CN219333937U - 一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,涉及冶炼技术领域。本实用新型包括搅拌组件、盛料组件、转动组件和下料组件,盛料组件内侧连接有下料组件,下料组件下侧连接有搅拌组件,盛料组件左右两侧方对称连接有转动组件。本实用新型通过设置搅拌组件和转动组件对盛料组件内部用于制作硅锰合金冶炼用还原剂的原材料进行充分且均匀的混合,以及通过设置下料组件,便于使用者彻底清理盛料组件内部的硅锰合金冶炼用还原剂,降低了硅锰合金冶炼用还原剂的浪费。
Description
技术领域
本实用新型属于冶炼技术领域,特别是涉及一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置。
背景技术
冶金是指研究从矿石中提取有价金属或其化合物并进行加工成材料的过程中,工作人员在进行硅锰合金冶炼时需要使用到硅锰合金冶炼还原剂,硅锰合金冶炼还原剂使用的是焦粒,通过研究在焦粒中配比碳化硅炉渣冶炼硅锰合金,解决冶炼反应对炉温正向作用小以及炉温升温慢的问题,通过放热反应使炉温提前达标,提高反应速度,实现利用低附加值的碳化硅炉渣,降低产品冶炼电耗及焦耗,提高碳化硅炉渣的高价值利用,制作硅锰合金冶炼还原剂工艺一般用焦粉原料,利用还原剂筛下物、除尘灰、梦矿粉按照移动比例加入特制粘结剂混合后通过对筒式成球机制出的新型还原剂,目前,工作人员通过操控还原剂配比装置进行硅锰合金冶炼用还原剂制作。
但它在实际使用中仍存在以下弊端:
1、现有的还原剂配比装置在工作的过程中,仅仅通过搅拌杆对制作原材料进行搅拌混合,使得制作原材料不能够均匀充分的混合;
2、现有的还原剂配比装置在工作的过程中,由于出料口小,造成现有的还原剂配比装置内部的硅锰合金冶炼用还原剂无法彻底的排出,造成硅锰合金冶炼用还原剂的浪费。
因此,现有的还原剂配比装置,无法满足实际使用中的需求,所以市面上迫切需要能改进的技术,以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,通过设置搅拌组件、转动组件和排料组件,解决了现有的还原剂配比装置存在的制作原材料混合不充分,以及无法彻底排出还原剂的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
本实用新型为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,包括搅拌组件、盛料组件、转动组件和下料组件,盛料组件内侧连接有下料组件,下料组件下侧连接有搅拌组件,盛料组件左右两侧方对称连接有转动组件。
进一步地,盛料组件包含有空心桶和U形板;空心桶外周左右两侧中部均连接有U形板,空心桶内侧壁呈环形阵列开设有U形通槽。
进一步地,下料组件包含有液压缸、下圆形密封板和上圆形密封板;下圆形密封板位于空心桶内部下侧,上圆形密封板位于空心桶内部上侧,下圆形密封板外周呈环形阵列分布有下凸块,上圆形密封板外周呈环形阵列分布有上凸块,下凸块上侧连接有工形杆,工形杆上侧与上凸块下侧连接,上圆形密封板左右两侧方均有液压缸,液压缸上下两侧分别连接有Z形座和安装座,Z形座下侧与上凸块上侧连接,安装座内侧与空心桶外周下侧连接。
进一步地,上凸块与U形通槽滑动连接,工形杆与U形通槽滑动连接,下凸块与U形通槽滑动连接。
进一步地,搅拌组件包含有第一电机和第一转轴;第一电机位于下圆形密封板正下方,第一电机上侧第一转轴贯穿下圆形密封板,第一转轴外周呈环形阵列分布有搅拌杆,第一电机下侧机座与下圆形密封板下侧连接。
进一步地,转动组件包含有第二电机和第二转轴;两个第二电机均位于U形板正外侧方,第二电机下侧连接有L形支座,第二电机内侧连接有第二转轴,第二转轴内侧与U形板外侧中部连接。
进一步地,盛料组件外周上侧呈环形阵列分布有进料组件,进料组件包含有T形外螺纹塞和进料管;进料管一端与空心桶外周上侧连通,进料管另一端内部螺纹连接有T形外螺纹塞。
进一步地,盛料组件正下方有底部组件,底部组件包含有沉头螺栓和底板;底板位于空心桶正下方,底板上部前后两侧均等间距螺纹连接有沉头螺栓,底板上部左右两侧分别与L形支座下侧连接。
本实用新型具有以下有益效果:
1、本实用新型通过设置搅拌组件和转动组件,对盛料组件内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料进行搅拌和扰动混合,使得盛料组件内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料混合更加均与充分,提升了硅锰合金冶炼用还原剂的质量。
2、本实用新型通过设置排料组件,便于彻底的清理盛料组件内部的硅锰合金冶炼用还原剂,减少了盛料组件内部残留的硅锰合金冶炼用还原剂的量,使得硅锰合金冶炼用还原剂得到充分使用。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置的结构示意图;
图2为底部组件的结构示意图;
图3为底板、转动组件和盛料组件的连接示意图;
图4为盛料组件和进料组件的连接示意图;
图5为下料组件的结构示意图;
图6为下圆形密封板和搅拌组件的连接示意图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
1、底部组件;11、沉头螺栓;12、底板;2、搅拌组件;21、机座;22、第一电机;23、搅拌杆;24、第一转轴;3、盛料组件;31、空心桶;32、U形通槽;33、U形板;4、转动组件;41、第二电机;42、第二转轴;43、L形支座;5、下料组件;51、上凸块;52、Z形座;53、液压缸;54、安装座;55、下圆形密封板;56、下凸块;57、工形杆;58、上圆形密封板;6、进料组件;61、T形外螺纹塞;62、进料管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
请参阅图1至6所示,本实用新型为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,包括搅拌组件2、盛料组件3、转动组件4和下料组件5,盛料组件3内侧连接有下料组件5,下料组件5下侧连接有搅拌组件2,盛料组件3左右两侧方对称连接有转动组件4;
使用者将底部组件1锁定连接在工作面上,该还原剂配比装置锁定连接在工作面上,使用者从进料组件6向盛料组件3内部导入制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料,使用者操控搅拌组件2对盛料组件3内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料进行搅拌混合,使用者操控转动组件4,带动盛料组件3转动,盛料组件3内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料流动混合;
使用者操控转动组件4将盛料组件3调整至与水面平行的状态,使用者操控下料组件5,使得液压缸53伸张,下圆形密封板55上的硅锰合金冶炼用还原剂向盛料组件3的一端移动,下圆形密封板55逐渐移动的将盛料组件3内部的硅锰合金冶炼用还原剂排出,最终,硅锰合金冶炼用还原剂掉落在外界收集箱的内部。
其中如图5所示,下料组件5包含有液压缸53、下圆形密封板55和上圆形密封板58;下圆形密封板55位于空心桶31内部下侧,上圆形密封板58位于空心桶31内部上侧,下圆形密封板55外周呈环形阵列分布有下凸块56,上圆形密封板58外周呈环形阵列分布有上凸块51,下凸块56上侧连接有工形杆57,工形杆57上侧与上凸块51下侧连接,上圆形密封板58左右两侧方均有液压缸53,液压缸53上下两侧分别连接有Z形座52和安装座54,Z形座52下侧与上凸块51上侧连接,安装座54内侧与空心桶31外周下侧连接;
上凸块51与U形通槽32滑动连接,工形杆57与U形通槽32滑动连接,下凸块56与U形通槽32滑动连接;
使用者使用外接控制端启动液压缸53,当液压缸53伸张时,上凸块51、工形杆57和下凸块56沿着U形通槽32向上移动,下圆形密封板55和上圆形密封板58向上移动;反之,液压缸53收缩时,下圆形密封板55和上圆形密封板58向下移动。
其中如图6所示,搅拌组件2包含有第一电机22和第一转轴24;第一电机22位于下圆形密封板55正下方,第一电机22上侧第一转轴24贯穿下圆形密封板55,第一转轴24外周呈环形阵列分布有搅拌杆23,第一电机22下侧机座21与下圆形密封板55下侧连接;
使用者使用外接控制端启动第一电机22,第一转轴24转动,搅拌杆23转动,对空心桶31内部的物料进行搅拌。
其中如图3所示,盛料组件3包含有空心桶31和U形板33;空心桶31外周左右两侧中部均连接有U形板33,空心桶31内侧壁呈环形阵列开设有U形通槽32;
转动组件4包含有第二电机41和第二转轴42;两个第二电机41均位于U形板33正外侧方,第二电机41下侧连接有L形支座43,第二电机41内侧连接有第二转轴42,第二转轴42内侧与U形板33外侧中部连接;
使用者使用外接控制端启动第二电机41,第二转轴42转动,U形板33转动,空心桶31转动,空心桶31内部的物料流动混合。
其中如图4所示,盛料组件3外周上侧呈环形阵列分布有进料组件6,进料组件6包含有T形外螺纹塞61和进料管62;进料管62一端与空心桶31外周上侧连通,进料管62另一端内部螺纹连接有T形外螺纹塞61;
使用者顺时针转动T形外螺纹塞61,使用者从不同的进料管62向空心桶31内部导入相应的物料。
其中如图2所示,盛料组件3正下方有底部组件1,底部组件1包含有沉头螺栓11和底板12;底板12位于空心桶31正下方,底板12上部前后两侧均等间距螺纹连接有沉头螺栓11,底板12上部左右两侧分别与L形支座43下侧连接;
使用者将底板12平稳地放置在工作面上,使用者顺时针转动沉头螺栓11,将底板12锁定连接在工作面上,底部组件1锁定连接在工作面上。
以上仅为本实用新型的优选实施例,并不限制本实用新型,任何对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,对其中部分技术特征进行等同替换,所作的任何修改、等同替换、改进,均属于在本实用新型的保护范围。
Claims (8)
1.一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,包括搅拌组件(2)、盛料组件(3)、转动组件(4)和下料组件(5),其特征在于:所述盛料组件(3)内侧连接有所述下料组件(5),所述下料组件(5)下侧连接有所述搅拌组件(2),所述盛料组件(3)左右两侧方对称连接有所述转动组件(4)。
2.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述盛料组件(3)包含有空心桶(31)和U形板(33);所述空心桶(31)外周左右两侧中部均连接有所述U形板(33),所述空心桶(31)内侧壁呈环形阵列开设有U形通槽(32)。
3.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述下料组件(5)包含有液压缸(53)、下圆形密封板(55)和上圆形密封板(58);所述下圆形密封板(55)位于空心桶(31)内部下侧,所述上圆形密封板(58)位于空心桶(31)内部上侧,所述下圆形密封板(55)外周呈环形阵列分布有下凸块(56),所述上圆形密封板(58)外周呈环形阵列分布有上凸块(51),所述下凸块(56)上侧连接有工形杆(57),所述工形杆(57)上侧与上凸块(51)下侧连接,所述上圆形密封板(58)左右两侧方均有所述液压缸(53),所述液压缸(53)上下两侧分别连接有Z形座(52)和安装座(54),所述Z形座(52)下侧与所述上凸块(51)上侧连接,所述安装座(54)内侧与空心桶(31)外周下侧连接。
4.根据权利要求3所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述上凸块(51)与U形通槽(32)滑动连接,工形杆(57)与U形通槽(32)滑动连接,所述下凸块(56)与U形通槽(32)滑动连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述搅拌组件(2)包含有第一电机(22)和第一转轴(24);所述第一电机(22)位于下圆形密封板(55)正下方,所述第一电机(22)上侧所述第一转轴(24)贯穿所述下圆形密封板(55),所述第一转轴(24)外周呈环形阵列分布有搅拌杆(23),所述第一电机(22)下侧机座(21)与所述下圆形密封板(55)下侧连接。
6.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述转动组件(4)包含有第二电机(41)和第二转轴(42);两个所述第二电机(41)均位于U形板(33)正外侧方,所述第二电机(41)下侧连接有L形支座(43),所述第二电机(41)内侧连接有所述第二转轴(42),所述第二转轴(42)内侧与所述U形板(33)外侧中部连接。
7.根据权利要求2所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述盛料组件(3)外周上侧呈环形阵列分布有进料组件(6),所述进料组件(6)包含有T形外螺纹塞(61)和进料管(62);所述进料管(62)一端与空心桶(31)外周上侧连通,所述进料管(62)另一端内部螺纹连接有所述T形外螺纹塞(61)。
8.根据权利要求2所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置,其特征在于:所述盛料组件(3)正下方有底部组件(1),所述底部组件(1)包含有沉头螺栓(11)和底板(12);所述底板(12)位于空心桶(31)正下方,所述底板(12)上部前后两侧均等间距螺纹连接有所述沉头螺栓(11),所述底板(12)上部左右两侧分别与L形支座(43)下侧连接。
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