CN218854925U - 一种台面清洁机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种台面清洁机构，设有真空吸台上方，包括安装板、水管、擦拭海绵以及升降件，安装板底面两端设有相对的两固定块，其中一固定块上设有安装孔；水管穿设过安装孔延伸至两固定块之间，水管上开设有多个出水孔；擦拭海绵设于两固定块之间，且套设在水管上，出水孔位于擦拭海绵内腔中；升降件与安装板连接，驱动擦拭海绵上下升降调整高度，使擦拭海绵可对真空吸台的台面快速清洁，且在不需要清洁时，通过抬升高度避免对真空吸台的移动造成干涉。
Description
技术领域
本实用新型涉及芯片加工设备技术领域，具体涉及一种台面清洁机构。
背景技术
半导体硅晶圆是制造半导体器件的基础性原材料。高纯度的半导体经过拉晶、切片等工序制备成为晶圆，晶圆经过一系列半导体制造工艺形成极微小的电路结构，再经减薄、切割、封装、测试成为芯片，广泛应用到各类电子设备中，其中基板减薄就是很重要的一环。
基板减薄是将芯片装贴在基板上，打线封装完成后，通过真空吸台将基板吸附固定，将芯片移至研磨机下方进行研磨减薄芯片表面的塑封材料，然而，长期的研磨会导致真空吸台上残留粉尘，堵塞吸孔，影响真空吸台的吸附力，需要定期对台面进行清洁，但现有的清洁机构结构复杂，容易对真空吸台的移动造成干涉，不便于对真空吸台的台面进行清洁。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种台面清洁机构，解决现有技术中的清洁机构结构复杂，容易对真空吸台的移动造成干涉的问题。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：
一种台面清洁机构，设有真空吸台上方，包括：
安装板，所述安装板底面两端设有相对的两固定块，其中一所述固定块上设有安装孔；
水管，穿设过所述安装孔延伸至两所述固定块之间，所述水管上开设有多个出水孔；
擦拭海绵，设于两所述固定块之间，且套设在所述水管上，所述出水孔位于所述擦拭海绵内腔中；
升降件，与所述安装板连接，驱动所述擦拭海绵上下升降调整高度。
通过本申请的结构设置，可使擦拭海绵对真空吸台的台面快速清洁，且在不需要清洁时，通过抬升擦拭海绵高度避免对真空吸台的移动造成干涉。
作为本实用新型进一步的方案：多个所述出水孔沿轴向间隔设置。
作为本实用新型进一步的方案：所述水管与所述安装孔过盈配合。
作为本实用新型进一步的方案：所述水管一端连接有接头。
作为本实用新型进一步的方案：所述升降件为升降气缸。
作为本实用新型进一步的方案：所述擦拭海绵呈圆管状。
作为本实用新型进一步的方案：至少其中一固定块与安装板之间可拆卸连接。
本实用新型的有益效果：通过设置擦拭海绵，使擦拭海绵套设在所述水管上，水管通过出水孔为擦拭海绵缓慢供水使其保持湿润但又不会让水从擦拭海绵上滴落，使擦拭海绵可对真空吸台的台面快速清洁的同时避免设备上产生积水，擦拭海绵在升降件的带动下可调整高度，在不需要清洁时，通过抬升高度避免对真空吸台的移动造成干涉。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1是本实用新型中台面清洁机构与真空吸台配合的结构示意图；
图2是本实用新型中台面清洁机构的整体示意图；
图3是本实用新型中台面清洁机构的部分结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图2-3所示，本实用新型为一种台面清洁机构10，用于设置在真空吸台20上方，对真空吸台20的台面进行清洁。
具体的，台面清洁机构10包括安装板11、水管12、擦拭海绵13以及升降件14，安装板11水平设置，安装板11底面两端设有相对的两固定块15，其中一所述固定块15上设有安装孔(未图示)，水管12为硬管(如钢管、pp管等)，水管12从安装孔穿设过该固定块15延伸至两所述固定块15之间，水管12可通过与所述安装孔过盈配合实现固定。所述水管12上开设有多个出水孔121，优选的，多个所述出水孔121沿轴向间隔设置，水管12的一端连接有接头16，便于水管12与外界水源连通。
擦拭海绵13呈圆管状，设于两固定块15之间，且沿竖直方向上，擦拭海绵13的底部凸出两固定块15之间，便于擦拭海绵13对下方的真空吸台20的台面进行擦拭清洁。擦拭海绵13套设在水管12上与其过盈配合，若干出水孔121设于擦拭海绵13的内腔中，使擦拭海绵13保持湿润但又不会让水滴落到设备上。擦拭海绵13的两端面分别抵接在两固定块15的相对侧面上，防止擦拭海绵13沿轴向相对水管12移动。
进一步的，至少其中一固定块15与安装板11之间可拆卸连接，便于擦拭海绵13的安装和更换，优选的，两固定块15均与安装板11之间通过螺丝可拆卸连接。
升降件14采用升降气缸，升降气缸的设于安装板11上方且固定在支架30上，升降气缸的气缸杆与安装板11固接。
请参阅图1所示，清洁时，升降气缸驱动擦拭海绵13下降至位于真空吸台20与真空吸台20的台面接触，水管12通过出水孔121为擦拭海绵13供水使其保持湿润，真空吸台20在丝杆40的驱动下沿滑轨50往复移动，使真空吸台20的台面被擦拭海绵13反复擦拭，可快速清理掉台面上的灰尘，清洁完毕后，升降气缸带动擦拭海绵13上升至预定高度，防止擦拭海绵13对真空吸台20运输产品造成干涉。
以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
Claims (7)
1.一种台面清洁机构，设有真空吸台上方，其特征在于，包括：
安装板，所述安装板底面两端设有相对的两固定块，其中一所述固定块上设有安装孔；
水管，穿设过所述安装孔延伸至两所述固定块之间，所述水管上开设有多个出水孔；
擦拭海绵，设于两所述固定块之间，且套设在所述水管上，所述出水孔位于所述擦拭海绵内腔中；
升降件，与所述安装板连接，驱动所述擦拭海绵上下升降调整高度。
2.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，多个所述出水孔沿轴向间隔设置。
3.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，所述水管与所述安装孔过盈配合。
4.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，所述水管一端连接有接头。
5.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，所述升降件为升降气缸。
6.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，所述擦拭海绵呈圆管状。
7.根据权利要求1所述的台面清洁机构,其特征在于，至少其中一固定块与安装板之间可拆卸连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202223322482.1U CN218854925U (zh) | 2022-12-12 | 2022-12-12 | 一种台面清洁机构 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN218854925U true CN218854925U (zh) | 2023-04-14 |
Family
ID=87371891
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202223322482.1U Active CN218854925U (zh) | 2022-12-12 | 2022-12-12 | 一种台面清洁机构 |
Country Status (1)
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|---|---|
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2022
- 2022-12-12 CN CN202223322482.1U patent/CN218854925U/zh active Active
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