进行固定，与常规承片盘所使用的大尺寸整体式盘型结构外沿固定相比，更有利于多余光刻胶的甩出，且承片盘质量轻，转动惯量较低，无需大功率驱动，装备成本几乎无需增加。

附图说明

图1是本实用新型未夹持基片时的结构示意图。

图2是本实用新型夹持较小尺寸基片的工作示意图。

图3是本实用新型夹持较大尺寸基片的工作示意图。

图中标号及名称：1、承片盘主体；2、匀胶机转轴；3、拓长臂；4、支撑座；5、定位面；6、挡沿；7、刻度线； 8、真空吸片槽；9、锁紧螺钉；10、基片。

具体实施方式

下面结合附图以及具体实施例对本实用新型作进一步的说明。

本实用新型所述的直径可调式匀胶机承片盘，承片盘主体1及拓长臂3采用铝合金制成，拓长臂3长度为10cm，拓长臂3数量为三个且均布于承片盘主体1周向，拓长臂3上设有可沿承片盘主体1径向方向滑动的支撑座4，支撑座4设有定位面5和挡沿6，定位面5面与承片盘主体1承片面共面，挡沿6高度高于承片面0.3mm，支撑座4可通过拓长臂3上的锁紧螺钉9固定于拓长臂3上，所述的拓长臂3上设有标示长度数值的刻度线7。

采用本实用新型直径可调式匀胶机承片盘的实施方式如下。

如图1、图2、图3所示，将匀胶机承片盘主体1安装于匀胶机转轴2上，承片盘主体1与匀胶机转轴2上的传动机构配合。调整三个支撑座4的位置，使支撑座4距离承片盘主体1回转中心的距离大于基片10半径。将基片10放置于承片盘主体1的承片面上。对照刻度线7调整三个支撑座4位置，使支撑座4距离承片盘主体1回转中心的距离等于基片10半径，锁紧支撑座4。

打开匀胶机真空泵，使承片盘主体1上的真空吸片槽8吸紧基片10完成夹紧。启动匀胶机，然后在基片10静止或低速旋转的同时进行滴胶，其中滴胶量根据光刻胶的粘度和基片10的大小来确定，滴胶结束后，匀胶机高速旋转使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚。甩动过程中多余的光刻胶被甩出基片10。当光刻胶膜厚度达到使用要求后，关闭匀胶机，松开支撑座4，取出基片10完成加工，最终在基片10上形成厚度符合要求的光刻胶膜。

Claims (5)

1.一种直径可调式匀胶机承片盘，包括圆形的承片盘主体（1）和匀胶机旋转轴（2），其特征在于：它还包括3根可拆卸地安装在承片盘主体（1）外圆面上的拓长臂（3）；所述的拓长臂（3）上设有可沿承片盘主体（1）径向方向滑动的支撑座（4）；所述的支撑座（4）设有定位面（5）和挡沿（6）；所述的支撑座（4）的定位面（5）处于同一水平面上且与承片盘主体（1）的承片面共面；所述的支撑座（4）可锁紧地固定于拓长臂（3）上；所述的拓长臂（3）上设有标示长度数值的刻度线（7）。

2.根据权利要求1所述的匀胶机承片盘，其特征在于：所述的承片盘主体（1）可拆卸地密封固定在匀胶机旋转轴（2）上。

3.根据权利要求1所述的匀胶机承片盘，其特征在于：所述的3根拓长臂（3）的几何尺寸与形状都相同，均是由铝合金、镁合金或钛合金金属材料制成。

4.根据权利要求1所述的匀胶机承片盘，其特征在于：所述的拓长臂（3）等圆心角地安设在承片盘主体（1）上。

5.根据权利要求1所述的匀胶机承片盘，其特征在于：所述的拓长臂（3）的总长度为5-15cm。