CN218710892U - 一种全自动次氯酸钠反洗装置 - Google Patents

一种全自动次氯酸钠反洗装置 Download PDF

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赵浩东
孙财远
陈豪
黄光伦
陶进秋
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Abstract

本实用新型公开了一种全自动次氯酸钠反洗装置,包括:内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区和反洗液储存区两个独立空间的设备主体;药剂制配区和反洗液储存区之间经管道和药剂储存电磁阀可控连通,管道和药剂储存电磁阀位于药剂制配区底部;所述反洗液储存区两侧中部分别连通安装有药液回流口、出药口,出药口连接安装有反洗循环泵。回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢,解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题,避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。

Description

一种全自动次氯酸钠反洗装置
技术领域
本实用新型涉及一种全自动次氯酸钠反洗装置,属于污水处理设备技术领域。
背景技术
在电解槽电解制作次氯酸钠构成污水絮凝剂时,电解槽内部易附结上水中钙镁离子形成的水垢需要反洗液进行去除,而采用人工配药制成的反洗液浓度难以掌控,并且由于反洗液多呈酸性,具有一定腐蚀性,会对人体造成部分伤害。因此,需要机械设备替代人工来制作反洗液并通向电解槽中。
如中国专利公开号为CN112546952A的一种污水处理用反洗加药装置,公开采用的技术内容为:药物制造装置本体的下部固定连接有下部支撑杆,下部支撑杆下部的中部固定连接有电机,电机的上部安装有搅拌杆,药物制造装置本体下部一侧固定连接有处料管,处料管的下部固定连接有液体出料口;虽然,搅拌杆对药物制造装置本体内的药物和水体进行搅拌混合制成反洗液后通过液体出料口排到电解槽内对水垢进行反洗,但是,反洗液与水垢需要多次接触才能完全反应,存在反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题,导致需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应,增加了使用成本。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种全自动次氯酸钠反洗装置。
本实用新型通过以下技术方案得以实现。
本实用新型提供的一种全自动次氯酸钠反洗装置,包括:
内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区和反洗液储存区两个独立空间的设备主体;
药剂制配区和反洗液储存区之间经管道和药剂储存电磁阀可控连通,管道和药剂储存电磁阀位于药剂制配区底部;
所述反洗液储存区两侧中部分别连通安装有药液回流口、出药口,出药口连接安装有反洗循环泵。
所述反洗液储存区内有反洗液储存区液位计。
所述反洗液储存区侧边连通设有检修孔。
所述反洗液储存区侧边连通设有排污电动阀。
所述药剂制配区顶部安装有减速搅拌机,减速搅拌机旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片。
所述药剂制配区连通有药剂制配电磁阀,药剂制配区顶部设有反洗药剂投加口。
所述药剂制配电磁阀进口连通有水洗电磁阀一端,水洗电磁阀另一端管道连通在出药口上;所述药剂制配电磁阀前端安装有进水压力传感器。
所述药剂制配区内设有药剂制配区高液位计、药剂制配区低液位计。
所述设备主体底部安装有支撑脚;所述出药口出口上安装有防止液体回流的单向阀;所述反洗液储存区内部为上大下小的倾斜锥形容器体空间,倾斜度在45°~75°之间。
本实用新型的有益效果在于:在反洗液储存区内的反洗液经反洗循环泵从出药口进入电解槽,而后反洗液从电解槽出口排入药液回流口回流至反洗液储存区中,回流的反洗液所带的渣物质在内部倾斜锥形的反洗液储存区底部沉淀,沉淀后的反洗液再经反洗循环泵和出药口再次进入电解槽与水垢进行循环接触反应,直至完全除去水垢,回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢,解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题,避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图中:1-设备主体;2-支撑脚;3-出药剂制配区;4-反洗液储存区;5-减速搅拌机;7-反洗药剂投加口;8-药剂制配区高液位计;9- 药剂制配区低液位计;10-反洗液储存区液位计;11-药剂制配电磁阀; 12-药剂储存电磁阀;13-水洗电磁阀;14-排污电动阀;15-检修孔; 16-药液回流口;17-出药口。
具体实施方式
下面进一步描述本实用新型的技术方案,但要求保护的范围并不局限于所述。
如图1所示。
本申请的一种全自动次氯酸钠反洗装置,包括:
底部安装有支撑脚2进行支撑安装的设备主体1,设备主体1内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区3和反洗液储存区4两个独立空间,药剂制配区3用于药物和水进行混合制成反洗液,反洗液储存区4用于存储与电解槽内水垢反应后回流的反洗液;所述反洗液储存区4内部为上大下小的倾斜锥形容器体空间,倾斜度在45°~75°之间。
所述药剂制配区3和反洗液储存区4之间经管道和药剂储存电磁阀12可控连通,管道和药剂储存电磁阀12位于药剂制配区3底部,药剂制配区3内配置好的反洗液经药剂储存电磁阀12的控制流向反洗液储存区4内。
所述反洗液储存区4两侧中部分别连通安装有药液回流口16、出药口17,出药口17连接安装有反洗循环泵;在反洗液储存区4内的反洗液经反洗循环泵从出药口17进入电解槽,而后反洗液从电解槽出口排入药液回流口16回流至反洗液储存区4中,回流的反洗液所带的渣物质在内部倾斜锥形的反洗液储存区4底部沉淀,沉淀后的反洗液再经反洗循环泵和出药口17再次进入电解槽与水垢进行循环接触反应,直至完全除去水垢,回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢,解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题,避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。
所述反洗液储存区4内有反洗液储存区液位计10,反洗液储存区液位计10检测反洗液储存区4的液位并发出信号,通过药剂储存电磁阀12控制反洗液从药剂制配区3补充至反洗液储存区4中。
所述反洗液储存区4侧边连通设有检修孔15,通过检修孔15便于进入反洗液储存区4内部进行内部检修。
所述反洗液储存区4侧边连通设有排污电动阀14,通过排污电动阀14将回流反洗液中沉淀后的污物进行排出。
所述药剂制配区3顶部安装有减速搅拌机5,减速搅拌机5旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片,通过减速搅拌机5、搅拌杆及搅拌叶片对药剂制配区3内的反洗液配置进行自动搅拌混合制成。
所述药剂制配区3连通有药剂制配电磁阀11,药剂制配区3顶部设有反洗药剂投加口7,反洗药剂投加口7用于投加反洗药剂,药剂制配电磁阀11用于投加水体与反洗药剂进行混合。
所述药剂制配电磁阀11进口连通有水洗电磁阀13一端,水洗电磁阀13另一端管道连通在出药口17上,控制水洗电磁阀13对反洗液储存区4和电解槽内进行清水洗净。所述药剂制配电磁阀11前端安装有进水压力传感器,进水压力应为0.1MPa~0.4MPa之间。
所述出药口17出口上安装有防止液体回流的单向阀。
所述药剂制配区3内设有药剂制配区高液位计8、药剂制配区低液位计9,通过药剂制配区高液位计8、药剂制配区低液位计9对药剂制配区3内反洗液的液位进行检测,以此来达到保证药剂制配区3内反洗液量处于合理体积水准。
使用时,出药口17上的反洗循环泵出口与电解槽的反洗液进口连通,药液回流口16与电解槽的反洗液出口连通,各类电器件通电后,将用于配置反洗液的固体粉末药剂由反洗药剂投加口7加入到药剂制配区3内,关闭因药剂制配区低液位计9无感应而开启的低液位报警,同时药剂制配电磁阀11开启,减速搅拌机5开启,设备开始制药,在液位上升后被药剂制配区高液位计8感应到,药剂制配电磁阀11关闭,减速搅拌机5间歇转为间歇运行,药剂储存电磁阀12开启,配置好的反洗液药剂依据重力经药剂储存电磁阀12自流至反洗液储存区4,随水流上升被反洗液储存区液位计10感应,药剂储存电磁阀12关闭;
需反洗时,反洗循环泵开启,反洗药液自出药口17被反洗循环泵灌入次氯酸钠发生器的电解槽中,经电解槽流出的反洗液进入药液回流口16,在反洗液储存区4下部生成沉淀,上清液继续循环,在药洗结束后,排污电动阀14开启,水洗电磁阀13开启,反洗循环泵6关闭,电解槽经自来水洗净,排污电动阀14关闭,水洗电磁阀13关闭,反洗结束。
所述出药剂制配区3和反洗液储存区4的顶部均连通有管道来构成气压连通孔,出药剂制配区3的气压连通孔位于药剂制配区高液位计8上方处,反洗液储存区4的气压连通孔位于反洗液储存区液位计10 上方处。

Claims (10)

1.一种全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于,包括:
内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区(3)和反洗液储存区(4)两个独立空间的设备主体(1);
药剂制配区(3)和反洗液储存区(4)之间经管道和药剂储存电磁阀(12)可控连通,管道和药剂储存电磁阀(12)位于药剂制配区(3)底部;
所述反洗液储存区(4)两侧中部分别连通安装有药液回流口(16)、出药口(17),出药口(17)连接安装有反洗循环泵。
2.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述反洗液储存区(4)内有反洗液储存区液位计(10)。
3.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述反洗液储存区(4)侧边连通设有检修孔(15)。
4.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述反洗液储存区(4)侧边连通设有排污电动阀(14)。
5.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述药剂制配区(3)顶部安装有减速搅拌机(5),减速搅拌机(5)旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片。
6.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述药剂制配区(3)连通有药剂制配电磁阀(11),药剂制配区(3)顶部设有反洗药剂投加口(7)。
7.如权利要求6所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述药剂制配电磁阀(11)进口连通有水洗电磁阀(13)一端,水洗电磁阀(13)另一端管道连通在出药口(17)上;所述药剂制配电磁阀(11)前端安装有进水压力传感器。
8.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述药剂制配区(3)内设有药剂制配区高液位计(8)、药剂制配区低液位计(9)。
9.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述设备主体(1)底部安装有支撑脚(2);所述出药口(17)出口上安装有防止液体回流的单向阀;所述反洗液储存区(4)内部为上大下小的倾斜锥形容器体空间,倾斜度在45°~75°之间。
10.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置,其特征在于:所述出药剂制配区(3)和反洗液储存区(4)的顶部均连通有管道来构成气压连通孔,出药剂制配区(3)的气压连通孔位于药剂制配区高液位计(8)上方处,反洗液储存区(4)的气压连通孔位于反洗液储存区液位计(10)上方处。
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