CN219040430U - 一种硅片载具 - Google Patents

Abstract

本申请适用于太阳能电池领域，提供了一种硅片载具，包括底座、设于底座的侧台和设于侧台的第一调节机构，底座和侧台围成收容空间，收容空间用于收容硅片，第一调节机构用于驱动侧台运动以调节收容空间的大小。如此，通过第一调节结构驱动侧台运动以调节收容空间的大小，可以使得收容空间的大小与硅片的大小相适应，减少运输过程中硅片与硅片载具的相对位移，使得硅片始终位于收容空间的中央位置，从而提高镀膜的精度。

Description

一种硅片载具

优先权信息

本申请请求2021年12月20日向中国国家知识产权局提交的、专利申请号为2021232124696的专利申请的优先权和权益，并且通过参照将其全文并入此处。

技术领域

本申请属于太阳能电池技术领域，尤其涉及一种硅片载具。

背景技术

异质结太阳能电池的生产过程中，需要通过PVD工艺镀TCO薄膜。而镀TCO薄膜的生产工艺要求较高，精度要求在毫米级别且四边宽度一致，这样才能保证电池片高效且无漏电现象。

相关技术中的硅片载具的生产制造存在公差，电池片及自动化放片也存在公差，由于公差叠加到一起，故必须将硅片载具做大0.6mm。这导致硅片在传输过程中会与硅片载具发生相对位移，硅片无法始终位于硅片载具的中心。

基于此，如何减少运输过程中硅片与硅片载具的相对位移并使得硅片始终位于收容空间的中央位置，成为了亟待解决的问题。

实用新型内容

本申请提供一种硅片载具，旨在解决如何减少运输过程中硅片与硅片载具的相对位移并使得硅片始终位于收容空间的中央位置的问题。

本申请提供的硅片载具，包括：

底座；

设于所述底座的侧台，以及

设于所述侧台的第一调节机构；

所述底座和所述侧台围成收容空间；

所述收容空间用于收容硅片；

所述第一调节机构用于驱动所述侧台运动以调节所述收容空间的大小。

可选地，所述侧台包括朝向所述收容空间的第一挡板和背离所述收容空间的第一侧壁；所述第一调节机构包括第一螺钉和与所述第一螺钉配合的第一螺孔；所述第一螺孔设于所述第一挡板和所述第一侧壁之间，所述第一螺钉自所述第一挡板向所述第一侧壁穿设于所述第一螺孔，在所述第一螺孔中转动，带动所述第一挡板移动，从而调节所述收容空间的大小。

可选地，所述第一挡板与所述底座的顶面的夹角为钝角。

可选地，所述侧台设有容置空间；所述容置空间用于收容所述第一调节机构；所述容置空间的宽度为8mm-12mm，高度为3mm-7mm。

可选地，所述侧台的数量为4个，所述第一调节机构的数量为4个，每个所述侧台设有1个所述第一调节机构。

可选地，所述收容空间呈正方形，在所述第一调节机构未调小所述收容空间的情况下，所述收容空间的边长的范围为215mm-225mm。

可选地，所述硅片载具包括多个底座；多个底座之间设有镂空件；镂空件和多个所述底座围成镀膜空间；所述硅片载具还包括第二调节机构，用于驱动所述底座运动，以调节所述镀膜空间的大小。

可选地，所述底座包括朝向所述镀膜空间的第二挡板和背离所述镀膜空间的第二侧壁；所述第二调节机构包括第二螺钉和与所述第二螺钉配合的第二螺孔；所述第二螺孔设于所述第二挡板和所述第二侧壁之间，所述第二螺钉自所述第二挡板向所述第二侧壁穿设于所述第二螺孔，在所述第二螺孔中转动，带动所述地第二挡板移动，从而调节所述镀膜空间的大小。

可选地，所述镀膜空间呈正方形，在所述第二调节机构未调小所述镀膜空间的情况下，所述镀膜空间的边长的范围为205mm-210mm。

可选地，所述第二调节机构调节所述底座运动的距离范围为0-1.5mm。

本申请实施例，通过第一调节结构驱动侧台运动以调节收容空间的大小，可以使得收容空间的大小与硅片的大小相适应，减少运输过程中硅片与硅片载具的相对位移，使得硅片始终位于收容空间的中央位置，从而提高镀膜的精度。

附图说明

图1是本申请一实施例的硅片载具的结构示意图；

图2是本申请一实施例的硅片载具的结构示意图；

图3是本申请一实施例的硅片载具调节收容空间的应用场景示意图；

图4是本申请另一实施例的硅片载具的结构示意图。

主要元件符号说明：

硅片载具10、收容空间11、底座12、镀膜空间121、第二挡板123、第二侧壁124、镂空件13、侧台14、第一挡板141、第一侧壁142、容置空间143、第一调节机构16、第一螺钉161、第一螺孔162、第二调节机构18、第二螺钉181、第二螺孔182。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

本申请实施例的硅片载具，通过第一调节结构驱动侧台运动以调节收容空间的大小，可以使得收容空间的大小与硅片的大小相适应，使得硅片始终位于收容空间的中央位置。

实施例一

请参阅图1、图2和图3，本申请实施例的硅片载具10，包括底座12、设于底座12的侧台14和设于侧台14的第一调节机构16，底座12和侧台14围成收容空间11，收容空间11用于收容硅片20，第一调节机构16用于驱动侧台14运动以调节收容空间11的大小。

本申请实施例的硅片载具10，通过第一调节结构16驱动侧台14运动以调节收容空间11的大小，可以使得收容空间11的大小与硅片20的大小相适应，减少运输过程中硅片20与硅片载具10的相对位移，使得硅片20始终位于收容空间11的中央位置，从而提高镀膜的精度。

具体地，底座12的顶面和底面相互平行，多个底座12的高度均相同。如此，使得底座12可以水平地放置，并使得硅片20可以水平地放置在底座12上。

具体地，底座12和侧台14的数量均为4个，每个底座12上设有一个侧台14。如此，与硅片20通常呈正方形的形状相适应，能够更好地承托硅片20。

具体地，底座12的顶面包括朝向收容空间11的第一承托区和远离收容空间11的第二承托区，第一承托区承托硅片20，第二承托区承托侧台14。如此，通过第一承托区和第二承托区，可以在准确设置侧台14的位置的同时，为承托硅片20预留出空间。可以理解，第一调节机构16可以驱动侧台14在底座12的顶面运动，以调节第一承托区的大小，从而调节收容空间11的大小。

具体地，侧台14的第一侧壁142与底座12的第二侧壁124位于同一直线。如此，使得硅片载具10的边缘平整。

具体地，侧台14包括第一挡板141和第一侧壁142，第一侧壁142固定设于底座12，第一挡板141可活动地设于底座12，第一挡板141连接第一调节机构16，第一调节机构16带动第一挡板141移动，从而调节收容空间11的大小。在本实施例中，第一调节机构16带动第一挡板141沿底座12的顶面移动，从而调节收容空间11的大小。

如此，第一侧壁142固定设于底座12而第一调节机构16带动第一挡板141移动，在保证收容空间11可以调节的同时，使得侧台14的运动范围受到限制，不会超出第一侧壁142，避免了侧台14的运动范围过大导致干涉到周边的其他结构。

可以理解，在其他的实施例中，第一调节机构16也可带动侧台14整体沿底座12的顶面移动，从而调节收容空间11的大小。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例二

请参阅图1，在一些可选实施例中，侧台14包括朝向收容空间11的第一挡板141和背离收容空间11的第一侧壁142，第一调节机构16包括第一螺钉161和与第一螺钉161配合的第一螺孔162，第一螺孔162设于第一挡板141和第一侧壁142之间，第一螺钉161自第一挡板141向第一侧壁142穿设于第一螺孔162，第一螺钉161在第一螺孔162中转动，带动第一挡板141移动，从而调节收容空间11的大小。

如此，通过相互配合的第一螺钉161和第一螺孔162，可以简便地带动第一挡板141移动，从而调节收容空间11的大小，成本较低。

具体地，第一螺钉161可与第一挡板141固定连接。如此，保证第一螺钉161的运动能带动第一挡板141的移动。

进一步地，第一螺钉161可与第一挡板141可拆卸地连接，在第一螺钉161转动的情况下，第一螺钉161与第一挡板141分离，在第一螺钉161静止的情况下，第一螺钉161与第一挡板141连接。如此，使得第一螺钉161转动时与第一挡板141分离，避免第一挡板141干扰第一螺钉161的转动。

例如，第一螺钉161与第一挡板141卡扣式连接。第一螺钉161设有第一卡扣件，第一挡板141设有与第一卡扣件配合的第二卡扣件，在第一螺钉161转动的情况下，第一卡扣件和第二卡扣件解开，使得第一螺钉161与第一挡板141分离，在第一螺钉161静止的情况下，第一卡扣件和第二卡扣件闭合，使得第一螺钉161与第一挡板141连接。

又如，第一螺钉161与第一挡板141魔术贴式连接。第一螺钉161设有第一魔术贴，第一挡板141设有与第一魔术贴配合的第二魔术贴，在第一螺钉161转动的情况下，第一魔术贴和第二魔术贴解开，使得第一螺钉161与第一挡板141分离，在第一螺钉161静止的情况下，第一魔术贴和第二魔术贴贴合，使得第一螺钉161与第一挡板141连接。

进一步地，第一魔术贴可设于第一螺钉161的钉头朝向钉尖的一面，第二魔术贴可设于第一挡板141与第一螺钉161贴合时被第一魔术贴覆盖的区域。如此，使得第一魔术贴与第二魔术贴的贴合面积较大，从而使得第一螺钉161与第一挡板141的连接更加稳固。

具体地，第一螺孔162可形成于侧台14。例如，侧台14内部的容置空间143的内壁上形成有第一螺孔162对应的螺纹。如此，直接在侧台14的内部形成第一螺孔162对应的螺纹，无需在侧台14安装螺母，可以减少零件和成本。

具体地，第一螺孔162也可形成于第一螺母，第一螺母设于侧台14。例如，侧台14内部的容置空间143的内壁设有第一螺母，第一螺母形成有第一螺孔162对应的螺纹。如此，无需在侧台14的内部设置第一螺孔162对应的螺纹，可以减少工艺的复杂度，并保证第一螺孔162与第一螺钉161配合。

在其他的实施例中，第一调节机构16也可包括气缸、滑槽滑轨、电机、丝杆等。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例三

请参阅图1，在一些可选实施例中，第一挡板141与底座12的顶面的夹角为钝角。

如此，沿硅片20放入收容空间11的方向，收容空间11的宽度逐渐减小，既方便调节设于第一挡板141的第一螺钉161，又方便将硅片20放入收容空间。

具体地，第一挡板141与底座12的顶面的夹角的范围为120°-160°。例如为120°、122°、125°、130°、145°、150°、158°、160°。如此，使得第一挡板141的倾斜程度处于合适范围，避免倾斜程度过小导致的不方便调节螺钉161，避免倾斜程度过大导致的硅片20在运输的过程中容易从收容空间11滑出。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例四

请参阅图1和图3，在一些可选实施例中，侧台14设有容置空间143，容置空间143用于收容第一调节机构16，容置空间143的宽度w为8mm-12mm，容置空间143的高度h为3mm-7mm。

如此，在侧台14预留容置空间143，可以保证侧台14有足够的空间收容第一调节机构16。

具体地，容置空间143的宽度w例如为8mm、9mm、10mm、11mm、12mm。优选地，容置空间143的宽度w为10mm。

具体地，容置空间143的高度h的范围为3mm、4mm、5mm、6mm、7mm优选地，容置空间143的高度h为5mm。

可以理解，第一调节机构16的尺寸可小于或等于容置空间143的尺寸。例如，第一螺钉161的长度小于或等于容置空间143的宽度w；第一螺钉161的横截面的直径小于或等于容置空间143的高度h。如此，保证第一螺钉161能够被容置空间143收容。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例五

请参阅图1和图2，在一些可选实施例中，侧台14的数量为4个，第一调节机构16的数量为4个，每个侧台14设有1个第一调节机构16。

如此，可以从四边来调节收容空间11的尺寸，使得调节更加灵活，而且可以适应呈正方形的硅片20。

具体地，其中2个第一调节机构16驱动对应的侧台14运动的方向与收容空间11的宽度方向平行，其余2个第一调节机构16驱动对应的侧台14运动的方向与收容空间11的长度方向平行。如此，2个侧台14沿收容空间11的宽度方向移动，2个侧台14沿收容空间11的长度方向移动，可以直接调整收容空间11的长度和宽度。

可以理解，在其他的实施例中，也可为每两个侧台14设置一个第一调节机构16。例如，为收容空间11的宽度方向上的两个侧台14设置一个第一调节机构16，第一调节机构16驱动相对的两个侧台14彼此靠近或远离，从而使得收容空间11的宽度减小或增大；为收容空间11的长度方向上的两个侧台14设置一个第一调节机构16，第一调节机构16驱动相对的两个侧台14彼此靠近或远离，从而使得收容空间11的长度减小或增大。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例六

请参阅图2和图3，在一些可选实施例中，收容空间11呈正方形，在第一调节机构16未调小收容空间11的情况下，收容空间11的边长A的范围为215mm-225mm。例如为215mm、216mm、217mm、218mm、219mm、220mm、220.9mm、221mm、221.1mm、222mm、223mm、224mm、225mm。

如此，使得收容空间11的最大边长的范围较大，从而使得硅片载具10能够承载较大尺寸的硅片。

优选地，在第一调节机构16未调小收容空间11的情况下，收容空间11的边长A的范围为220.9mm-221.1mm。例如为220.9mm、221mm、221.1mm。如此，使得收容空间11的边长A具有理论值221mm附近的浮动范围，为实际生产预留误差的空间。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例七

请参阅图4，在一些可选实施例中，硅片载具包括多个底座12，多个底座12之间设有镂空件13，镂空件13和多个底座12围成镀膜空间121，硅片载具10还包括第二调节机构18，第二调节机构18用于驱动底座12运动以调节镀膜空间121的大小。

如此，可以通过镂空件13作为掩膜，使得从镀膜空间121出发穿过镂空件13溅射到硅片20所形成的薄膜具有与镂空件13对应的图案。

具体地，镂空件13可拆卸地设于多个底座12之间。如此，可以通过更换镂空件13在硅片20形成不同图案的薄膜。进一步地，镂空件13与多个底座12可通过卡扣连接、魔术贴连接或其他可拆卸的方式连接。

具体地，镂空件13的中心与收容空间11的中心的连线垂直于镂空件13。如此，在保证硅片20位于收容空间11的中心的情况下，可以保证硅片20位于镂空件13的中心，从而保证薄膜图案的精度。

可以理解，镂空件13隔开收容空间11与镀膜空间121，镀膜设备可设于镀膜空间121。

具体地，底座12包括第二挡板123和第二侧壁124，第二侧壁124固定设于底座12，第二挡板123可活动地设于底座12，第二挡板123连接第二调节机构18，第二调节机构18带动第二挡板123移动，从而调节镀膜空间121的大小。在本实施例中，第二调节机构18带动第二挡板123沿镂空件13的底面移动，从而调节镀膜空间121的大小。

如此，第二侧壁124固定设于底座12而第二调节机构18带动第二挡板123移动，在保证镀膜空间121可以调节的同时，使得底座12的运动范围受到限制，不会超出第二侧壁124，避免了底座12的运动范围过大导致干涉到周边的其他结构。

可以理解，在其他的实施例中，第二调节机构18也可带动底座12整体沿镂空件13的底面移动，从而调节镀膜空间121的大小。

具体地，底座12的数量为4个，第二调节机构18的数量为4个，每个底座12设有1个第二调节机构18。如此，可以从四边来调节镀膜空间121的尺寸，使得调节更加灵活，而且可以适应呈正方形的硅片20。

具体地，其中2个第二调节机构18驱动对应的底座12运动的方向与镀膜空间121的宽度方向平行，其余2个第二调节机构18驱动对应的底座12运动的方向与镀膜空间121的长度方向平行。如此，2个底座12沿镀膜空间121的宽度方向移动，2个底座12沿镀膜空间121的长度方向移动，可以直接调整镀膜空间121的长度和宽度。

可以理解，在其他的实施例中，也可为每两个底座12设置一个第二调节机构18。例如，为镀膜空间121的宽度方向上的两个底座12设置一个第二调节机构18，第二调节机构18驱动相对的两个底座12彼此靠近或远离，从而使得镀膜空间121的宽度减小或增大；为镀膜空间121的长度方向上的两个底座12设置一个第二调节机构18，第二调节机构18驱动相对的两个底座12彼此靠近或远离，从而使得镀膜空间121的长度减小或增大。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例八

在一些可选实施例中，底座12包括朝向镀膜空间121的第二挡板123和背离镀膜空间121的第二侧壁124，第二调节机构18包括第二螺钉181和与第二螺钉181配合的第二螺孔182，第二螺孔182设于第二挡板123和第二侧壁124之间，第二螺钉181自第二挡板123向第二侧壁124穿设于第二螺孔182，第二螺钉181在第二螺孔182中转动，带动地第二挡板123移动，从而调节镀膜空间121的大小。

如此，通过相互配合的第二螺钉181和第二螺孔182，可以简便地带动第二挡板123移动，从而调节镀膜空间121的大小，成本较低。

具体地，第二螺钉181可与第二挡板123固定连接。如此，保证第二螺钉181的运动能带动第二挡板123的移动。

进一步地，第二螺钉181可与第二挡板123可拆卸地连接，在第二螺钉181转动的情况下，第二螺钉181与第二挡板123分离，在第二螺钉181静止的情况下，第二螺钉181与第二挡板123连接。如此，使得第二螺钉181转动时与第二挡板123分离，避免第二挡板123干扰第二螺钉181的转动。

例如，第二螺钉181与第二挡板123卡扣式连接。第二螺钉181设有第三卡扣件，第二挡板123设有与第三卡扣件配合的第四卡扣件，在第二螺钉181转动的情况下，第三卡扣件和第四卡扣件解开，使得第二螺钉181与第二挡板123分离，在第二螺钉181静止的情况下，第三卡扣件和第四卡扣件闭合，使得第二螺钉181与第二挡板123连接。

又如，第二螺钉181与第二挡板123魔术贴式连接。第二螺钉181设有第三魔术贴，第二挡板123设有与第三魔术贴配合的第四魔术贴，在第二螺钉181转动的情况下，第三魔术贴和第四魔术贴解开，使得第二螺钉181与第二挡板123分离，在第二螺钉181静止的情况下，第三魔术贴和第四魔术贴贴合，使得第二螺钉181与第二挡板123连接。

进一步地，第三魔术贴可设于第二螺钉181的钉头朝向钉尖的一面，第四魔术贴可设于第二挡板123与第二螺钉181贴合时被第三魔术贴覆盖的区域。如此，使得第三魔术贴与第四魔术贴的贴合面积较大，从而使得第二螺钉181与第二挡板123的连接更加稳固。

具体地，第二螺孔182可形成于底座12。例如，底座12内部的容置空间143的内壁上形成有第二螺孔182对应的螺纹。如此，直接在底座12的内部形成第二螺孔182对应的螺纹，无需在底座12安装螺母，可以减少零件和成本。

具体地，第二螺孔182也可形成于第二螺母，第二螺母设于底座12。例如，底座12内部的容置空间143的内壁设有第二螺母，第二螺母形成有第二螺孔182对应的螺纹。如此，无需在底座12的内部设置第二螺孔182对应的螺纹，可以减少工艺的复杂度，并保证第二螺孔182与第二螺钉181配合。

在其他的实施例中，第二调节机构18也可包括气缸、滑槽滑轨、电机、丝杆等。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例九

请参阅图2和图3，在一些可选实施例中，镀膜空间121呈正方形，在第二调节机构18未调小镀膜空间121的情况下，镀膜空间121的边长B的范围为205mm-210mm。例如为205mm、206mm、207mm、208mm、209mm、210mm。

如此，使得镀膜空间121的最大边长的范围较大，从而使得硅片镂空件13能够适应较大尺寸的硅片20。

优选地，在第二调节机构18未调小镀膜空间121的情况下，镀膜空间121的边长B的范围为208.4mm、208.5mm、208.6mm。如此，使得镀膜空间121的边长B具有理论值208.5mm附近的浮动范围，为实际生产预留误差的空间。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

实施例十

在一些可选实施例中，第二调节机构18调节底座12运动的距离范围为0-1.5mm。例如为0mm、0.1mm、0.2mm、0.5mm、0.7mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.5mm。

如此，使得底座12在合适的距离内运动，避免运动的距离过小而导致的调节不充分，也避免了运动的距离过大而导致与镀膜时的其他器件相干涉。

综合以上，本申请的硅片载具10，可通过第一调节机构16和第二调节机构18分别调节收容空间11和镀膜空间12的大小，可降低PVD阶段产生的漏电率，可以降低由于硅片载具10的生产精度带来的溅射到硅片20的薄膜的精度较低的风险，可以承载不同尺寸的硅片20进行镀膜。

关于该实施例的其他解释和说明可参照本文的其他部分，为避免冗余，在此不再赘述。

以上仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硅片载具，其特征在于，所述硅片载具包括：

底座；

设于所述底座的侧台，以及

设于所述侧台的第一调节机构；

所述底座和所述侧台围成收容空间；

所述收容空间用于收容硅片；

所述第一调节机构用于驱动所述侧台运动以调节所述收容空间的大小。

2.根据权利要求1所述的硅片载具，其特征在于，所述侧台包括朝向所述收容空间的第一挡板和背离所述收容空间的第一侧壁；

所述第一调节机构包括第一螺钉和与所述第一螺钉配合的第一螺孔；

所述第一螺孔设于所述第一挡板和所述第一侧壁之间，所述第一螺钉自所述第一挡板向所述第一侧壁穿设于所述第一螺孔，在所述第一螺孔中转动，带动所述第一挡板移动，从而调节所述收容空间的大小。

3.根据权利要求2所述的硅片载具，其特征在于，所述第一挡板与所述底座的顶面的夹角为钝角。

4.根据权利要求1所述的硅片载具，其特征在于，所述侧台设有容置空间；

所述容置空间用于收容所述第一调节机构；

所述容置空间的宽度为8mm-12mm，高度为3mm-7mm。

5.根据权利要求1所述的硅片载具，其特征在于，所述侧台的数量为4个，所述第一调节机构的数量为4个，每个所述侧台设有1个所述第一调节机构。

6.根据权利要求1所述的硅片载具，其特征在于，所述收容空间呈正方形，在所述第一调节机构未调小所述收容空间的情况下，所述收容空间的边长的范围为215mm-225mm。

7.根据权利要求1所述的硅片载具，其特征在于，所述硅片载具包括多个底座；

多个底座之间设有镂空件；

镂空件和多个所述底座围成镀膜空间；

所述硅片载具还包括第二调节机构，用于驱动所述底座运动，以调节所述镀膜空间的大小。

8.根据权利要求7所述的硅片载具，其特征在于，所述底座包括朝向所述镀膜空间的第二挡板和背离所述镀膜空间的第二侧壁；

所述第二调节机构包括第二螺钉和与所述第二螺钉配合的第二螺孔；

所述第二螺孔设于所述第二挡板和所述第二侧壁之间，所述第二螺钉自所述第二挡板向所述第二侧壁穿设于所述第二螺孔，在所述第二螺孔中转动，带动所述第二挡板移动，从而调节所述镀膜空间的大小。

9.根据权利要求7所述的硅片载具，其特征在于，所述镀膜空间呈正方形，在所述第二调节机构未调小所述镀膜空间的情况下，所述镀膜空间的边长的范围为205mm-210mm。

10.根据权利要求7所述的硅片载具，其特征在于，所述第二调节机构调节所述底座运动的距离范围为0-1.5mm。

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