CN218738794U - 一种清洁基站、清洁设备、清洁系统及对接装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及了一种清洁基站、清洁设备、清洁系统及对接装置。本公开的清洁系统包括清洁基站、清洁设备、弹性机构及泄压机构，清洁基站上设置有第一对接部；清洁设备上设置有第二对接部；清洁设备置于清洁基站时，第二对接部能够与第一对接部配合在一起；弹性机构能够缓冲第一对接部与第二对接部对接时的压力；泄压机构能够将第一对接部与第二对接部对接时产生的至少部分压力进行泄压。本公开的清洁系统，通过泄压机构将第一对接部对第二对接部的部分压力泄压，使弹性机构缓冲的压力变小，避免弹性机构在较大压力作用下被过度压缩，产生较大的反推力，反推清洁设备。

Description

一种清洁基站、清洁设备、清洁系统及对接装置

技术领域

本公开涉及清洁机械领域，更准确地说，本公开涉及一种对接装置，以及应用该对接装置的一种清洁设备及一种清洁基站，还涉及应用该清洁设备及清洁基站的清洁系统。

背景技术

随着科技的进步以及生活水平的不断提高，人们对于清洁设备的需求日益增加，智能清洁设备越来越普遍，例如在商场、写字楼等商业环境中进行清洁的商用机器人等。

由于自身电池容量有限，清洁机器人需定期运动至基站进行对接充电。由于机器人具有一定的运动惯性，在对接时会对基站发生碰撞，造成部件的损坏。尤其对于商用机器人而言，其体积较大，运动惯性大，更容易造成因碰撞所导致的部件损坏。为了尽量避免机器人与基站本体发生硬碰撞，目前现有的基站的对接平台多设置成可伸缩缓冲结构，并预留一些缓冲行程。在缓冲结构的弹性较小的情况下，机器人与基站之间仍有可能发生硬碰撞。而在缓冲结构的弹性较大的情况下，在机器人停止运动后，缓冲结构的回弹力会大于机器人与地面之间的制动力，从而会将机器人反推出去。

在机器人被反推后，会造成机器人与基站二者之间充电极片的接触面积减小，由此会导致极片处发热严重等问题出现，严重时还会造成机器人和基站烧毁。

实用新型内容

本公开为了解决现有技术中存在的问题，提供了一种清洁基站、清洁设备、清洁系统及对接装置。

根据本公开的第一方面，提供了一种清洁系统，包括：

清洁基站，所述清洁基站上设置有第一对接部；

清洁设备，所述清洁设备上设置有第二对接部；所述清洁设备被配置为置于所述清洁基站时，所述第二对接部能够与所述第一对接部配合在一起；

弹性机构，所述弹性机构被配置为缓冲所述第一对接部与第二对接部对接时的压力；

泄压机构，所述泄压机构被配置为将第一对接部与第二对接部对接时产生的至少部分压力进行泄压。

在本公开的一个实施例中，所述泄压机构被配置为将第一对接部与第二对接部对接时的至少部分压力泄压至，使所述弹性机构缓冲时的弹性力小于所述清洁设备在所述清洁基站上的制动力。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部与第二对接部对接时，所述弹性机构在第一行程内对所述第一对接部、第二对接部之间的撞击进行缓冲；在第二行程内，所述弹性机构对所述第一对接部、第二对接部之间的撞击继续进行缓冲，所述泄压机构对第一对接部与第二对接部之间的撞击进行泄压。

在本公开的一个实施例中，在所述第一行程内，所述弹性机构缓冲时储存的弹性力F1小于20N，所述清洁设备在所述清洁基站上的制动力F2为20至60N。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部与第二对接部对接时，在所述弹性机构对第一对接部、第二对接部开始缓冲的同时，所述泄压机构开始对第一对接部、第二对接部进行泄压。

在本公开的一个实施例中，所述清洁基站包括基座，以及导向配合在所述基座上的滑动座，所述第一对接部固定在所述滑动座上；所述弹性机构、泄压机构分别设置在所述滑动座与所述基座之间。

在本公开的一个实施例中，所述弹性机构为弹簧，所述弹簧的两端分别与所述滑动座、基座连接。

在本公开的一个实施例中，所述泄压机构固定在所述基座上，所述泄压机构的受压端头在初始位置时与所述滑动座抵接，或者与所述滑动座之间具有间隙；或者是，

所述泄压机构固定在所述滑动座上，所述泄压机构的受压端头在初始位置时与所述基座抵接，或者与所述基座之间具有间隙。

在本公开的一个实施例中，所述泄压机构为阻尼器。

在本公开的一个实施例中，所述泄压机构被构造为在受到压力时往靠近所述基座的方向运动，以对滑动座与基座之间的压力进行泄压。

在本公开一个实施方式中，所述清洁设备包括基座，以及导向配合在所述基座上的滑动座，所述第二对接部固定在所述滑动座上；所述弹性机构、泄压机构分别设置在所述滑动座与所述基座之间。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部、第二对接部为充电极片，所述清洁设备被配置为在充电极片对接之后进行充电。

根据本公开的第二方面，提供了一种清洁基站，所述清洁基站被配置为用于容纳清洁设备，包括：

第二对接部，所述清洁设备被配置为置于清洁基站时，所述第二对接部能够与清洁设备上的第一对接部配合在一起；

弹性机构，所述弹性机构被配置为缓冲所述第一对接部与第二对接部对接时的压力；

泄压机构，所述泄压机构被配置为将第一对接部与第二对接部对接时产生的至少部分压力进行泄压。

根据本公开的第三方面，提供了一种清洁设备，包括：

第二对接部，所述清洁设备被配置为置于清洁基站时，所述第二对接部能够与清洁基站上的第一对接部配合在一起；

弹性机构，所述弹性机构被配置为缓冲所述第一对接部与第二对接部对接时的压力；

泄压机构，所述泄压机构被配置为对第一对接部与第二对接部对接产生的至少部分压力进行泄压。

根据本公开的第四方面，提供了一种对接装置，包括：

第一对接部；

第二对接部，所述第二对接部被配置为在运动的过程中能够与所述第一对接部配合在一起；

弹性机构，所述弹性机构被配置为缓冲所述第一对接部与第二对接部对接时的压力；

泄压机构，所述泄压机构被配置为将第一对接部与第二对接部对接时产生的至少部分压力进行泄压。

本公开的一个有益效果在于，清洁系统包括清洁基站、清洁设备、弹性机构以及泄压机构。清洁设备与清洁基站通过第一对接部与第二对接部对接在一起。当清洁设备与清洁基站对接时，第二对接部受到第一对接部的冲击，弹性机构能够缓冲第一对接部对第二对接部的压力，泄压机构可以将第一对接部对第二对接部产生的至少部分压力进行泄压，以使弹性机构需要进行缓冲的压力变小，避免弹性机构在受到较大的压力时被过度压缩，对清洁设备产生较大的反推力，从而使清洁设备和清洁基站能够稳定的进行对接。

通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且连同其说明一起用于解释本公开的原理。

图1是本公开清洁系统的结构示意图；

图2是本公开对接装置的结构示意图；

图3是本公开对接装置进行对接时的示意图。

图4是本公开对接装置一实施例中的结构示意图。

图1至图4中各组件名称和附图标记之间的对应关系如下：

1.清洁基站，11.第一对接部，12.基座，2.清洁设备，21.第二对接部，3.弹性机构，4.泄压机构，41.受压端头，5.滑动座。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本公开的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

下面结合附图对本公开的具体实施方式进行描述。

在本文中，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等仅用于表示相关部分之间的相对位置关系，而非限定这些相关部分的绝对位置。

在本文中，“第一”、“第二”等仅用于彼此的区分，而非表示重要程度及顺序、以及互为存在的前提等。

在本文中，“相等”、“相同”等并非严格的数学和/或几何学意义上的限制，还包含本领域技术人员可以理解的且制造或使用等允许的误差。

本公开提供了一种清洁系统，包括清洁基站、清洁设备。清洁设备可以是自移动清洁机器人、手持式洗地机等，可以通过自身移动的方式或者手动放置的方式与清洁基站配合。清洁基站通常放置在固定的地点，清洁设备完成清洁工作后可以回到清洁基站中，清洁基站上可以集成对清洁设备进行充电、补水、清洗、烘干、集尘等功能。

清洁系统还包括弹性机构及泄压机构。清洁基站上设置有第一对接部，清洁设备上设置有第二对接部，清洁设备置于清洁基站时，第二对接部够与第一对接部配合在一起。在清洁设备与清洁基站对接的过程中，弹性机构可以缓冲第一对接部与第二对接部在对接时产生的压力。泄压机构可以将至少部分第一对接部与第二对接部对接时产生的部分压力进行泄压，减少弹性机构需要缓冲的压力，避免弹性机构被过度压缩而产生较大的反推力，将清洁设备推离清洁基站。

本公开的清洁系统，清洁基站、清洁设备可以通过第一对接部与第二对接部实现充电对接、管路对接等。例如，清洁设备与清洁基站之间通过第一对接部与第二对接部之间的配合进行充电时，第一对接部与第二对接部则为充电极片，对接之后便可通过清洁基站对清洁设备进行充电。也可以是，通过第一对接部与第二对接部之间的配合进行管路对接时，第一对接部与第二对接部则为管接头，对接之后例如可通过清洁基站对清洁设备进行补水，或者将清洁设备中的污水或者灰尘抽至清洁基站中进行储存，或者经清洁基站进行排放。对于本领域的技术人员而言，在上述公开的基础上，第一对接部与第二对接部还是其它配合使用的部件。

当第一对接部与第二对接部为用于充电的充电极片，清洁设备在需要进行充电时向清洁基站移动，在移动过程中，两个充电极片对接配合在一起，清洁基站开始向清洁设备充电。两个充电极片接触后，清洁设备由于惯性继续向靠近清洁基站的方向运动，弹性机构可以缓冲两个充电极片在对接时产生的压力，泄压机构可以进一步进行泄压，减少弹性机构受到的压力，避免弹性机构被过度压缩而对清洁设备产生较大的反推力，以使两个充电极片能够完全对接，以免出现两个充电极片接触面积减小而发热严重的问题，减少清洁系统的安全隐患。

为了便于理解，下面参照图1至图4，结合一个实施例详细地说明本公开的具体结构及其工作原理。

实施例一

参见图1及图2，本公开的清洁系统包括清洁基站1、清洁设备2、弹性机构3及泄压机构4。

在清洁基站1上设置有第一对接部11。在清洁设备2上设置有第二对接部21，第二对接部21与第一对接部11能够相互配合，使清洁基站1与清洁设备2对接在一起。在本公开一个具体的实施方式中，第一对接部11和第二对接部21均为充电极片，两个充电极片对接后，清洁基站1能够向清洁设备2充电。

弹性机构3和泄压机构4可以设置在第一对接部11与清洁基站1之间，在清洁设备2与清洁基站1对接时，弹性机构3受到挤压而变形，通过弹性作用缓冲第一对接部11受到第二对接部21撞击产生的压力。泄压机构4可以将至少部分第一对接部11和第二对接部21对接时产生的压力进行泄压，减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力。当清洁设备2完成充电离开清洁基站1后，弹性机构3能够驱动第一对接部11复位。

具体地，弹性机构3可以采用压缩弹簧，其中一端与第一对接部11连接，另一端与清洁基站1连接。当然，弹性机构也可以采用弹片、压缩片等其它弹性件。

泄压机构4用于吸收第一对接部11和第二对接部21在对接时产生的部分压力，且并不会产生反推力，只是将压力进行消耗，从而减轻弹性机构需要缓冲的压力。

本公开的泄压机构4可以采用阻尼器，例如液压阻尼器、气压阻尼器、电磁阻尼器等本领域技术人员所熟知的耗能型阻尼器。例如，液压阻尼器是利用活塞挤压液压油的原理来进行泄压，液压阻尼器在受力时可以消耗外力的能量，并且不会储存能量。液压阻尼器可以在自身弹簧的作用下复位，具体需要根据阻尼器类型而有所不同。阻尼器区别于弹性机构，阻尼器为耗能型，而弹性机构则为储能型。当然，泄压机构4也可以是其它具有泄压功能的现有装置。

清洁设备2与清洁基站1对接时，为了避免弹性机构3产生的反推力将清洁设备2从清洁基站1上推离，清洁设备2具有能够克服反推力的制动力，从而稳定地与清洁基站1配合。清洁设备2可以通过自身的制动装置、与清洁设备2或地面之间的摩擦作用等方式产生制动力。

本实施例中，泄压结构4在对接时进行泄压，减轻了弹性机构3需要缓冲的压力，有利于使弹性机构3产生的反推力不超过清洁设备2的制动力。清洁设备2与清洁基站1对接稳定后，清洁设备2不会在弹性机构3的反推力下被推离清洁基站1。

这是由于当清洁设备2移动至与清洁基站1对接时，清洁设备2对清洁基站1的撞击力会被弹性机构3所缓冲，弹性机构3被压缩后会储存弹性力，且弹性机构3的压缩量越大，则储存的弹性力则越大。如果弹性机构3储存的弹性力大于清洁设备2在清洁基站1上的制动力时，则在弹性机构3的弹性力下，会推动清洁设备2往相反的方向移动，即出现了清洁设备2反推的问题，由此会影响第一对接部11与第二对接部21配合的稳定性。本公开的清洁系统，通过设置泄压机构4，可以将清洁设备2与清洁基站1之间的至少压力部分吸收掉，从而避免弹性机构3缓冲时储存的弹性力超过清洁设备2在清洁基站上1的制动力，由此可以避免弹性机构3对清洁设备2的反推问题。

在本公开的一种实施方式中，参见图3及图4，清洁设备2与清洁基站1进行对接的过程中，第二对接部21接触并撞击第一对接部11时，弹性机构3开始缓冲撞击压力的同时，泄压机构4也开始进行泄压。即可以理解为弹性机构和泄压机构4同时工作，避免了清洁设备2与清洁基站1对接过程中，泄压机构4还未开始对第一对接部11与第二对接部21撞击产生的压力进行泄压，弹性机构3产生的反推力已经大于清洁设备2所能产生的制动力，直接将清洁设备2推离清洁基站1，造成对接不稳定的情况。

在实际应用中，由于泄压机构4本身的特性，当第一对接部11与第二对接部21刚开始接触时，第二对接部21对第一对接部11之间的撞击压力最大，此时若第一对接部11与泄压机构4直接接触，即清洁设备2较大的能量作用在泄压机构4上后，则起不到对清洁设备2缓慢减速的目的，更起不到缓冲的作用。

为了解决上述问题，在本公开的另一种实施方式中，参见图2及图4，清洁设备2与清洁基站1进行对接时，在第二对接部21撞击第一对接部11的第一行程中，通过弹性机构3缓冲第一对接部11和第二对接部21对接时产生的压力。第一行程结束后，第二对接部21继续挤压第一对接部11在第二行程内运动时，不仅弹性机构3对第一对接部11和第二对接部21之间撞击产生的压力继续进行缓冲，同时泄压机构4也开始对第二对接部21撞击第一对接部11产生的至少部分压力进行泄压，从而减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力，减少弹性机构3在第二行程中的形变量，最终达到减小弹性机构3反推力的目的。当清洁设备2稳定的与清洁基站1对接在一起时，不会出现由于弹性机构3的反推力大于清洁设备2的制动力，将清洁设备2推离清洁基站1的情况。

在上述实施例中，清洁设备2在清洁基站1上能够产生的制动力为F2，在第一行程内，弹性机构3能够储存的弹性力为F1。在本公开一个具体的实施方式中，F1小于20N，F2为20至60N。弹性机构3在第一行程内预先进行缓冲，缓冲至预定的程度后再经过泄压机构4进行泄压，由此即可以保证弹性机构3对清洁设备2对接时的缓冲，又可以避免提弹性机构3储存的弹性力过大。例如在本公开一个具体的实施方式中，清洁设备2在清洁基站1上能够产生的制动力为F2为40N，则可以选择在第一行程内弹性机构3对清洁设备2进行缓冲时储存的弹性力F1为15N，即清洁设备2在第一行程内移动了预定的距离，弹性机构3在该预定的距离内对清洁设备2的撞击进行了初步的缓冲。在第二行程内，弹性机构3在继续缓冲的同时，泄压机构4对清洁设备2的冲击进行泄压，以吸收清洁设备2的撞击力。

第一行程内弹性机构3储存的弹性力F1不能过小，也不能过大。过小则无法实现对清洁设备2的缓冲，过大则在第二行程内泄压机构4可能来不及泄压，便使弹性机构3储存的弹性力F1超过了清洁设备2在清洁基站1上的制动力F2。

当清洁设备2不需要与清洁基站1对接时，第一对接部11、弹性机构3及泄压机构4会暴露在外界环境中，难免会沾染到外界环境中的水汽或者灰尘等杂质，造成问题的出现。例如，清洁设备2在通过第一对接部11与第二对接部21的对接进行充电时发生短路，烧坏清洁基站或者清洁设备；或者由于第一对接部11上附有杂质造成充电接触不良等。

为了解决上述问题，在本公开的一个实施例中，参见图1、图2，清洁基站1还包括基座12及滑动座5，滑动座5导向配合在基座12上，使得滑动座5可以相对于基座12往复滑动，并且，滑动座5的运动方向与第一对接部11、第二对接部12的对接方向一致。第一对接部11固定连接在滑动座5远离基座12的一端，弹性机构3及泄压机构4设置在滑动座5与基座12之间，用于缓冲、泄掉第一对接部11与第二对接部21在对接时产生的压力。

第一对接部11远离基座12一侧和靠近基座12一侧均从滑动座5露出，第一对接部11远离基座12一侧用于与清洁设备2上的第二对接部21接触配合在一起，第一对接部11靠近基座12一侧用于与清洁基站1内部电路连接，例如，通过导线与清洁基站1中的外部电源连通，用于对清洁设备2充电。

当清洁设备2挤压第一对接部11时，同时也会挤压滑动座5，使滑动座5随第一对接部11向基座12的方向运动，弹性机构3及泄压机构4也可以通过抵接在滑动座5上，缓冲、泄掉第一对接部11和第二对接部21对接时产生的压力。滑动座5可以将第一对接部11、弹性机构3及泄压机构4包裹在其中，避免清洁基站1闲置时，使第一对接部11、弹性机构3及泄压机构4不易与外界环境中的灰尘、水渍等接触，避免清洁设备2或清洁基站1在对接过程中出现故障。

另外，本公开设置的滑动座5与基座12导向配合，从而可以保证第一对接部11沿着预定的方向运动。参照图2，滑动座5包裹在基座12的外部，在进行滑动时，以基座12为支撑，使滑动座5在滑动的过程中更加稳定，不会产生偏移，以保证第一对接部11及第二对接部21在对接时，能够完全对接配合在一起。

在本公开的一个实施例中，弹性机构3为弹簧，参见图2，弹簧的一端连接在滑动座5上朝向基座12的一端，另一端连接在基座12上。弹簧可以设置有多个，分别与基座12及滑动座5连接在一起，例如本实施例中弹簧设置有四个，四个弹簧呈环状分布在滑动座5与基座12之间，不但可以增强弹性机构3的缓冲能力，另外可以保证滑动座5平移时的稳定性。

第一对接部11靠近清洁设备2一侧可以凸出于滑动座5的表面，以便于与第二对接部21接触。当清洁设备2挤压第一对接部11时，第一对接部11带动滑动座5向基座12的方向移动，同时挤压弹簧及泄压机构4，对第一对接部11和第二对接部21对接时的压力进行缓冲及泄压。

在本公开的一个实施例中，泄压机构4可以固定连接在基座12上，泄压机构4的受压端头41在初始位置时可以抵接在滑动座5上，也可以与滑动座5之间具有预定的间隙。

参考图4所示的实施例，图4示意出了滑动座5、弹性机构3、泄压机构4位于初始位置时的状态。在该初始状态下，泄压机构4的受压端41与滑动座5抵接在一起，例如连接在一起，或者接触配合在一起。当清洁设备2与清洁基站1对接时，第一对接部11与滑动座5受到第二对接部21的撞击，从而向基座12的方向运动，同时挤压弹性机构3与泄压机构4，使弹性机构3被压缩向基座12的方向，开始缓冲对接时产生的压力。同时泄压机构4中的受压端头41也向基座12的方向运动，开始将对接时产生的至少部分压力进行泄压，从而减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力，避免因弹性机构3产生较大反推力，将清洁设备2推离清洁基站1，参考图3。

在另一个实施例中，参见图2，受压端头41也可以距离滑动座5有一定的距离。当清洁设备2与清洁基站1对接时，第一对接部11与滑动座5受到第二对接部21的撞击，从而向基座12的方向运动，同时挤压弹性机构3，使弹性机构3被压缩向基座12的方向，开始缓冲对接时产生的压力。当第一对接部11在第二对接部21的挤压下，向基座12的方向运动一定距离后，滑动座5与受压端头41接触并挤压受压端头41，使受压端头41也向基座12的方向运动，开始将对接时产生的至少部分压力进行泄压，从而减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力，避免因弹性机构3产生较大反推力，将清洁设备2推离清洁基站1。在该实施例中，受压端头41与滑动座5之间的距离则为上述的第一行程。该距离越大，则弹性机构3缓冲的行程则越大，其缓冲时储存的弹性力则也越大。

在本公开的另一实施例中，泄压机构4也可以固定连接在滑动座5上，受压端头41在初始位置时可以抵接在基座12上，也可以与基座12保持一定距离进。清洁设备2与清洁基站1对接时，各部件的运动过程与上述实施例一致，在此不再过多赘述。

在上述公开的基础上，本领域技术人员容易想到将基座12和滑动座5设置在清洁设备2上。即清洁设备2包括基座12和导向配合在基座12上的滑动座5，使得滑动座5可以相对于基座12往复滑动。并且，滑动座5的运动方向与第一对接部11、第二对接部21的对接方向一致。第二对接部21固定连接在滑动座5远离基座12的一端，弹性机构3及泄压机构4设置在滑动座5与基座12之间，用于缓冲、泄掉第一对接部11与第二对接部21在对接时产生的压力，本公开在此不再具体说明。

实施例二

本公开还提供一种清洁基站1，清洁基站1用于容纳清洁设备2。清洁设备2可以行进至清洁基站1中进行充电、补水，或者通过清洁基站1收集清洁设备2中的污水、脏污等。清洁基站1包括第二对接部21、弹性机构3及泄压机构4。第二对接部21用于与清洁设备2上的第一对接部11配合在一起，实现清洁基站1与清洁设备2的对接。在对接时，通过弹性机构3可以缓冲第一对接部11与第二对接部21对接时产生的压力。泄压机构4可以将第一对接部11与第二对接部21对接时产生的至少部分压力进行泄压，减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力，使弹性机构3不会被过度压缩，产生较大的反推力，将清洁设备2推离清洁基站1。

清洁基站1中各部件的连接关系，以及与清洁设备2对接时的运动过程，均与实施例一中的描述相同，在此不再过多赘述。

实施例三

本公开还提供一种清洁设备2，包括第二对接部21、弹性机构3及泄压机构4。第二对接部21用于与清洁基站1上的第一对接部11配合在一起，实现清洁基站1与清洁设备2的对接。在对接时，通过弹性机构3可以缓冲第一对接部11与第二对接部21对接时产生的压力。泄压机构4可以将第一对接部11与第二对接部21对接时产生的至少部分压力进行泄压，减轻弹性机构3需要进行缓冲的压力，使弹性机构3不会被过度压缩，产生较大的反推力，将清洁设备2推离清洁基站1。

清洁设备2中各部件的连接关系，以及与清洁基站1对接时的运动过程，均与实施例一中的描述相同，在此不再过多赘述。

实施例四

本公开还提供一种对接装置，包括第一对接部11、第二对接部21、弹性机构3及泄压机构4。在进行对接时，第二对接部21在运动过程中会与第一对接部11接触并配合在一起。弹性机构3可以缓冲第一对接部11和第二对接部21在对接时产生的压力。泄压机构4可以将第一对接部11与第二对接部21对接时产生的至少部分压力进行泄压。防止弹性机构3受到较大的压力，从而被过度压缩，产生较大的反推力，将第二对接部21推离第一对接部11。

本公开的对接装置不仅可以应用在清洁基站1及清洁设备2中，还可以应用在其它需要进行对接的设备中，本公开对此不作限制。本公开对接装置中各部件的连接关系，可以与实施例一中的描述相同，在此不再过多赘述。

应用场景1

以第一对接部11及第二对接部21为充电极片为例。当清洁设备2经过长时间的工作需要进行充电时，清洁设备2向清洁基站1的位置移动并进行对接。

清洁设备2在自身驱动力的作用下向清洁基站1的方向移动，并使清洁设备2上的充电极片与清洁设备1上的充电极片对接。在对接的过程中，在清洁设备2驱动力及惯性力的作用下，位于清洁设备2上的第二对接部21会与清洁基站1上的第一对接部11接触并挤压，第一对接部11受到挤压后，同步挤压滑动座5向基座12方向在第一行程内滑动，并且在滑动的过程中挤压弹簧，弹簧受到挤压，开始缓冲第一对接部11和第二对接部21在对接时产生的压力。第二对接部21继续挤压滑动座5向基座12的方向在第二行程内运动，滑动座5与泄压机构4上的受压端头41接触。受压端头41受到挤压，泄压机构4开始对第一对接部11与第二对接部21对接时产生的至少部分压力进行泄压，避免弹簧受到过大的压力，被过度压缩。在向清洁基站1运动的过程中，清洁设备2的运动速度逐渐减小，直至停止运动，在清洁基站1中进行充电。

充电完成后，清洁设备2离开清洁基站1，第一对接部11及滑动座5在弹簧的作用下，恢复至未充电时的位置。

应用场景2

以第一对接部11及第二对接部21为充电极片为例。当清洁设备2经过长时间的工作需要进行充电时，清洁设备2向清洁基站1的位置移动并进行对接。

清洁设备2在自身驱动力的作用下向清洁基站1的方向移动，并使清洁设备2上的充电极片与清洁设备1上的充电极片对接。在对接的过程中，在清洁设备2驱动力及惯性力的作用下，位于清洁设备2上的第二对接部21会与清洁基站1上的第一对接部11接触并挤压，第一对接部11受到挤压后，同步挤压滑动座5向基座12的方向滑动，并且在滑动的过程中同时挤压弹簧及泄压机构4，弹簧受到挤压，开始缓冲第一对接部11和第二对接部21在对接时产生的压力。滑动座5挤压泄压机构4的过程中，与泄压机构4上的受压端头41接触。受压端头41受到挤压，泄压机构4开始对第一对接部11与第二对接部21对接时产生的至少部分压力进行泄压，避免弹簧受到过大的压力，被过度压缩。在向清洁基站1运动的过程中，清洁设备2的运动速度逐渐减小，直至停止运动，在清洁基站1中进行充电。

充电完成后，清洁设备2离开清洁基站1，第一对接部11及滑动座5在弹簧3的作用下，恢复至未充电时的位置。

以上已经描述了本公开的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择，旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术改进，或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。本公开的范围由所附权利要求来限定。

Claims (15)

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站(1)，所述清洁基站(1)上设置有第一对接部(11)；

清洁设备(2)，所述清洁设备(2)上设置有第二对接部(21)；所述清洁设备(2)被配置为置于所述清洁基站(1)时，所述第二对接部(21)能够与所述第一对接部(11)配合在一起；

弹性机构(3)，所述弹性机构(3)被配置为缓冲所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时的压力；

泄压机构(4)，所述泄压机构(4)被配置为将第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时产生的至少部分压力进行泄压。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述泄压机构(4)被配置为将第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时的至少部分压力泄压至，使所述弹性机构(3)缓冲时的弹性力小于所述清洁设备(2)在所述清洁基站(1)上的制动力。

3.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时，所述弹性机构(3)在第一行程内对所述第一对接部(11)、第二对接部(21)之间的撞击进行缓冲；在第二行程内，所述弹性机构(3)对所述第一对接部(11)、第二对接部(21)之间的撞击继续进行缓冲，所述泄压机构(4)对第一对接部(11)与第二对接部(21)之间的撞击进行泄压。

4.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，在所述第一行程内，所述弹性机构(3)缓冲时储存的弹性力F1小于20N，所述清洁设备(2)在所述清洁基站(1)上的制动力F2为20至60N。

5.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时，在所述弹性机构(3)对第一对接部(11)、第二对接部(21)开始缓冲的同时，所述泄压机构(4)开始对第一对接部(11)、第二对接部(21)进行泄压。

6.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站(1)包括基座(12)，以及导向配合在所述基座(12)上的滑动座(5)，所述第一对接部(11)固定在所述滑动座(5)上；所述弹性机构(3)、泄压机构(4)分别设置在所述滑动座(5)与所述基座(12)之间。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述弹性机构(3)为弹簧所述弹簧的两端分别与所述滑动座(5)、基座(12)连接。

8.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述泄压机构(4)固定在所述基座(12)上，所述泄压机构(4)的受压端头(41)在初始位置时与所述滑动座(5)抵接，或者与所述滑动座(5)之间具有间隙；或者是，

所述泄压机构(4)固定在所述滑动座(5)上，所述泄压机构(4)的受压端头(41)在初始位置时与所述基座(12)抵接，或者与所述基座(12)之间具有间隙。

9.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，所述泄压机构(4)为阻尼器。

10.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，所述泄压机构(4)被构造为在受到压力时往靠近所述基座(12)的方向运动，以对滑动座(5)与基座(12)之间的压力进行泄压。

11.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于：所述清洁设备(2)包括基座(12)，以及导向配合在所述基座(12)上的滑动座(5)，所述第二对接部(21)固定在所述滑动座(5)上；所述弹性机构(3)、泄压机构(4)分别设置在所述滑动座(5)与所述基座(12)之间。

12.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于：所述第一对接部(11)、第二对接部(21)为充电极片，所述清洁设备(2)被配置为在充电极片对接之后进行充电。

13.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站(1)被配置为用于容纳清洁设备(2)，包括：

第二对接部(21)，所述清洁设备(2)被配置为置于清洁基站(1)时，所述第二对接部(21)能够与清洁设备(2)上的第一对接部(11)配合在一起；

弹性机构(3)，所述弹性机构(3)被配置为缓冲所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时的压力；

泄压机构(4)，所述泄压机构(4)被配置为将第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时产生的至少部分压力进行泄压。

14.一种清洁设备，其特征在于，包括：

第二对接部(21)，所述清洁设备(2)被配置为置于清洁基站(1)时，所述第二对接部(21)能够与清洁基站(1)上的第一对接部(11)配合在一起；

弹性机构(3)，所述弹性机构(3)被配置为缓冲所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时的压力；

泄压机构(4)，所述泄压机构(4)被配置为对第一对接部(11)与第二对接部(21)对接产生的至少部分压力进行泄压。

15.一种对接装置，其特征在于，包括：

第一对接部(11)；

第二对接部(21)，所述第二对接部(21)被配置为在运动的过程中能够与所述第一对接部(11)配合在一起；

弹性机构(3)，所述弹性机构(3)被配置为缓冲所述第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时的压力；

泄压机构(4)，所述泄压机构(4)被配置为将第一对接部(11)与第二对接部(21)对接时产生的至少部分压力进行泄压。

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