CN115517594A - 清洁基站、清洁系统、清洁设备及对接机构 - Google Patents

Abstract

本公开涉及一种清洁基站、清洁系统、清洁设备及对接机构。其中所述清洁基站被配置为用于对接清洁设备，清洁基站包括基座；第一对接部，所述第一对接部用于与清洁基站上的第二对接部配合；所述第一对接部通过缓冲机构设置在所述基座上，所述缓冲机构被配置为用于缓冲第二对接部与第一对接部之间的撞击，所述第一对接部被构造为在受到第二对接部施加的偏转力时，在缓冲机构的作用下相对于所述基座发生偏转。在本公开的清洁基站的工作过程中能够有效缓冲撞击力并调节第一对接部和第二对接部之间的对接角度。保证了两个对接部之间的对正性，增加了第一对接部与第二对接部的接触面积，从而改善清洁设备的充电效果，提高使用安全性。

Description

清洁基站、清洁系统、清洁设备及对接机构

技术领域

本公开涉及清洁技术领域，尤其涉及一种清洁基站、清洁系统、清洁设备及对接机构。

背景技术

随着科技的进步以及生活水平的不断提高，人们对于清洁设备的需求日益增加，智能清洁设备越来越普遍，例如在商场、写字楼等商业环境中进行清洁的商用机器人等。清洁设备在与基站对接充电时，其充电状态会受制于清洁设备与基站之间实际相接触的对接面面积大小所影响。在清洁设备与基站对接的过程中，受限于清洁设备的对接精度、地面平整度等复杂因素，可能会造成清洁设备与基站对位不正，或者清洁设备与基站之间发生偏移，使清洁设备与基站对接后，二者充电极片的接触面积小，从而在充电时会造成对接面所在区域发热严重，甚至会造成清洁设备和基站损坏。

显然，现有的可自动充电的清洁设备，其对接面的面积具有不可控性的缺陷，存在安全隐患。因此亟需一种清洁设备，使其在对接时对接面的面积能够得到有效控制，提高使用安全性。

发明内容

本公开为了解决现有技术中存在的问题，提供了一种清洁基站、清洁系统、清洁设备及对接机构。

根据本公开的第一方面，提供了一种清洁基站，所述清洁基站被配置为用于对接清洁设备，包括：

基座；

第一对接部，所述第一对接部用于与所述清洁设备上的第二对接部配合；所述第一对接部通过缓冲机构设置在所述基座上，所述缓冲机构被配置为用于缓冲第二对接部与第一对接部之间的撞击，所述第一对接部被构造为在受到第二对接部施加的偏转力时，在缓冲机构的作用下相对于所述基座发生偏转。

在本公开的一个实施例中，所述缓冲机构包括至少一个缓冲件，所述缓冲件的一端连接在所述基座上，另一端连接在所述第一对接部上。

在本公开的一个实施例中，所述缓冲件设置有至少三个，至少三个所述缓冲件分布在所述基座与所述第一对接部之间。

在本公开的一个实施例中，所述缓冲件为弹簧或者由柔性材料制成。

在本公开的一个实施例中，还包括对接座，所述第一对接部设置在所述对接座上；所述缓冲件的一端连接在所述基座上，另一端连接在所述对接座上；所述第一对接部被构造为在受到第二对接部施加的偏转力时，所述对接座在缓冲机构的作用下相对于所述基座整体发生偏转。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部设置有至少两个，至少两个第一对接部在所述对接座的侧壁端面上间隔分布。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部、第二对接部被构造为延伸至所述对接座相对的两侧。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部的截面积大于所述缓冲机构的截面积。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部被配置为沿水平方向延伸至所述对接座相对的两侧。

在本公开的一个实施例中，所述第一对接部、第二对接部为充电极片；所述清洁设备被配置为在充电极片对接之后进行充电。

根据本公开的第二方面，还提供了一种清洁系统，包括：

清洁基站，所述清洁基站采用上述的清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备上设置有第二对接部。

在本公开的一个实施例中，所述第二对接部与第一对接部对接的过程中，缓冲机构产生的弹性力小于所述清洁设备在所述清洁基站上的制动力。

根据本公开的第三方面，还提供了一种清洁设备，包括：

基座；

第二对接部，所述清洁设备被配置为置于清洁基站时，所述第二对接部能够与清洁基站上的第一对接部配合在一起；所述第二对接部通过缓冲机构设置在所述基座上，所述缓冲机构被配置为用于缓冲第二对接部与第二对接部之间的撞击，所述第二对接部被构造为在受到第一对接部施加的偏转力时，在缓冲机构的作用下相对于所述基座发生偏转。

根据本公开的第四方面，还提供了一种对接机构，包括：

基座；

第一对接部，所述第一对接部用于与第二对接部配合；所述第一对接部通过缓冲机构设置在所述基座上，所述缓冲机构被配置为用于缓冲第二对接部与第一对接部之间的撞击，所述第一对接部被构造为在受到第二对接部施加的偏转力时，在缓冲机构的作用下相对于所述基座发生偏转。

本公开的一个有益效果在于，第一对接部通过缓冲机构设置在基座上，可以有效减轻第二对接部对第一对接部的撞击力度；即使清洁设备与清洁基站在对接时出现对位不正或者偏移一定角度等问题，通过缓冲机构可以使第一对接部发生与第二对接部相适应的偏移，保证了两个对接部之间的对正性，增加了第一对接部与第二对接部的接触面积。

通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且连同其说明一起用于解释本公开的原理。

图1是本公开一实施例提供的清洁基站和清洁设备的立体结构示意图；

图2是本公开一实施例提供的清洁基站部分结构的局部放大示意图；

图3是本公开一实施例提供的清洁基站的部分结构的立体示意图。

图1至图3中各组件名称和附图标记之间的一一对应关系如下：

1、基座；2、第一对接部；3、对接座；4、第二对接部；5、缓冲机构；51、缓冲件。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本公开的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

下面结合附图对本公开的具体实施方式进行描述。

在本文中，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等仅用于表示相关部分之间的相对位置关系，而非限定这些相关部分的绝对位置。

在本文中，“第一”、“第二”等仅用于彼此的区分，而非表示重要程度及顺序、以及互为存在的前提等。

在本文中，“相等”、“相同”等并非严格的数学和/或几何学意义上的限制，还包含本领域技术人员可以理解的且制造或使用等允许的误差。

本公开提供了一种清洁基站，用于放置清洁设备。该清洁设备可以是自移动清洁机器人、手持式洗地机等，可以通过自身移动的方式或者手动放置的方式与清洁基站配合对接在一起。清洁基站通常放置在固定的地点，清洁设备完成清洁工作后可以回到清洁基站中，清洁基站上可以集成对清洁设备进行充电、补水、清洗、烘干、集尘等功能。

本公开的清洁基站包括基座，第一对接部、缓冲机构。其中第一对接部通过缓冲机构浮动地设置在基座上，且被配置为与清洁设备上的第二对接部相配合对接。

当清洁设备行驶至与清洁基站相应的位置时，清洁设备上的第二对接部在运动过程中会与第一对接部接触并配合在一起。在对接的过程中，在清洁设备驱动力及惯性力的作用下，位于清洁设备上的第二对接部会与清洁基站上的第一对接部接触并挤压，缓冲机构可以缓冲第一对接部与第二对接部之间的撞击力。由于第一对接部通过缓冲机构设置在基座上，因此本公开的第一对接部具有多个运动的自由度。即使清洁设备与清洁基站在对接时出现对位不正或者偏移一定角度等问题，通过缓冲机构可以使第一对接部发生与第二对接部相适应的偏移，保证了两个对接部之间的对正性，增加了第一对接部与第二对接部的接触面积。

例如当第一对接部受到第二对接部施加的偏转力时，第一对接部会在缓冲机构的作用下相对于基座发生偏转，如此能够使第一对接部与第二对接部进一步贴合，提高了第一对接部和第二对接部之间的对正性，使两者之间的对接面面积在一定程度上增大，且使两者之间的对接关系保持稳定可靠。

在本公开一实施例中，第一对接部的截面积大于缓冲机构的截面积。通过增加第一对接部的面积，从而在一定程度上增加了第一对接部的对接冗余。如此在实际使用过程中，即便两者之间在对接时不可避免地出现偏移，也不会过多地影响到实际对接面积大小。另外，当第一对接部与第二对接部之间出现对位不正的情况时，也可以保证第一对接部和第二对接部之间的实际对接面积，由此可解决各因素所导致的实际对接面积过小的问题。

为了便于更好地理解，下面参照图1至图3，并结合两个实施例详细说明本公开的清洁基站的具体结构及其工作原理。

实施例一

参见图1，在本公开的清洁基站包括基座1、第一对接部2，以及缓冲机构5。清洁设备包括设置在其外壁上的第二对接部4。具体地，清洁基站被配置为用于对接清洁设备，其能使清洁设备稳定地被安置，避免清洁设备发生偏移。继续参见图1，当清洁设备安置在清洁基站上，第二对接部4与第一对接部2相接触。

详细地参见图2，第二对接部4设置在清洁设备上靠近清洁基站基座的壳体侧壁上。第一对接部2上在远离第二对接部4的一端，与缓冲机构5的一个端部固定连接。缓冲结构的另一个端部与清洁基站的基座1固定连接。

在本公开的一个具体的实施例中，第一对接部2、第二对接部4为充电极片。当清洁设备安置在清洁基站的情况下，清洁设备被配置为在第一对接部2的充电极片与第二对接部4的充电极片对接之后进行充电。也可以是，通过第一对接部与第二对接部之间的配合进行管路对接时，第一对接部与第二对接部则为管接头，对接之后例如可通过清洁基站对清洁设备进行补水，或者将清洁设备中的污水或者灰尘抽至清洁基站中进行储存，或者经清洁基站进行排放。对于本领域的技术人员而言，在上述公开的基础上，第一对接部与第二对接部还是其它需要配合使用的部件。

现以充电极片为例，对本公开第一对接部、第二对接部进行详细的描述。

在实际使用中，在清洁设备需要充电的情况下，可将清洁设备安置在清洁基站上。此时第一对接部2和第二对接部4相互接触，以实现对清洁设备进行充电。在第一对接部2与第二对接部4接触的过程中，由于清洁设备相对于清洁基站具有一定的运动势能，因此可通过缓冲结构来缓冲二者对接时的撞击力。当清洁设备因为误差或者其它原因，使第一对接部2与第二对接部4之间没有对正时，则第一对接部2会受到第二对接部4施加的偏转力，第一对接部2在该偏转力的作用下，会挤压缓冲机构向相应的方向发生一定的偏转，并使第一对接部2与第二对接部4正对贴合在一起，由此保证了第一对接部2与第二对接部4之间的接触面。

具体地参见图2，缓冲机构5的两个端部分别与第一对接部2和清洁基站的基座1相连接。其中，缓冲机构5为弹簧或具有一定柔性的材料制备而成，进而其具有一定的可压缩性，及可摆动的特性。如此缓冲机构5能够有效降低第二对接部4对第一对接部2的撞击力，进而使得第一对接部2在受到偏转力时，可相对于基座1发生偏转，提高了两者之间的对正性，增加了两者之间对接面的面积。

由于第一对接部2仅通过缓冲机构5设置在基座1上，缓冲机构5为无导向的机构，即缓冲机构5并不会限制第一对接部2的运动方向，这种无导向浮动可使缓冲机构5在任意角度上发生运动，其浮动方向取决于受到的外力方向，进而缓冲机构5具有自适应调节能力。因此无需考虑第二对接部4的撞击角度，缓冲机构5能够接收并缓冲任意角度的力，由此提高了第一对接部2和第二对接部4对接时的正向性，增加了两者对接面的面积。从而缓冲机构5能够维持第一对接部2和第二对接部4的对接面积稳定，避免由于接触面积过小，造成会导致充电时第一对接部2和第二对接部4过热等问题。

在本公开的一些实施例中,缓冲机构5包括至少一个缓冲件51。具体的参见图3，缓冲机构5上设置有四个缓冲件51。该缓冲件51的两端分别与基座1和第一对接部2相连接，该缓冲件51同样具备可压缩、摆动的特性。

在本公开的一个实施例中，继续参见图3，四个缓冲件51分布在基座1与第一对接部2之间。在本实施例中，基座1为具有弧边的矩形结构，此时，四个缓冲件51分别设置在该矩形结构的四个具有弧形边缘的角落处。第一对接部2通过四个缓冲件51设置在基座1上，可保证第一对接部2连接的稳定性，该结构可强化对第二对接部4的撞击力进行缓冲的效果。进一步降低了撞击对第一对接部2和第二对接部4之间正向性的影响。在本公开另一实施例中，四个缓冲件51被构造为呈环状分布在基座1与第一对接部2之间。

在实际使用过程中，当第一对接部2受到撞击后，该撞击力传导至缓冲件51后，还会继续传导至基座1上。缓冲件51通过其自身的缓冲性能使撞击力被大幅度降低，且由于缓冲件51具有一定的弯曲变形的能力，当缓冲件51受到外力后，会沿受力方向发生一定的弯曲形变。

在本公开的一些实施例中，第一对接部2的截面积大于缓冲机构5的截面积。如此在对接过程中，能够使缓冲机构5带动第二对接部4与基站之间发生相对的运动，从而提高第一对接部2和第二对接部4之间的正对性，增加两者之间对接面的面积，即使清洁设备与清洁基站在对接时出现对位不正或者偏移一定角度等问题，通过缓冲机构可以使第一对接部发生与第二对接部相适应的偏移，保证了两个对接部之间的对正性，增加了第一对接部与第二对接部的接触面积。

在本公开的一些实施例中，缓冲件51为柱体结构。

由于缓冲件51为柱体结构，以便于缓冲件51设置在清洁基站的基座1和第一对接部2之间。且柱体结构在一定程度上延长了基座1与第一对接部2之间的距离，从而加强了缓冲效果。例如缓冲件51设置为柱体结构，可提高其偏转性能。

当然缓冲件51还可以为其它具有一定尺寸的缓冲件51，只要能够实现其两端分别与清洁基站的基座1和第一对接部2相连接，能够在一定程度上缓解第二对接部4对第一对接部2的撞击力，并使得第一对接部2具有一定的偏转能力的基础上，本领域技术人员可根据实际需求进行选择设计，在此不做过多描述。

在本公开的一些实施例中，缓冲件51为由弹簧制备而成的弹簧缓冲件。

具体地，弹簧缓冲件基于自身的弹性性质，在受到外力后会沿随外力的大小发生压缩变形，从而以有效缓解降低该外力所具备的动能。

在实际使用过程中，当第二对接部4撞击第一对接部2时，撞击力会传导至缓冲机构5，进而弹簧缓冲件根据其自身受到的撞击力，自由压缩变形以降低该撞击力的动能。当第二对接部4以预定角度与第一对接部2对接时，第一对接部2会在弹簧缓冲件的作用下发生一定程度的偏转，如此实现了第一对接部2自适应调节的效果，提高了第一对接部2和第二对接部4之间的对正性。

在本公开的一些实施例中，缓冲件51为柔性材料而成。

柔性材料可以为具有柔性的橡胶、记忆海绵等，其在受到外力后，均会随其受到的外力在相应的方向上发生一定的形变。具体地柔性缓冲件与弹簧缓冲件的缓冲原理和效果较为相似，在此不做过多赘述。

需要说明的是，本公开的缓冲机构5其包括的缓冲件51数量并不仅局限于本实施例中所描述的四个缓冲件51。在满足缓冲件51的两端分别与第一对接部2和清洁基站的基座1相连接，且能够为第一对接部2提供撞击时缓冲、偏转功能的基础上，本领域技术人员基于实际需要选择适宜的个数即可。如可设置一个、两个、或者任意整数个的缓冲件51。

在本公开一个具体的实施方式中，第一对接部2通过对接座3与缓冲机构5相连接。

在本公开的一些实施例中，参见图3，清洁基站还包括对接座3，第一对接部2设置在对接座3上。具体的，对接座3的两侧分别与第一对接部2和缓冲机构5相连接。从而缓冲机构5在带动对接座3移动时，第一对接部2也会与对接座3保持同步运动。

进一步地，当缓冲机构5上设置有多个缓冲件51时，对接座3背向第一对接部2的端面与多个缓冲件51均固定连接。此时当第一对接部2受到撞击后，该撞击力经对接座3传导至缓冲机构5。

本公开的对接座3不但为两个第一对接部2提供了安装基础，还可以保证两个第一对接部2可以同步运动，通过设置对接座3有利于加强缓冲机构5的缓冲效果，进而有利于提高第一对接部2和第二对接部4之间的对正性，增加两者之间对接面的面积大小。

为了增加第一对接部2和第二对接部4之间的对接面的面积，可以扩大第一对接部2和第二对接部4自身的面积，以增加两者之间对接面的面积，提高两者之间的对正性。如此在实际对接过程中，即便第一对接部2和第二对接部4之间存在一定的偏转，导致其实际对接面积小于正对接时的对接面积，也不会由于充电触点面积大小以及弹性接触等因素出现第一对接部2和第二对接部4之间的接触问题。

在本公开的一些实施例中，至少有两个第一对接部2设置在对接座3的侧壁端面上，且第一对接部2间隔分布在对接座3的侧壁端面上。

具体地，参见图3本实施例中，在对接座3侧壁端面上的两侧间隔设置有两个第一对接部2。其中一个第一对接部2作为正极极片，另一个第一对接部2作为负极极片。在本公开的一些的实施例中，参见图3，第一对接部2、第二对接部4被构造为延伸至所述对接座3相对的两侧。第一对接部2被配置为沿水平方向延伸至对接座3相对的两侧。在本公开的另一实施例中，第一对接部2、第二对接部4被构造为呈条状结构。

继续参见图3，第一对接部2和第二对接部4，沿垂直于清洁基站的高度方向，间隔分布在对接座3侧壁端面上。且第一对接部2和第二对接部4沿水平方向延伸至对接座3相对的两侧。由此在对接座3面积大小不变的情况下，能够最大程度的扩大两者的面积，进而增加两者对接面的面积。两个第一对接部2沿水平方向延伸，使得第二对接部4以预定角度与第一对接部2对接时，可以保证相应的两个第二对接部4可以同时与相应的两个第一对接部2接触，并在对接座3发生相应的偏转后，保证每个第一对接部、每个第二对接部之间具有较大的接触面。

值得注意的是，第一对接部2和第二对接部4的形状不仅仅局限于条状，本领域技术人员可以根据实际需求进行选择设计。如为了使对接面的面积能够处于最大，可将第一对接部2和第二对接部4设置为与对接座3的大小形状相一致的形状。进一步还可以将其设置为略大于对接座3的形状，在此不做过多赘述。

除了上述清洁基站外，本公开还提供了一种清洁系统，该清洁系统包括清洁基站和清洁设备。清洁基站的具体结构以及具体原理，在上文中已进行详细描述，故在此不做过多赘述。下面参见图1和图3，结合一个实施例详细说明本公开的清洁系统的具体结构和原理。

在本公开的一个实施例中，参见图1，其中清洁基站为如上任意一个实施例中所描述的清洁基站。清洁设备上设置有第二对接部4。

在本公开的一些实施例中，清洁设备包括机身组件和地刷组件。在实际使用过程中，清洁设备安置在清洁基站上，至少部分地刷组件的底部与清洁基站的上表面相贴合，至少部分清洁设备的机身组件与清洁基站的部分侧壁相接触。

在本公开的一些实施例中，在第二对接部4与第一对接部2对接的过程中，缓冲机构5所产生的弹性力需小于清洁设备在清洁基站上的制动力。

具体地，当缓冲机构5受到外力后，通过其自身的弹性特性，会随其受到的外力的方向发生一定的压缩并将能量储存。若缓冲机构5储存的弹性力大于清洁设备在清洁基站上的制动力，会导致在弹性力的作用下，使清洁设备向远离清洁基站的方向推动，进而会导致第一对接部2和第二对接部4之间的接触面积变小，甚至分离的情况。

除了上述清洁基站和清洁系统以外，本公开还提供了一种清洁设备，该清洁设备包括基座1、第二对接部4。清洁设备被配置为当其置于清洁基站时，第二对接部4能够与清洁基站上的第一对接部2配合在一起。第二对接部4通过缓冲机构5设置在基座1上，缓冲机构5被配置为用于缓冲第二对接部4与第一对接部2之间的撞击，具体地第一对接部2被构造为在受到第二对接部4施加的偏转力时，在缓冲机构5的作用下相对于基座1发生偏转。

清洁设备、第二对接部4和第一对接部2的具体结构及作用原理，在上文中已进行详细描述，本文在此不做过多赘述。

除了上述清洁基站、清洁系统以及清洁设备以外，本公开还提供了一种对接机构。该对接机构除了能够应用在上述清洁系统中，还能够应用在其它需要对接的设备、系统中。

参见图2，对接机构包括基座1、第一对接部2。第一对接部2通过缓冲机构5设置在基座1上，在第一对接部2与第二对接部4配合对接时，缓冲机构5能够缓冲第二对接部4对第一对接部2之间的撞击。从而令第一对接部2在受到第二对接部4对其施加的偏转力后，能够在缓冲机构5的作用下相对于基座1发生偏转，从而提高了第一对接部2与第二对接部4之间的正对性。在本实施例中，基座1、第一对接部2、缓冲机构5的具体结构及作用原理，均已在上文中进行详细描述，在此不做过多赘述。

下面结合具体应用场景，对本公开采用的技术方案进行说明，以帮助理解。

应用场景一

以第一对接部2及第二对接部4为充电极片为例。当清洁设备经过长时间的工作需要进行充电时，清洁设备向清洁基站的位置移动并进行对接。

清洁设备在自身驱动力的作用下向清洁基站的方向移动，并使清洁设备上的充电极片与清洁设备上的充电极片对接。在对接的过程中，在清洁设备驱动力及惯性力的作用下，位于清洁设备上的第二对接部4会与清洁基站上的第一对接部2接触并挤压。第一对接部2受到挤压后，通过设置的具有无导向性浮动的缓冲机构5能够在有效缓冲该撞击力。并且基于缓冲机构5具有多个自由度的浮动角度，能够适应任意角度的撞击力。进而无论撞击力是以何种角度施加在第一对接部2上，第一对接部2便会向相应的方向发生偏转，从而使第一对接部2与第二对接部4具有较大的接触面，提高第一对接部2和第二对接部4之间的对正性，增加了两者之间对接面的面积，提高了对接的准确性。

由于本公开的缓冲机构5具有无导向性浮动的特性，进而可适用于多种需要缓冲对接的机器上，其具有宽泛的使用范围。

以上已经描述了本公开的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择，旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术改进，或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。本公开的范围由所附权利要求来限定。

Claims (14)

1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站被配置为用于对接清洁设备，包括：

基座(1)；

第一对接部(2)，所述第一对接部(2)用于与所述清洁设备上的第二对接部(4)配合；所述第一对接部(2)通过缓冲机构(5)设置在所述基座(1)上，所述缓冲机构(5)被配置为用于缓冲第二对接部(4)与第一对接部(2)之间的撞击，所述第一对接部(2)被构造为在受到第二对接部(4)施加的偏转力时，在缓冲机构(5)的作用下相对于所述基座(1)发生偏转。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述缓冲机构(5)包括至少一个缓冲件(51)，所述缓冲件(51)的一端连接在所述基座(1)上，另一端连接在所述第一对接部(2)上。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述缓冲件(51)设置有至少三个，至少三个所述缓冲件(51)分布在所述基座(1)与所述第一对接部(2)之间。

4.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述缓冲件(51)为弹簧或者由柔性材料制成。

5.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，还包括对接座(3)，所述第一对接部(2)设置在所述对接座(3)上；所述缓冲件(51)的一端连接在所述基座(1)上，另一端连接在所述对接座(3)上；所述第一对接部(2)被构造为在受到第二对接部(4)施加的偏转力时，所述对接座(3)在缓冲机构(5)的作用下相对于所述基座(1)整体发生偏转。

6.根据权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述第一对接部(2)设置有至少两个，至少两个第一对接部(2)在所述对接座(3)的侧壁端面上间隔分布。

7.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述第一对接部(2)、第二对接部(4)被构造为延伸至所述对接座(3)相对的两侧。

8.根据权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所述第一对接部(2)被配置为沿水平方向延伸至所述对接座(3)相对的两侧。

9.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述第一对接部(2)的截面积大于所述缓冲机构(5)的截面积。

10.根据权利要求1至9任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述第一对接部(2)、第二对接部(4)为充电极片；所述清洁设备被配置为在充电极片对接之后进行充电。

11.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站，所述清洁基站采用根据权利要求1至10任一项所述的清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备上设置有第二对接部(4)。

12.根据权利要求11所述的清洁系统，其特征在于，所述第二对接部(4)与第一对接部(2)对接的过程中，缓冲机构(5)产生的弹性力小于所述清洁设备在所述清洁基站上的制动力。

13.一种清洁设备，其特征在于，包括：

基座(1)；

第二对接部(4)，所述清洁设备被配置为置于清洁基站时，所述第二对接部(4)能够与清洁基站上的第一对接部(2)配合在一起；所述第二对接部(4)通过缓冲机构(5)设置在所述基座(1)上，所述缓冲机构(5)被配置为用于缓冲第二对接部(4)与第一对接部(2)之间的撞击，所述第一对接部(2)被构造为在受到第二对接部(4)施加的偏转力时，在缓冲机构(5)的作用下相对于所述基座(1)发生偏转。

14.一种对接机构，其特征在于，包括：

基座(1)；

第一对接部(2)，所述第一对接部(2)用于与第二对接部(4)配合；所述第一对接部(2)通过缓冲机构(5)设置在所述基座(1)上，所述缓冲机构(5)被配置为用于缓冲第二对接部(4)与第一对接部(2)之间的撞击，所述第一对接部(2)被构造为在受到第二对接部(4)施加的偏转力时，在缓冲机构(5)的作用下相对于所述基座(1)发生偏转。

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